技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種基于最小冗余線陣的非均勻面陣設(shè)計(jì)方法，其主要思路為：確定雷達(dá)，所述雷達(dá)包括K個(gè)陣元，并根據(jù)雷達(dá)包含的K個(gè)陣元確定非均勻面陣，其中非均勻面陣的橫軸包括M個(gè)陣元，非均勻面陣的縱軸包括N個(gè)陣元；K、M和N分別為大于0的正整數(shù)，且滿足K＝M×N；根據(jù)所述M個(gè)陣元，確定非均勻面陣的橫坐標(biāo)；根據(jù)所述N個(gè)陣元，確定非均勻面陣的縱坐標(biāo)；進(jìn)而確定最終的非均勻面陣，并計(jì)算差分合成陣列；設(shè)定差分合成陣列中包含Q個(gè)目標(biāo)，分別計(jì)算非均勻面陣的橫軸包括的M個(gè)陣元的方向矩陣，以及非均勻面陣的縱軸包括的N個(gè)陣元的方向矩陣，并計(jì)算差分合成陣列接收的信號(hào)數(shù)據(jù)，進(jìn)而分別得到Q個(gè)目標(biāo)各自的波達(dá)方向估計(jì)值。

技術(shù)研發(fā)人員：楊明磊;陳伯孝;姜甜;孫磊
受保護(hù)的技術(shù)使用者：西安電子科技大學(xué)
技術(shù)研發(fā)日：2017.03.22
技術(shù)公布日：2017.07.28