本發(fā)明涉及一種用于物體的幾何測(cè)量的裝置，此物體特別是光學(xué)元件，例如透鏡。本發(fā)明還涉及對(duì)此類物體進(jìn)行幾何測(cè)量的一種對(duì)應(yīng)的方法以及計(jì)算機(jī)程序。

背景技術(shù)：

為了保證品質(zhì)及監(jiān)控工業(yè)制造過程，尤其是在精密儀器技術(shù)領(lǐng)域、光學(xué)系統(tǒng)以及機(jī)械和電子微結(jié)構(gòu)的制造過程中，對(duì)于工件或物體的高分辨率且精確的測(cè)量存在不斷提高的需求。

因此，由DE102011011065B4中已知一種用于測(cè)量一個(gè)安置于支座的物體的至少一個(gè)表面區(qū)域的裝置。該裝置具有一個(gè)可相對(duì)于該支座固定的基準(zhǔn)物體(Referenzobjekt)以及在至少第一方向上可相對(duì)于該基準(zhǔn)物體移動(dòng)的支架。在該支架上配置一個(gè)基準(zhǔn)物件以及一個(gè)間距傳感器，它們安置成可相對(duì)于彼此旋轉(zhuǎn)。其中，該間距檢測(cè)器形成為測(cè)定至該物體表面區(qū)域第一點(diǎn)的第一間距以及至該基準(zhǔn)物件與第一點(diǎn)對(duì)應(yīng)的第二點(diǎn)的第二間距。該間距檢測(cè)器因此具有一個(gè)面向該物體的第一間距傳感器和一個(gè)面向該基準(zhǔn)物件的第二間距傳感器。因此，它們完全相互反向取向。

利用上述裝置，能以高精確率且無接觸地以光學(xué)方式探測(cè)或掃描物體的表面。

然而，用上述裝置不能測(cè)量厚度，特別是不能測(cè)量一種設(shè)計(jì)成平面或彎曲的物體表面上的厚度分布或厚度輪廓分布，也不能測(cè)定透鏡的所謂楔形誤差(Keilfehler)。

本發(fā)明的目的是提供一種用于物體的幾何測(cè)量的裝置、方法以及計(jì)算機(jī)程序，其特別是可進(jìn)行物體的厚度測(cè)量及楔形誤差的測(cè)定，該物體通常是光學(xué)透鏡。該裝置可實(shí)現(xiàn)高精確度的物體測(cè)量。此外，該裝置的特征是盡可能緊湊且比較經(jīng)濟(jì)的結(jié)構(gòu)。

發(fā)明及優(yōu)選實(shí)施方案

此目的是通過權(quán)利要求1的裝置、權(quán)利要求11的方法以及權(quán)利要求15的計(jì)算機(jī)程序來實(shí)現(xiàn)。在此，優(yōu)選的實(shí)施方案分別是從屬權(quán)利要求的主題。

發(fā)明所提供的裝置配置為用于幾何測(cè)量一種安置于支座設(shè)備上的物體。該裝置特別適用于反射性物體(例如透鏡)的厚度測(cè)量及楔形誤差的測(cè)定。該裝置具有基座(Basis)和配置在基座上、用于安置物體的支座設(shè)備，以及至少一個(gè)基準(zhǔn)物體，基準(zhǔn)物體可相對(duì)于該支座設(shè)備或相對(duì)于該基座而固定或已固定。

該裝置還設(shè)有一個(gè)間距測(cè)量設(shè)備，借助于該間距測(cè)量設(shè)備可測(cè)定位置固定的基準(zhǔn)物體和該物體面向該基準(zhǔn)物體的表面之間的間距。借助于該間距測(cè)量設(shè)備，可測(cè)得該物體的相對(duì)于該基準(zhǔn)物體的表面外形。此外，該裝置具有一個(gè)物體支架(Objekthalter)，其具有上側(cè)和下側(cè)。待測(cè)量的物體可固定在該物體支架上。該物體支架因此可選擇性地以第一方位取向和第二方位取向配置在該支座設(shè)備上。

通常，該物體支架以其上側(cè)或以其下側(cè)安置在該支座設(shè)備上或固定在該支座設(shè)備上。上側(cè)和下側(cè)中背離支座設(shè)備的一側(cè)面向間距測(cè)量設(shè)備，從而使得配屬于該物體支架上側(cè)或下側(cè)的物體的表面在該物體支架的相關(guān)方位取向中可借助于該間距測(cè)量設(shè)備來掃描。

掃描在此處的意義是：指待測(cè)量的物體面向該間距測(cè)量設(shè)備的表面的二維點(diǎn)方式的探測(cè)。為掃描物體的表面，該間距測(cè)量設(shè)備和該物體支架可相對(duì)地彼此移動(dòng)。該物體支架在其上側(cè)和其下側(cè)分別具有一種與該物體支架和該間距測(cè)量設(shè)備的相對(duì)移動(dòng)對(duì)應(yīng)的基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)(Referenzstruktur)。

通過將物體固定在物體支架上，則物體也以其通常相對(duì)反向設(shè)置且互相背離的表面相對(duì)于物體支架的基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)而被固定。例如在掃描該物體朝向該上側(cè)的表面時(shí)，通常設(shè)置在物體支架上側(cè)的上方基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)可均勻地受到掃描。同樣情況亦適用于該物體相對(duì)反向設(shè)置的表面及因此而設(shè)置在物體支架下側(cè)的下方基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)。

借助于形成在物體支架上的基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)，該物體相對(duì)反向設(shè)置的表面可受到掃描，物體相對(duì)反向設(shè)置的表面通常的形式是彼此為上側(cè)和下側(cè)且可分別與物體支架側(cè)的基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)一起受到掃描。因此，在這樣所形成的表面圖像中，固然包含有配屬于相關(guān)表面的基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)的至少一部分。該基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)在所掃描表面的圖像中可辨認(rèn)出來。該物體相對(duì)反向設(shè)置的表面依順序先后進(jìn)行的掃描過程,以及這樣所產(chǎn)生的表面圖像，均可借助于分別形成在物體支架的上側(cè)和下側(cè)的基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)而互相關(guān)聯(lián)。

