本發(fā)明涉及顯示面板領(lǐng)域，特別是涉及一種過孔的尺寸測量方法及測量設(shè)備。

背景技術(shù)：

color-filteronarray(coa)技術(shù)是將彩色濾光片與陣列基板集成在一起的集成技術(shù)。即將彩色光阻涂布于已完成的陣列基板上形成彩色濾光層，可以改善傳統(tǒng)彩色濾光片開口率低的問題。該技術(shù)要求在制程中監(jiān)控面板面內(nèi)過孔直徑，在測量過孔直徑時，極易受到干擾，難于找準(zhǔn)過孔邊緣。

現(xiàn)有技術(shù)在抓取框區(qū)域只能從上到下識別波峰順序，將第n個波峰作為邊界值，由于過孔邊緣容易出現(xiàn)多波峰，導(dǎo)致邊界值抓取不固定，引起測量誤差。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明主要解決的技術(shù)問題是提供一種過孔的尺寸測量方法，能夠準(zhǔn)確測量出過孔的直徑。

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的一個技術(shù)方案是：提供一種過孔的尺寸測量方法，包括：獲取所述過孔及其周邊區(qū)域的圖像；在所述圖像中設(shè)置一圖像抓取框；沿預(yù)設(shè)方向根據(jù)所述圖像的像素的灰階繪出變化曲線；在所述變化曲線中設(shè)定中間基準(zhǔn)點；在所述變化曲線上以所述中間基準(zhǔn)點為起點分別向兩側(cè)搜索滿足預(yù)設(shè)條件的波峰；根據(jù)所述中間基準(zhǔn)點兩側(cè)的所述波峰之間的距離計算所述過孔沿所述預(yù)設(shè)方向的尺寸。

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的另一個技術(shù)方案是：提供一種過孔的尺寸測量設(shè)備，包括：成像設(shè)備，用于拍攝所述過孔及其周邊區(qū)域的圖像；存儲器，用于存儲預(yù)設(shè)程序；處理器，用于通過運行所述預(yù)設(shè)程序執(zhí)行以下步驟：獲取所述過孔及其周邊區(qū)域的圖像；在所述圖像中設(shè)置一圖像抓取框；沿預(yù)設(shè)方向根據(jù)所述圖像的像素的灰階繪出變化曲線；在所述變化曲線中設(shè)定中間基準(zhǔn)點；在所述變化曲線上以所述中間基準(zhǔn)點為起點分別向兩側(cè)搜索滿足預(yù)設(shè)條件的波峰；根據(jù)所述中間基準(zhǔn)點兩側(cè)的所述波峰之間的距離計算所述過孔沿所述預(yù)設(shè)方向的尺寸。

本發(fā)明的有益效果是：區(qū)別于現(xiàn)有技術(shù)經(jīng)常出現(xiàn)邊界值抓取不固定，引起測量誤差的情況，本發(fā)明通過設(shè)置變化曲線上的基準(zhǔn)點，找到離基準(zhǔn)點最近的兩個波峰，且波峰的峰值要大于閾值，確保抓取的邊界為過孔的邊界，就能準(zhǔn)確測量過孔的直徑。

附圖說明

圖1是本發(fā)明過孔的尺寸測量方法實施方式的流程圖；

圖2是本發(fā)明過孔的尺寸測量設(shè)備實施方式的示意圖；

圖3是本發(fā)明以圖像抓取框的幾何中心設(shè)置中間基準(zhǔn)點的圖像處理的示意圖；

圖4是本發(fā)明以過孔的幾何中心設(shè)置中間基準(zhǔn)點的圖像處理的示意圖。

具體實施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒景l(fā)明中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，均屬于本發(fā)明保護的范圍。

請參閱圖1，圖1是本發(fā)明過孔的尺寸測量設(shè)備。如圖2所示，過孔的尺寸測量設(shè)備包括成像設(shè)備10、處理器20、儲存器30。處理器20連接著成像設(shè)備10和儲存器30。成像設(shè)備10用于獲取待測過孔及其周邊區(qū)域的圖像，處理器20用于控制成像設(shè)備10獲取圖像，同時對成像設(shè)備10獲取的圖像進行分析，通過分析測得到過孔的直徑尺寸。儲存器30用于存儲預(yù)設(shè)程序，處理器20通過調(diào)用存儲在儲存器30中的預(yù)設(shè)程序完成整個測量工作。

