1.一種X射線成像器件的瞄準(zhǔn)裝置，其特征在于，所述的瞄準(zhǔn)裝置包括X射線成像器件（2）、瞄準(zhǔn)透鏡（3）、可調(diào)光闌（4）、支撐機(jī)構(gòu)（5）、四維調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)（6）和監(jiān)視器（7）；所述的支撐機(jī)構(gòu)（5）為水平放置的圓筒，瞄準(zhǔn)透鏡（3）豎直卡在圓筒中，X射線成像器件（2）位于瞄準(zhǔn)透鏡（3）的中心；所述的可調(diào)光闌（4）為圓環(huán)形，放置在瞄準(zhǔn)透鏡（3）前端，并與支撐機(jī)構(gòu)（5）固連；所述的支撐機(jī)構(gòu)（5）與四維調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)（6）連接，四維調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)（6）通過支撐機(jī)構(gòu)（5）調(diào)節(jié)瞄準(zhǔn)透鏡（3）的位置和瞄準(zhǔn)透鏡（3）的光學(xué)指向；所述的瞄準(zhǔn)透鏡（3）的中心、可調(diào)光闌（4）的中心、支撐機(jī)構(gòu)（5）的中心和四維調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)（6）的中心在同一條直線上；
靶（1）發(fā)射的可見光線通過打開狀態(tài)的可調(diào)光闌（4）入射至瞄準(zhǔn)透鏡（3），在探測器記錄面（8）上成像為像Ⅰ；靶（1）發(fā)射的X射線通過關(guān)閉狀態(tài)的可調(diào)光闌（4）入射至X射線成像器件（2），在探測器記錄面（8）上成像為像Ⅱ；像Ⅰ和像Ⅱ在探測器記錄面（8）上重合；所述的監(jiān)視器（7）實(shí)時監(jiān)視像Ⅰ在探測器記錄面（8）上的位置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線成像器件的瞄準(zhǔn)裝置，其特征在于，所述的靶（1）為慣性約束聚變ICF使用的平面靶、球靶、腔靶或異形靶中的一種。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線成像器件的瞄準(zhǔn)裝置，其特征在于，所述的X射線成像器件（2）為慣性約束聚變ICF中用于X射線成像的狹縫、狹縫陣列、針孔、針孔陣列、異形孔或異形孔陣列中的一種。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線成像器件的瞄準(zhǔn)裝置，其特征在于，所述的瞄準(zhǔn)透鏡（3）與X射線成像器件（2）的成像物距、像距相同，像距和物距滿足透鏡成像公式，瞄準(zhǔn)透鏡（3）的主光軸與X射線成像器件（2）中心的垂直距離小于等于150um。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線成像器件的瞄準(zhǔn)裝置及其裝調(diào)與應(yīng)用方法，其特征在于，所述的瞄準(zhǔn)透鏡（3）為可見光透過率大于70%的玻璃，包括石英玻璃、有機(jī)玻璃或K9玻璃中的一種。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線成像器件的瞄準(zhǔn)裝置，其特征在于，所述的瞄準(zhǔn)透鏡（3）的開孔尺寸大于X射線成像器件（2）的邊界尺寸；所述的可調(diào)光闌（4）在關(guān)閉狀態(tài)下，限光孔徑大于靶（1）尺寸，并且小于X射線成像器件（2）邊界尺寸。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線成像器件的瞄準(zhǔn)裝置，其特征在于，所述的四維調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)（6）調(diào)節(jié)支撐機(jī)構(gòu)（5）在垂直于支撐機(jī)構(gòu)（5）的軸線的平面上進(jìn)行基于平面的X軸和Y軸的平面位移，和基于平面的X軸和Y軸的翻轉(zhuǎn)。
8.一種X射線成像器件的瞄準(zhǔn)裝置的調(diào)校方法，其特征在于，包括以下步驟：
8a.將裝調(diào)用靶（9）放置在靶（1）的位置上，將激光經(jīng)緯儀（10）沿支撐機(jī)構(gòu)（5）的中心線放置在支撐機(jī)構(gòu)（5）的后面；
8b.利用激光經(jīng)緯儀（10）作基準(zhǔn)，將裝調(diào)用靶（9）的標(biāo)識中心、X射線成像器件（2）的中心和探測器記錄面（8）的中心調(diào)整在直線Ⅰ上；
8c.用可見光源（11）照射裝調(diào)用靶（9），反復(fù)調(diào)節(jié)四維調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)（6），直至瞄準(zhǔn)透鏡（3）對裝調(diào)用靶（9）的標(biāo)識中心所成的可見光像與探測器記錄面（8）的中心重合，且X射線成像器件（2）的中心仍在直線Ⅰ上。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的X射線成像器件的瞄準(zhǔn)裝置的調(diào)校方法，其特征在于，所述的裝調(diào)用靶（9）的標(biāo)識中心的尺寸小于或等于X射線成像器件（2）的狹縫或孔的尺寸。
10.一種X射線成像器件的瞄準(zhǔn)裝置的應(yīng)用方法，其特征在于，包括以下步驟：
10a.打開可調(diào)光闌（4）；
10b.用可見光源（11）照亮靶（1）；
10c.用監(jiān)視器（7）實(shí)時監(jiān)視像Ⅰ，通過調(diào)整包括所述的瞄準(zhǔn)裝置和探測器記錄面（8）在內(nèi)的整個探測系統(tǒng)指向，改變像Ⅰ在探測器記錄面（8）上的位置，直至像Ⅰ的中心點(diǎn)與探測器記錄面（8）的中心點(diǎn)重合，完成實(shí)時瞄準(zhǔn)；
10d.關(guān)閉可調(diào)光闌（4）；
10e.用激光入射至靶（1）上，靶（1）發(fā)射出X射線，X射線通過關(guān)閉狀態(tài)的可調(diào)光闌（4）入射至X射線成像器件（2），在探測器記錄面（8）上成像為像Ⅱ，像Ⅰ和像Ⅱ在探測器記錄面（8）上重合，完成X射線成像器件的瞄準(zhǔn)裝置的應(yīng)用。