特別是，物體相對(duì)反向設(shè)置表面依序測(cè)得的表面圖像的位置和相互間的取向可以此方式通過計(jì)算互相配屬，并且互相關(guān)聯(lián)以用于該物體的虛擬三維模擬(virtuellendreidimensionalenNachbildung)。該物體相對(duì)反向設(shè)置表面圖像的至少虛擬的配屬(Zuordnung)使該物體的外形測(cè)量及厚度測(cè)定變得可能。此外，借助于設(shè)有至少兩個(gè)基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)的物體支架，也可精確地測(cè)得該物體的楔形誤差。

該間距測(cè)量設(shè)備通常形成為光學(xué)的、且因此無接觸式的間距測(cè)量設(shè)備。然而，本發(fā)明不限于光學(xué)掃描方法。因此，該間距測(cè)量設(shè)備也可構(gòu)成為接觸式(Taktile)掃描設(shè)備。

物體表面的掃描能以多種不同的方式來進(jìn)行?？稍O(shè)想的是，該物體相對(duì)于基準(zhǔn)物體保持靜止，而該間距測(cè)量設(shè)備相對(duì)于該物體或相對(duì)于該支座設(shè)備進(jìn)行一種對(duì)應(yīng)于物體的幾何形式或表面外形的至少二維或甚至三維的掃描移動(dòng)。當(dāng)然反之亦可，即該間距測(cè)量設(shè)備對(duì)于該基準(zhǔn)物體保持靜止，而該間距測(cè)量設(shè)備和該物體的相對(duì)移動(dòng)只通過該物體支架相對(duì)于該間距測(cè)量設(shè)備的適當(dāng)移動(dòng)而實(shí)現(xiàn)。裝置技術(shù)和測(cè)量技術(shù)當(dāng)然有利的是一種組合式的構(gòu)成，其中該間距測(cè)量設(shè)備和該物體相對(duì)于該基準(zhǔn)物體都經(jīng)歷一種確定的移動(dòng)。

依據(jù)本發(fā)明的一個(gè)擴(kuò)展，在物體的容納區(qū)外部，物體支架在其上側(cè)具有一個(gè)上方基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)，同樣，在物體的容納區(qū)外部，該物體支架在其下側(cè)具有一個(gè)下方基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)。物體的容納區(qū)可具有一個(gè)通孔其中可拆卸地配置有例如以光學(xué)透鏡形式構(gòu)成的物體。在容納區(qū)內(nèi)部或在容納區(qū)上，物體通常以上側(cè)對(duì)準(zhǔn)物體支架的上側(cè)。此外，物體以一個(gè)下側(cè)與物體支架的下側(cè)對(duì)準(zhǔn)，且物體因此配置在物體支架上。以此方式，該物體的上側(cè)可與上方基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)一起被掃描且測(cè)得其外形。同樣，這亦適用于物體的下側(cè)及配屬于物體下側(cè)的下方基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)。

依據(jù)另一個(gè)實(shí)施方案，上方基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)可與物體設(shè)在物體支架上側(cè)的表面一起掃描，且下方基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)可與物體設(shè)在物體支架下側(cè)的表面一起掃描。物體上側(cè)和物體下側(cè)可分別在物體支架在該支座設(shè)備上定方位取向后與各自的上方或下方基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)一起掃描。

上方或下方基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)與物體的上側(cè)或下側(cè)一起掃描未必表示一種同時(shí)的掃描。很可能的是，在一個(gè)或同一個(gè)掃描過程中，首先例如掃描上方基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)，然后掃描該物體配屬于該基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)上側(cè)的表面。隨后，在下一步驟中，使該物體支架由第一方位取向轉(zhuǎn)移至第二方位取向，然后，在下一掃描過程中，同樣，以同樣時(shí)間或依序地掃描對(duì)應(yīng)的下方基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)和物體的下側(cè)。由于在掃描基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)和其所對(duì)應(yīng)的物體表面之間不進(jìn)行該物體支架的轉(zhuǎn)向，因此，這樣所獲得的表面圖像總是關(guān)聯(lián)相關(guān)的基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)。

由于兩個(gè)基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)相互間的關(guān)系為已知，或可通過校準(zhǔn)而測(cè)得，因此，借助于物體上方和下方的表面圖像中對(duì)應(yīng)于上方和下方基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)的區(qū)域的配屬，可進(jìn)行物體相對(duì)反向設(shè)置表面圖像的相互間的精確配屬。由此種配屬，可測(cè)定物體的各種不同的幾何尺寸大小及特性，例如，物體的厚度、厚度輪廓及楔形誤差。

依據(jù)另一個(gè)實(shí)施方案，該裝置具有一個(gè)控制設(shè)備，借助于該控制設(shè)備，物體彼此相對(duì)反向設(shè)置于物體支座上側(cè)和下側(cè)的、并借助于間距測(cè)量設(shè)備來掃描的表面，可借助于與物體表面一起掃描的上方和下方基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)而互相配置。

控制設(shè)備特別是以計(jì)算機(jī)實(shí)施方式構(gòu)成。該控制設(shè)備可控制該間距測(cè)量設(shè)備和待測(cè)量的物體之間的相對(duì)移動(dòng)，因此控制了物體表面的掃描。此外，該控制設(shè)備能以電子方式來處理可借助間距測(cè)量設(shè)備測(cè)得的表面圖像，且通過辨認(rèn)這樣所獲得的表面圖像中的基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)，也可確定表面圖像相互間的配置及由此所導(dǎo)出的數(shù)據(jù)和幾何參數(shù)。

借助于該控制設(shè)備，該測(cè)量方法幾乎可完全自動(dòng)運(yùn)行和/或以程序控制來運(yùn)行。

依據(jù)另一個(gè)實(shí)施方案，該物體支架在其上側(cè)和下側(cè)之間具有一個(gè)可由外部接近的外部基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)。該外部基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)像上方和下方基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)一樣，優(yōu)選對(duì)應(yīng)于該物體支架和該間距測(cè)量設(shè)備之間所設(shè)定的相對(duì)移動(dòng)而延伸。當(dāng)利用設(shè)置在上側(cè)和下側(cè)的上方和下方基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)，就至該間距測(cè)量設(shè)備的間距而言來確定物體支架上所配置物體的基準(zhǔn)(Referenzierung)時(shí)，考慮到該物體支架和該間距測(cè)量設(shè)備在掃描過程期間的相對(duì)移動(dòng),借助于該外部基準(zhǔn)結(jié)構(gòu),可提供另一個(gè)基準(zhǔn)。

