1.一種基于腔衰蕩光譜技術(shù)的雙組分痕量氣體濃度測量裝置,其特征在于，包括：
第一可調(diào)諧連續(xù)激光器、第二可調(diào)諧連續(xù)激光器、第一模式匹配系統(tǒng)、第二模式匹配系統(tǒng)、諧振腔、第一聚焦透鏡、第二聚焦透鏡、第一窄帶濾光片、第二窄帶濾光片、第一光電探測器、第二光電探測器、激光器控制器和信號(hào)采集分析控制系統(tǒng)；
所述諧振腔包括第一腔鏡、第二腔鏡、第三腔鏡和第四腔鏡；
所述第一可調(diào)諧連續(xù)激光器發(fā)出的激光經(jīng)所述第一聚焦透鏡聚焦后進(jìn)入所述諧振腔，透過所述第一腔鏡后經(jīng)所述第二腔鏡和第三腔鏡反射后依次透過所述第四腔鏡、第一聚焦透鏡和第一窄帶濾光片，最終入射到所述第一光電探測器；
所述第二可調(diào)諧連續(xù)激光器發(fā)出的激光經(jīng)所述第二聚焦透鏡聚焦后進(jìn)入所述諧振腔，透過所述第二腔鏡后經(jīng)所述第一腔鏡和第四腔鏡反射后依次透過所述第三腔鏡、第二聚焦透鏡和第二窄帶濾光片，最終入射到所述第二光電探測器；
所述第一光電探測器和所述第二光電探測器分別與所述信號(hào)采集分析控制系統(tǒng)電連接，所述信號(hào)采集分析控制系統(tǒng)與所述激光控制器連接，所述激光器控制器分別與所述第一可調(diào)諧連續(xù)激光器和第二可調(diào)諧連續(xù)激光器電連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于腔衰蕩光譜技術(shù)的雙組分痕量氣體濃度測量裝置，其特征在于，所述第一腔鏡和第四腔鏡的法線重合，且指向所述諧振腔的中心，所述第二腔鏡和第三腔鏡的法線重合，且指向所述諧振腔的中心。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基于腔衰蕩光譜技術(shù)的雙組分痕量氣體濃度測量裝置，其特征在于，所述第一腔鏡、第二腔鏡、第三腔鏡和第四腔鏡法線方向指向諧振腔中心的鏡面鍍高反膜，另一面鍍增透膜。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于腔衰蕩光譜技術(shù)的雙組分痕量氣體濃度測量裝置，其特征在于，所述第一模式匹配系統(tǒng)和所述第二模式匹配系統(tǒng)都采用伽利略望遠(yuǎn)鏡結(jié)構(gòu)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于腔衰蕩光譜技術(shù)的雙組分痕量氣體濃度測量裝置，其特征在于，所述第一光電探測器和所述第二光電探測器具有高響應(yīng)速率，且光譜響應(yīng)范圍覆蓋待測氣體特征吸收波長。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于腔衰蕩光譜技術(shù)的雙組分痕量氣體濃度測量裝置，其特征在于，所述第一模式匹配系統(tǒng)和第二模式匹配系統(tǒng)中的鏡片，以及第一聚焦透鏡和第二聚焦透鏡鍍有對應(yīng)待測氣體特征吸收波長的增透膜。