技術總結(jié)
本發(fā)明提供了一種X射線成像器件的瞄準裝置及其調(diào)校方法和應用方法，所述的瞄準裝置包括X射線成像器件、瞄準透鏡、可調(diào)光闌、支撐機構(gòu)、四維調(diào)節(jié)機構(gòu)和監(jiān)視器，X射線成像器件位于瞄準透鏡中心，且二者分別對靶的X光和可見光成像位置、大小相同；所述的調(diào)校方法：將裝調(diào)用靶中心、X射線成像器件中心和探測器記錄面中心放到直線Ⅰ上；調(diào)節(jié)四維調(diào)節(jié)機構(gòu)使裝調(diào)用靶的可見光像中心與探測器記錄面中心重合，且確保X射線成像器件中心仍在直線Ⅰ上。所述的應用方法：整體調(diào)整瞄準透鏡像與探測器記錄面位置關系，實現(xiàn)應用。本發(fā)明能夠?qū)崿F(xiàn)用可見光代替不可見X光進行實時在線瞄準，簡單方便，將X射線成像器件瞄準效率提升至少80%，具有廣闊應用前景。

技術研發(fā)人員：任寬;劉慎業(yè);侯立飛;杜華冰;景龍飛;趙陽;楊志文;韋敏習;鄧克立;姚立;詹夏宇;李晉;楊國洪;李三偉;江少恩;董建軍;曹柱榮;丁永坤
受保護的技術使用者：中國工程物理研究院激光聚變研究中心
文檔號碼：201710017153
技術研發(fā)日：2017.01.11
技術公布日：2017.05.24