在測(cè)量一種可旋轉(zhuǎn)地安置于支座設(shè)備上的物體時(shí)，上述借助于該外部基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)而確定基準(zhǔn)意義重大，特別是對(duì)于非旋轉(zhuǎn)對(duì)稱的物體意義重大。因此，特別是虛擬的表面圖像的橫向位移，即，在掃描時(shí)垂直于可旋轉(zhuǎn)物體旋轉(zhuǎn)軸線的位移，可受到補(bǔ)償。

依據(jù)另一個(gè)實(shí)施方案，相對(duì)于基準(zhǔn)物體和該支座設(shè)備中的至少一個(gè)，該間距測(cè)量設(shè)備在一個(gè)平面(X，Z)中移動(dòng)。此平面通常形成測(cè)量面，在測(cè)量面中，該間距測(cè)量設(shè)備相對(duì)于支座設(shè)備且因此亦相對(duì)于物體而移動(dòng)，且亦相對(duì)于至少一個(gè)位置固定的基準(zhǔn)物體而移動(dòng)。通常，兩個(gè)基準(zhǔn)物體可互相隔開一段間距設(shè)置，借此可在該平面中相對(duì)于兩個(gè)互相固定的基準(zhǔn)物體來測(cè)定間距測(cè)量設(shè)備的位置。對(duì)應(yīng)于待測(cè)量物體具體的幾何構(gòu)造，也可設(shè)想該間距測(cè)量設(shè)備相對(duì)于該基準(zhǔn)物體或相對(duì)于該支座設(shè)備進(jìn)行一種只有一維(大致上是平移)的移動(dòng)。

該間距測(cè)量設(shè)備在平面中的移動(dòng)給予了該裝置一種高范圍的靈活性。該間距測(cè)量設(shè)備的二維移動(dòng)可廣泛地且多方面地使用于不同物體的幾何測(cè)量。

依據(jù)另一個(gè)實(shí)施方案，該物體支架可旋轉(zhuǎn)地安置于支座設(shè)備上。其中，物體支架的旋轉(zhuǎn)軸線通常位于該間距測(cè)量設(shè)備的測(cè)量面中或平行于該測(cè)量面而延伸。就測(cè)量技術(shù)考慮，物體支架可旋轉(zhuǎn)地配置于支座設(shè)備特別有利于測(cè)量旋轉(zhuǎn)對(duì)稱的物體。在該物體的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)期間，支座設(shè)備上可旋轉(zhuǎn)的物體可徑向地由外向內(nèi)或由內(nèi)向外受到該間距測(cè)量設(shè)備的探測(cè)或無接觸式掃描。

此外，依據(jù)另一個(gè)或替代實(shí)施方案，還可設(shè)想的是，物體支架可線性平移地安置于該支座設(shè)備上。該物體支架的平移式移動(dòng)在此通常垂直于該間距測(cè)量設(shè)備的測(cè)量面或與該測(cè)量面成一個(gè)預(yù)設(shè)的角度而延伸。物體于支座設(shè)備上的此種平移配置特別有利于圓柱形對(duì)稱物體(例如，圓柱透鏡)的步進(jìn)式掃描或探測(cè)。此處，可特別設(shè)置的是：將待測(cè)量的物體的縱軸線對(duì)準(zhǔn)該支座設(shè)備的平移軸線的方向，且因此將該物體對(duì)應(yīng)地配置在該物體支架上。

依據(jù)另一個(gè)實(shí)施方案，該間距測(cè)量設(shè)備具有一個(gè)可相對(duì)于該基準(zhǔn)物體而移動(dòng)的支架，支架上配置有一個(gè)基準(zhǔn)物件、一個(gè)第一間距傳感器和一個(gè)第二間距傳感器。在此，第一和第二間距傳感器可相對(duì)于該基準(zhǔn)物件可旋轉(zhuǎn)地安置。所述間距傳感器的可旋轉(zhuǎn)配置特別是就待測(cè)量的物體表面來設(shè)定正交條件時(shí)是有利的。

特別是為了精確地測(cè)得該間距測(cè)量設(shè)備或其一個(gè)間距傳感器和該物體的待測(cè)量的表面之間的間距，則相關(guān)的傳感器基本上須正交地對(duì)準(zhǔn)待測(cè)量的表面,且此種對(duì)準(zhǔn)須對(duì)應(yīng)于待測(cè)量的物體的外形來調(diào)整。就此種調(diào)整而言，須進(jìn)行該傳感器的平移式移動(dòng)及旋轉(zhuǎn)式移動(dòng)。當(dāng)間距傳感器在空間中相對(duì)于至少一個(gè)基準(zhǔn)物體的平移式移動(dòng)和位置可借助于至少另一個(gè)配置在支架上且對(duì)準(zhǔn)該基準(zhǔn)物體的間距傳感器以足夠高的準(zhǔn)確度無問題地測(cè)得時(shí)，則該傳感器的旋轉(zhuǎn)或傾斜就測(cè)量技術(shù)觀點(diǎn)而言已顯示是有問題的。

雖然該間距傳感器處于可動(dòng)的配置，但配置在可移動(dòng)的支架上的基準(zhǔn)物件的設(shè)置對(duì)于精確的間距測(cè)定而言已顯示是非常有利的，就像DE 10 2011 011 065 B4中所述的那樣。

通常，第一和第二間距傳感器互相固定地配置。第一間距傳感器在該裝置操作時(shí)，定向?qū)?zhǔn)于該物體的待測(cè)量的表面，而第二間距傳感器通常正好相反朝向該基準(zhǔn)物件。該基準(zhǔn)物件具有一個(gè)基準(zhǔn)面，基準(zhǔn)面對(duì)應(yīng)于兩個(gè)間距傳感器的旋轉(zhuǎn)移動(dòng)且在系統(tǒng)中廣泛地為人所知或借助于校準(zhǔn)而測(cè)得，以便借助于兩個(gè)反向設(shè)置定向的第一和第二間距傳感器可測(cè)定該物體的待測(cè)量的表面上一個(gè)選取的點(diǎn)相對(duì)于測(cè)量設(shè)備的支架的基準(zhǔn)物件的間距。

就其在空間中相對(duì)于至少一個(gè)基準(zhǔn)物體的位置而言，支架本身借助于至少已提到的另一個(gè)間距傳感器確定基準(zhǔn)。它關(guān)于至少一個(gè)或多個(gè)基準(zhǔn)物體的位置可精確地借助于一個(gè)或多個(gè)增設(shè)的間距傳感器來測(cè)定。

該支架的基準(zhǔn)物件的基準(zhǔn)面可例如形成為凹面鏡，其具有基本上為圓形區(qū)段的幾何形式。在此，該凹面鏡的中點(diǎn)通常能與該間距測(cè)量設(shè)備的旋轉(zhuǎn)軸線重合，即與第一和第二間距傳感器的共同的旋轉(zhuǎn)軸線重合。

依據(jù)另一個(gè)實(shí)施方案，至少一個(gè)形成為第三間距傳感器的基準(zhǔn)傳感器是在該支架上，借此可測(cè)定該支架相對(duì)于該基準(zhǔn)物體的間距或方位取向。該基準(zhǔn)物體因此具有一種對(duì)應(yīng)于該間距傳感器的通常具反射性的基準(zhǔn)面。

借助于該間距測(cè)量設(shè)備，可測(cè)定該物體待測(cè)量表面的各個(gè)點(diǎn)或多個(gè)點(diǎn)相對(duì)于該裝置或該間距測(cè)量設(shè)備的支架的基準(zhǔn)物件的間距。借助于至少一個(gè)基準(zhǔn)傳感器，另一個(gè)同樣形成為間距傳感器的第二基準(zhǔn)傳感器可精確地測(cè)定該支架相對(duì)于至少一個(gè)或多個(gè)基準(zhǔn)物體的位置或方位取向。

該間距傳感器或基準(zhǔn)傳感器通常與不同波長(zhǎng)的多個(gè)光源相聯(lián)接，以借助于多波長(zhǎng)測(cè)量原理來測(cè)定至該物體或至該基準(zhǔn)物件或基準(zhǔn)物體的間距。此種外差式(Heterodyn-)測(cè)量方法可實(shí)現(xiàn)一種解析度在納米或次納米范圍內(nèi)的高分辨率的間距測(cè)量，且另外可提供一種測(cè)量結(jié)果的直至毫米范圍的單值范圍。光源優(yōu)選廣泛的單色激光，其波長(zhǎng)位于1520和1630納米之間的范圍中。所使用的激光波長(zhǎng)通常是在光學(xué)電信頻譜的S帶，C帶或L帶中。然而，原則上還可設(shè)想的是所述波長(zhǎng)在可見光和/或紫外頻譜的范圍中。

原則上，本發(fā)明亦可制作成用于只以一種波長(zhǎng)來操作的間距測(cè)量設(shè)備。然而，借助于多波長(zhǎng)測(cè)量方法，顯然可使所接收的信號(hào)的單值范圍擴(kuò)大。物體表面反射光束的各相或相位(Phase oderPhasenlage)依波長(zhǎng)而選擇性地被檢測(cè)出來，且在電子求值過程中進(jìn)行處理以測(cè)定間距。

此外，間距傳感器能以光纖光學(xué)的方式與相關(guān)的光源聯(lián)接。與環(huán)境有關(guān)的可能的干擾影響可以此方式被限制成最小。

依據(jù)另一方面，本發(fā)明還涉及一種借助于前述裝置對(duì)物體進(jìn)行幾何測(cè)量的方法。在第一步驟中，其中設(shè)有待測(cè)量物體的物體支架以第一方位取向配置在該測(cè)量裝置的支座設(shè)備上。然后，在下一步驟中，借助于該間距測(cè)量設(shè)備來掃描該物體的第一表面及該物體支架通常面向該間距測(cè)量設(shè)備的上方基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)，以產(chǎn)生該物體及所屬的基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)的第一表面圖像。

隨后，該物體支架以通常為相反的第二方位取向配置在該支座設(shè)備上，然后，以對(duì)應(yīng)的方式，借助于該間距測(cè)量設(shè)備來掃描該物體的第二表面(其與第一表面相對(duì)地配置)及該物體支架遠(yuǎn)離該上方基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)的下方基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)，以產(chǎn)生第二表面圖像。

然后，根據(jù)第一和第二表面圖像中該上方和下方基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)，可在下一步驟中使第一和第二表面圖像配屬于對(duì)應(yīng)的表面圖像中所含有的各測(cè)量值，各測(cè)量值表示物體的各個(gè)表面。由此種配置可測(cè)定所測(cè)量的物體的多個(gè)幾何參數(shù)。特別是厚度、該物體表面上的厚度輪廓，以及該物體的楔形誤差因此都可精確地測(cè)得及測(cè)定。

依據(jù)此處所述方法的另一個(gè)擴(kuò)展，在時(shí)間上依序分別以該間距測(cè)量設(shè)備來掃描該物體之第一和第二表面之一及分別所屬的基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)。依序探測(cè)，例如對(duì)上方基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)的依序探測(cè)，以及對(duì)物體的上側(cè)緊接著的掃描，可以用一個(gè)且同一個(gè)間距測(cè)量設(shè)備來進(jìn)行，使得進(jìn)行此方法及實(shí)施該裝置所需的設(shè)備上的耗費(fèi)可下降至最少。

然而，原則上還可設(shè)想的是，掃描該物體的表面在時(shí)間上亦可與掃描該物體支架所屬的基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)同時(shí)進(jìn)行。因此，當(dāng)然須確保，對(duì)應(yīng)的間距傳感器及其信號(hào)互相保持在已知的固定的關(guān)系中。

依據(jù)另一個(gè)擴(kuò)展，其設(shè)置方式為，至少上方和下方基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)之一或該物體的至少一個(gè)表面與該物體支架的一個(gè)外部基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)一起掃描。該外部基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)位于該物體支架的外部邊緣上或外側(cè)上。此種方法特別是在非旋轉(zhuǎn)對(duì)稱的物體中是重要的。此外，借此可補(bǔ)償依序在不同方位取向中測(cè)量的表面圖像中可能存在的橫向偏移。這樣，也可有利地降低將物體絕對(duì)精確且對(duì)中配置在支座設(shè)備的旋轉(zhuǎn)軸線上的要求。

依據(jù)該方法的另一個(gè)實(shí)施方案，對(duì)至少一個(gè)基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)和物體的至少一個(gè)表面的掃描是以相同的間距測(cè)量設(shè)備來進(jìn)行。以此方式，則只須借助于唯一的間距測(cè)量設(shè)備即可精確地測(cè)量該基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)及物體各個(gè)配屬于該基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)的表面，該唯一的間距測(cè)量設(shè)備通常使用已經(jīng)描述的兩個(gè)反向取向的間距傳感器。因此，設(shè)備上的耗費(fèi)可保持在一個(gè)限度內(nèi)。

依據(jù)該方法的另一個(gè)實(shí)施方案，由該物體第一和第二表面圖像的相互配置，至少可測(cè)得該物體的厚度和/或該物體的楔形誤差。厚度和/或楔形誤差的測(cè)得通常是以計(jì)算機(jī)輔助來實(shí)現(xiàn)。第一和第二表面圖像的配置依據(jù)各個(gè)表面圖像所容納的基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)來實(shí)現(xiàn)，基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)的相互間的位置是已知的，或其相互間的位置借助于該裝置開始運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)進(jìn)行的校準(zhǔn)來測(cè)定。

此外，須說明的是，本文開頭描述的裝置是為進(jìn)行此處所述的方法而設(shè)置和使用的。就此而言，整體上存在于該裝置的特征和優(yōu)點(diǎn)也同樣適用于該方法；且反之亦然.

依據(jù)另一個(gè)方面，本發(fā)明另外涉及一種計(jì)算機(jī)程序，其通常在已經(jīng)描述的裝置的控制設(shè)備中運(yùn)行。該計(jì)算機(jī)程序以前述用于測(cè)量此類物體的裝置為基礎(chǔ)以對(duì)該物體進(jìn)行幾何測(cè)量。

該計(jì)算機(jī)程序具有程序工具，用于掃描該物體的第一表面，且用于掃描一種以第一方位取向配置于該支座設(shè)備的物體支架的上方基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)。該程序工具另外也用于產(chǎn)生該物體的第一表面圖像。

同樣，該程序工具也用于掃描該物體之第二表面且用于掃描一種以第二方位取向配置于該支座設(shè)備的物體支架的下方基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)。該程序工具另外也用于產(chǎn)生該物體的第二表面圖像。該第二表面圖像反映出待測(cè)量的物體的遠(yuǎn)離第一表面圖像的表面。

此外，計(jì)算機(jī)程序支配該程序工具，以依據(jù)上方和下方基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)來配置第一和第二表面圖像。計(jì)算機(jī)程序特別是構(gòu)成為用于辨認(rèn)所測(cè)量的表面圖像內(nèi)的上方和下方基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)，且至少虛擬地依據(jù)彼此處于一個(gè)固定且已知的關(guān)系中的基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)使表面圖像重疊。由這樣的重疊，可以高分辨率重構(gòu)物體的表面和體積，由此可測(cè)定物體表面上的厚度輪廓以及物體的楔形誤差。

此處另外須說明的是，計(jì)算機(jī)程序特別適用于借助于同樣是先前所述的裝置來進(jìn)行前述方法，且因此分別地形成。該計(jì)算機(jī)程序通常是在該裝置的控制設(shè)備中實(shí)施，且因此可由該控制設(shè)備執(zhí)行。該計(jì)算機(jī)程序不只可用于借由該間距測(cè)量設(shè)備所測(cè)得的表面圖像的取值，還可自動(dòng)地控制掃描過程以產(chǎn)生該物體的表面圖像。

另外須說明的是，整體上基于該裝置和該方法的所述特征和優(yōu)點(diǎn)同樣也適用于此處所述的計(jì)算機(jī)程序；且反之亦然。

附圖說明

其它目的、特征及有利的應(yīng)用可能性將根據(jù)實(shí)施例的下面描述參照附圖來闡述。

圖1示出用于物體的幾何測(cè)量的裝置的透視圖，

圖2示出圖1的裝置的側(cè)視圖，

圖3示出間距測(cè)量設(shè)備的基本測(cè)量原理的示意圖，

圖4示出間距測(cè)量設(shè)備、支座設(shè)備和物體支架的相互配置的大致詳細(xì)圖，

圖5示出該物體支架的透視圖，

圖5示出圖5的物體支架的另一個(gè)透視圖，其具有配置于其上的物體支座；和

圖7示出該物體支架的橫截面，其具有配置于其上的透鏡，

圖8示出該裝置在測(cè)得第一表面圖像時(shí)的示意圖，

圖9示出第一表面圖像的示意圖，

圖10示出該裝置在測(cè)得第二表面圖像時(shí)的示意圖，

圖11示出與圖10的構(gòu)造對(duì)應(yīng)的第二表面圖像，

圖12示出圖9和圖11所示的表面圖像的重疊，但以第二表面圖像垂直地反映出，

圖13示出以真實(shí)的楔形誤差來測(cè)量透鏡時(shí)該裝置的另一個(gè)示意圖，

圖14示出圖13的構(gòu)造中所測(cè)量的透鏡的第一表面圖像。

圖15示出圖13的構(gòu)造的圖，但具有以另一個(gè)方位取向安置在該支座設(shè)備上的物體支架。

圖16示出對(duì)應(yīng)于圖15的構(gòu)造的表面圖像。

圖17是在圖中所示的兩個(gè)表面圖像的重疊示意圖，用于測(cè)得透鏡的楔形誤差。

圖18示出用于物體的幾何測(cè)量的方法的流程圖。

具體實(shí)施方式

圖1至圖3以不同的圖示出測(cè)量裝置10，該裝置10具有兩個(gè)位置固定的、且互相固定、互相正交地對(duì)準(zhǔn)的基準(zhǔn)物體18，20，其中該基準(zhǔn)物體18基本上在第一方向(x)中延伸，而第二基準(zhǔn)物體20在與第一方向垂直的方向(z)中延伸。在該兩個(gè)基準(zhǔn)物體18，20上設(shè)有單個(gè)的基準(zhǔn)面22，24，其通常形成為鏡面或反射面。

該裝置10另外具有一個(gè)可旋轉(zhuǎn)安置的支座設(shè)備12，其上可配置有且可固定有一個(gè)待測(cè)量的物體14，例如，光學(xué)元件，大致上是透鏡14。物體支座12及此處可拆卸固定的物體支架100可旋轉(zhuǎn)地圍繞著旋轉(zhuǎn)軸線16安置。此外，該測(cè)量裝置10具有一個(gè)可在稱為測(cè)量面的x-z面中移動(dòng)的支架26，其在基座11上相對(duì)于測(cè)量面(x,z)而移動(dòng)。

該測(cè)量裝置10具有一個(gè)基座11及固定在基座11上的框架204，該框架跨過配置在該基座上的支座設(shè)備12，且為在基座11上可移動(dòng)且可調(diào)整地配置的間距測(cè)量設(shè)備70限定了一個(gè)測(cè)量面(x,z)。該框架204具有兩個(gè)側(cè)面支腿205，206，并在該支座設(shè)備12上方具有在側(cè)面支腿205、206之間延伸的連接梁208。在該連接梁208的下側(cè)配置有一個(gè)基準(zhǔn)物體18，而在向上突出的支腿205上配置有第二基準(zhǔn)物體20。借助于框架204，基準(zhǔn)物體18，20位置固定地配置在基座11上。

支架26具有此處未詳細(xì)說明的基板，其上配置有一個(gè)基準(zhǔn)物件28及一個(gè)軸承32以便可旋轉(zhuǎn)地配置兩個(gè)間距傳感器34，36。該基準(zhǔn)物件28具有一個(gè)面向間距傳感器34，36的鏡面或基準(zhǔn)面30，其當(dāng)前大致上是依據(jù)圓柱形內(nèi)壁的形式而形成。該鏡面或基準(zhǔn)面優(yōu)選的是形成為凹面鏡。該基準(zhǔn)面30的外形需經(jīng)精密測(cè)量以用于校準(zhǔn)測(cè)量裝置100。該外形和基準(zhǔn)面30上的各個(gè)待掃描點(diǎn)44就其位置而言是已知的，并存儲(chǔ)在該控制設(shè)備60的求值單元中。

基準(zhǔn)物件28在支架26上的配置通過水平延伸的懸臂26a實(shí)現(xiàn)，而該間距測(cè)量設(shè)備70在支架26上的配置通過與此平行延伸的另一個(gè)呈可旋轉(zhuǎn)配置在基座11上的懸臂26b實(shí)現(xiàn)，如在圖2的側(cè)視圖中所示。

該具有兩個(gè)反向取向的間距傳感器34,36的間距測(cè)量設(shè)備70相對(duì)于旋轉(zhuǎn)軸線33可旋轉(zhuǎn)地保持在軸承32上。在此該旋轉(zhuǎn)軸線33優(yōu)選正交于由該兩個(gè)基準(zhǔn)物體18,20所展開的平面(x,z)。在此，該指向物體14的間距傳感器34優(yōu)選由多波長(zhǎng)傳感器構(gòu)成，該傳感器用于測(cè)定到該物體14的待測(cè)表面上的所選的第一點(diǎn)42的絕對(duì)間距。

在此，該兩個(gè)傳感器34,36呈相互固定。此外，它們關(guān)于旋轉(zhuǎn)軸線33呈反向取向。該傳感器34的取向改變總伴隨該傳感器36的相應(yīng)的方向改變。

該傳感器34以反射幾何學(xué)進(jìn)行測(cè)量。即，指向測(cè)量點(diǎn)42上的測(cè)量光束被全等性反射回來并再由傳感器34檢測(cè)，并最后輸送到與傳感器34相聯(lián)接的在圖1中所示出的控制設(shè)備60的傳感器單元或檢測(cè)單元。按待測(cè)物體14的外形和該支架26相對(duì)于物體14的相關(guān)定位，需改變?cè)搨鞲衅?4的取向或方位。但該間距傳感器34,36圍繞旋轉(zhuǎn)軸線33的旋轉(zhuǎn)可隨之引起該間距傳感器34相對(duì)于支架26的位移。

通過該第二間距傳感器36在與該第一傳感器34相反的方向上對(duì)準(zhǔn)于該基準(zhǔn)物件28的基準(zhǔn)面30，可精確測(cè)量如通過該間距測(cè)量設(shè)備70的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)必然引起的相關(guān)于已知的基準(zhǔn)物件28的位移，并在電子求值過程中補(bǔ)償所接收的或所檢測(cè)的測(cè)量信號(hào)。

如果該傳感器34因由旋轉(zhuǎn)引起而經(jīng)受例如在相對(duì)物體14的方向上的位移，這將減小該待測(cè)的間距38。但這種位移也同時(shí)會(huì)在定量上以相同程度增大在相對(duì)反向設(shè)置的傳感器36和固定的基準(zhǔn)面30之間的第二間距40。這樣，通過測(cè)量相對(duì)于在基準(zhǔn)面30上所選的第二測(cè)量點(diǎn)44的第二間距40，可由第二間距傳感器36精確補(bǔ)償可能由旋轉(zhuǎn)引起的該間距測(cè)量設(shè)備70的定位精確度。

支架26相對(duì)于基準(zhǔn)物體18，20的定位可借助于兩個(gè)另外稱為基準(zhǔn)傳感器的間距傳感器50，52來實(shí)現(xiàn)，間距傳感器50，52分別測(cè)得至各自的基準(zhǔn)物體18，20的在z方向的間距48或在x方向中的間距46。所述基準(zhǔn)傳感器因此也可構(gòu)成為多波長(zhǎng)傳感器。

相對(duì)于該基準(zhǔn)物件28的幾何形式或位置而言，間距傳感器34，36的方位取向通過物體14的表面上的待測(cè)量點(diǎn)42實(shí)現(xiàn)。此處可設(shè)想的是，可借助于適當(dāng)?shù)膫鞲衅骱蜋C(jī)電調(diào)整設(shè)備，對(duì)朝向物體14的間距傳感器34取向，使之持續(xù)地正交于各個(gè)點(diǎn)42。在此，第一和/或第二間距傳感器34，36的所調(diào)整的角度然后可用于測(cè)定該間距40。

針對(duì)預(yù)設(shè)的角度而實(shí)際測(cè)量的間距值40可以與校準(zhǔn)過程中所接收的基準(zhǔn)值比較。由于偏差之故，直接得出對(duì)于所測(cè)量的間距38的一種長(zhǎng)度修正。

圖5至圖7示意性顯示支座設(shè)備12上可旋轉(zhuǎn)的物體支架100。該物體支架100具有環(huán)形閉合的基準(zhǔn)環(huán)102。該基準(zhǔn)環(huán)102具有上側(cè)104及背離該上側(cè)104的下側(cè)106。在上側(cè)104上，如圖7所示，形成一個(gè)環(huán)形的上方基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)108。相應(yīng)地，也在相對(duì)向的下側(cè)106上形成一個(gè)環(huán)形的下方基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)110。該基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)108,110可構(gòu)成為環(huán)形的基準(zhǔn)面。然而，原則上也可設(shè)想構(gòu)成為一種具有較小徑向范圍的基準(zhǔn)環(huán)。

徑向方向在內(nèi)的基準(zhǔn)環(huán)102具有一個(gè)向內(nèi)突出的凸緣114，其用于配置一種形成為墊片(Scheibe)形式的物體支架116。在向內(nèi)突出的凸緣114上，例如設(shè)有三個(gè)互相等間距而配置的固定區(qū)段120，其與墊片形式的物體支架116的相應(yīng)的固定區(qū)段118相對(duì)應(yīng)，且因此可以與物體支架116的固定區(qū)段118一起起覆蓋作用。對(duì)于不同大小和不同厚度的待測(cè)量的物體14，物體支架116在功能上可作為一種安裝適配器。

此處，以墊片形式構(gòu)成的物體支架116在徑向中央具有一個(gè)以通孔形式構(gòu)成的容納區(qū)124。該容納區(qū)124的開口邊緣另外設(shè)有一個(gè)徑向的朝內(nèi)突出的凸緣128，如圖6的橫截面所示。此外，該容納區(qū)124的開口邊緣設(shè)有一個(gè)內(nèi)螺紋126，其中可旋入一個(gè)設(shè)有對(duì)應(yīng)的外螺紋127的固定環(huán)。在固定環(huán)130和徑向朝內(nèi)突出的凸緣128之間可配置待測(cè)量的物體14

通常，借助于固定環(huán)130可在物體支座116上進(jìn)行固定，因此也可在物體支架100上進(jìn)行固定。在該基準(zhǔn)環(huán)102的上側(cè)104以及下側(cè)106，分別配置一個(gè)標(biāo)記122，借助于標(biāo)記，物體支架100相對(duì)于旋轉(zhuǎn)軸線16可以確定的角度位置配置在支座設(shè)備12上。

在物體支座116的通道中，基準(zhǔn)環(huán)102在上側(cè)104具有一個(gè)環(huán)形的斜邊(Fase)140，且在下側(cè)106也具有一個(gè)與斜邊140對(duì)應(yīng)或?qū)ΨQ地形成的斜邊142。借助于斜邊140，142，物體支架100通?？稍趦蓚€(gè)不同的方位取向1，2上置中地配置在該支座設(shè)備12的設(shè)有對(duì)應(yīng)的斜邊144的軸承元件13上。

在圖8至圖12的序列中，顯示用于物體14的幾何測(cè)量的方法。在圖8的構(gòu)造中，物體支架100以第一方位取向1安置在支座設(shè)備12上。上側(cè)104在此面向三個(gè)不同位置所示的間距測(cè)量設(shè)備70，而下側(cè)106是背離該間距測(cè)量設(shè)備70而配置。

為了測(cè)定圖9中示意性顯示的表面圖像4，物體支架100在轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)相對(duì)于圖1所示的旋轉(zhuǎn)軸線3而偏移，而僅示意性示于圖8和10的間距測(cè)量設(shè)備70的面向表面14a的間距傳感器34以無接觸方式由徑向外部朝向徑向內(nèi)部探測(cè)該表面14a。在探測(cè)過程中，也在基準(zhǔn)環(huán)102的上側(cè)104掃描或測(cè)量上方基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)108。可這樣測(cè)得或可測(cè)量且示意性地示于圖9中的表面圖像4因此是與已探測(cè)的基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)108的圖像108a有關(guān)。

然后如圖10和圖11所示，一種廣泛地相同的過程分別以物體支架100的下側(cè)106來進(jìn)行。物體支架100在其第二方位取向2中，當(dāng)前設(shè)置成可在該支座設(shè)備12上旋轉(zhuǎn)，且在旋轉(zhuǎn)時(shí)再相對(duì)于旋轉(zhuǎn)軸線3偏移。以相應(yīng)的方式，此處該間距測(cè)量設(shè)備70也探測(cè)下方基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)110且隨后探測(cè)物體14的下方表面14b。在此，測(cè)得下方表面圖像5，如圖10再次示意性所示。物體的表面14b的已測(cè)量的外形或結(jié)構(gòu)此處也與下方基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)110的圖像110a直接關(guān)聯(lián)。

圖9和圖11中以虛線再次顯示的范圍介于水平顯示的基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)的上方與下方圖像108a，110a和表面圖像4，5徑向中央?yún)^(qū)之間的區(qū)域，該范圍對(duì)應(yīng)于物體支座116的徑向范圍，且于圖8和圖10的示意圖中廣泛地遮隱(ausgeblendet)。

圖12中，兩個(gè)先前已接收的表面圖像4，5互相關(guān)聯(lián)，且為所謂的重疊。由于在圖11中顯示的表面圖像5是在物體支架100的第二方位取向2中接收，所以，這在圖12中顯示為以垂直方式反射成表面圖像5'。介于上方和下方基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)108,110之間的左方和右方外部虛線表示該物體支架100已知的或先前已校準(zhǔn)的厚度D.

由圖12的兩個(gè)表面圖像4，5的重疊，可精確地測(cè)定旋轉(zhuǎn)對(duì)稱物體14的厚度d或厚度輪廓,例如作為半徑的函數(shù)。

圖13-17的序列中，示意性示出以透鏡作為物體實(shí)例時(shí)所測(cè)得的物體的楔形誤差。為補(bǔ)充先前圖8-12所描述的對(duì)物體支架100的上側(cè)和下側(cè)104,106的掃描，此處在基準(zhǔn)環(huán)102的徑向朝外定向的外側(cè)111上設(shè)置一種對(duì)外部基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)112的補(bǔ)充掃描。該外部基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)112對(duì)于上方和下方基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)108,110處于固定且已知關(guān)系。在圖13的構(gòu)造中，對(duì)物體支架100的上側(cè)104及配置于其中的物體14進(jìn)行測(cè)量，且也同時(shí)或依序地進(jìn)行外部基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)112的測(cè)量或掃描，該外部基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)112在圖13所示的表面圖像4中以垂直虛線的形式顯示成圖像112a。

此外，在圖14所示的表面圖像4中，顯示該物體表面14a由計(jì)算測(cè)得的對(duì)稱軸線6。在該物體支架100反轉(zhuǎn)及旋轉(zhuǎn)之后，重新進(jìn)行一種掃描方法，其中該外部基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)112此次又被掃描，且此掃描擴(kuò)充至下方基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)110和該物體14的下側(cè)。已顯示出另一個(gè)下側(cè)表面圖像5，其中又顯示出該外部基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)112、該下側(cè)基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)110，及該物體14的下側(cè)表面14b的圖像。圖15的圖示中，補(bǔ)充地顯示該物體14的下側(cè)表面14b的由計(jì)算測(cè)得的對(duì)稱軸線7。

圖16中再一次示意性地顯示兩個(gè)先前各在圖14和圖16中所示的表面圖像4，5的重疊，其中還在此映射出配屬于下側(cè)106的表面圖像5。借助于該外部基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)112，則兩個(gè)各自互相獨(dú)立地接收的表面圖像4，5可在徑向(即，相對(duì)于圖16的圖面成水平的方向)精確地上下定位，使得在徑向(r)中也可對(duì)表面圖像4,5作精確的配屬。

由相對(duì)于各表面圖像4，5的不同傾斜角度α1，α2所算出的對(duì)稱軸線6，7，可測(cè)定該物體14的楔形誤差。

圖18中示意地草擬出用于該物體14的幾何測(cè)量的方法的流程。在第一步驟300中，設(shè)有待測(cè)量的物體14的物體支架100以第一方位取向1配置在該支座設(shè)備12上。在下一步驟302中，掃描物體14面向間距測(cè)量設(shè)備70的第一表面14a和物體支架100位于物體支架100同側(cè)的上方基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)108。

在另一步驟304中，使物體支架100旋轉(zhuǎn)，且轉(zhuǎn)移至其第二方位取向2中，其中該物體支架100的下側(cè)106現(xiàn)在面向該間距測(cè)量設(shè)備70。然后，在對(duì)應(yīng)于步驟302的步驟306中，借助于間距測(cè)量設(shè)備70也對(duì)第二表面14b，即，物體14的下側(cè)，和物體支架100的下方基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)110一起掃描。因此，產(chǎn)生第二表面圖像5。

在最后的步驟308中，依據(jù)下方和上方基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)108,110來互相配屬依序獲得的第一和第二表面圖像4，5。待測(cè)量的物體可通過表面圖像4，5的重疊以計(jì)算機(jī)輔助地類似虛擬地成像，并就其厚度輪廓及其楔形誤差而言以高分辨率地進(jìn)行測(cè)量。

雖然圖1顯示一種可旋轉(zhuǎn)安置的物體支架100，但可設(shè)想的是，特別是在圖7至圖16中，該物體支架100也由所示的圖面中平移出來且可進(jìn)行向內(nèi)運(yùn)行的偏移式移動(dòng)。這特別是例如針對(duì)圓柱透鏡的測(cè)量而設(shè)置。取代該物體14的可旋轉(zhuǎn)的配置，此處該物體亦可在y方向中進(jìn)行一種步進(jìn)式的偏移，其中y方向垂直于觀看者的平面且垂直于該間距測(cè)量設(shè)備70的測(cè)量面(x，z)。

標(biāo)號(hào)列表

1 方位取向

2 方位取向

3 旋轉(zhuǎn)軸線

4 表面圖像

5 表面圖像

6 對(duì)稱軸線

7 對(duì)稱軸線

10 裝置

11 基座

12 支座設(shè)備

13 軸承元件

14 物體

14a 表面

14b 表面

16 旋轉(zhuǎn)軸線

18 基準(zhǔn)物體

20 基準(zhǔn)物體

22 基準(zhǔn)面

24 基準(zhǔn)面

26 支架

28 基準(zhǔn)物件

30 基準(zhǔn)面

32 軸承

34 間距傳感器

36 間距傳感器

38 間距

40 間距

42 測(cè)量點(diǎn)

44 測(cè)量點(diǎn)

46 間距

48 間距

50 傳感器

52 傳感器

60 控制設(shè)備

70 間距測(cè)量設(shè)備

100 物體支架

102 基準(zhǔn)環(huán)

104 上側(cè)

106 下側(cè)

108 上方基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)

108a 圖像

110 下方基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)

110a 圖像

112 外部基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)

112a 圖像

114 凸緣

116 物體支座

118 固定區(qū)段

120 固定區(qū)段

122 標(biāo)記

124 容納區(qū)

126 內(nèi)螺紋

127 外螺紋

128 凸緣

130 固定環(huán)

140 斜邊

142 斜邊

144 斜邊

204 框架

205 支腳

206 支腳

208 連接梁