請結(jié)合參閱圖1和圖2，圖2是本發(fā)明過孔的尺寸測量方法實施方式的流程圖。

本發(fā)明過孔的尺寸測量方法包括以下步驟：

s101：獲取所述過孔及其周邊區(qū)域的圖像。

具體地說，成像設(shè)備10在處理器20的控制下對過孔及其周邊區(qū)域進行拍照，拍照時需注意讓過孔處于照片的中心位置，過孔周圍都需要留出足夠空間，以便后續(xù)分析照片時有足夠的采樣空間。

s102：在所述圖像中設(shè)置一圖像抓取框。

具體地說，成像設(shè)備10拍攝到的圖像由處理器20進行分析，首先在圖像中設(shè)置一圖像抓取框，圖像抓取框位置由測試人員設(shè)置，需注意使得圖像抓取框的邊緣盡量將過孔包含進去。

s103：沿預(yù)設(shè)方向根據(jù)所述圖像的像素的灰階繪出變化曲線。

具體地說，預(yù)設(shè)方向為圖像的垂直方向，繪制曲線的依據(jù)是圖像相鄰兩邊的灰度差異，在一個實施例中，可以將圖像平均分為若干等分，根據(jù)相鄰的兩等分之間的差值繪制曲線。若相鄰的兩等分之間灰度值差距大，則繪制出的曲線峰值高；若相鄰的兩等分之間灰度值差距小，則繪制出的曲線峰值低。

s104：在所述變化曲線中設(shè)定中間基準(zhǔn)點。

具體地說，在一個實施例中，根據(jù)拍攝到的圖像上設(shè)置的抓取框的幾何中心設(shè)置所述中間基準(zhǔn)點，抓取框的幾何中心與曲線的中間基準(zhǔn)點在同一水平線上。

在另一個實施例中，在所述圖像中識別出過孔的位置和形狀，根據(jù)所述過孔的幾何中心設(shè)置所述中間基準(zhǔn)點，過孔的幾何中心與曲線的中間基準(zhǔn)點在同一水平線上。

s105：在所述變化曲線上以所述中間基準(zhǔn)點為起點分別向兩側(cè)搜索滿足預(yù)設(shè)條件的波峰。

具體地說，以所述中間基準(zhǔn)點為起點分別向上下兩側(cè)搜索最靠近所述中間基準(zhǔn)點的波峰，同時為了確保找到的波峰為過孔兩側(cè)邊緣位置的波峰，所找到的波峰的峰值大于預(yù)設(shè)閾值。

由于在過孔周圍的膜厚不一致，導(dǎo)致拍攝出的圖像上，過孔周圍的顏色也不一致，且形狀并不固定，因此在處理器20會對這些顏色不一的地方繪出曲線，這樣在中間基準(zhǔn)點的兩側(cè)會存在數(shù)個波峰，在尋找過孔兩側(cè)邊緣位置的波峰的過程中，會受到這些小波峰的影響，有可能找到錯誤的波峰，從而得到錯誤的結(jié)果，造成誤判。因為過孔區(qū)域的顏色與面板的顏色差距很大，所以過孔兩側(cè)邊緣位置的波峰的峰值也會很大。設(shè)置一個波峰的閾值，可以將過孔四周一些陰影造成的干擾排除掉，確保找到的波峰的準(zhǔn)確性。

s106:根據(jù)所述中間基準(zhǔn)點兩側(cè)的所述波峰之間的距離計算所述過孔所述預(yù)設(shè)方向的尺寸。

具體地說，最靠近中間基準(zhǔn)點兩側(cè)的且峰值大于閾值的波峰之間的距離即為過孔的直徑大小。因為過孔中間顏色是一致的，所以在過孔直徑的范圍內(nèi)不會出現(xiàn)較大的波峰，而尋找波峰時會略去峰值較小的波峰排除干擾，所以最靠近中間基準(zhǔn)點兩側(cè)的且峰值大于閾值的波峰就位于過孔的兩側(cè)頂點，所以這兩個波峰之間的距離就是過孔的直徑。

通過上述描述可知，本發(fā)明實施例通過在變化曲線中設(shè)定中間基準(zhǔn)點，在變化曲線上以中間基準(zhǔn)點為起點分別向兩側(cè)搜索滿足預(yù)設(shè)條件的波峰，兩個波峰之間的距離即為過孔的直徑，可以有效避免在尋找波峰的過程中，受到過孔四周由于膜厚不同而引起的多個波峰的干擾，找到過孔兩側(cè)邊緣位置的波峰，得出過孔直徑的正確值。

請參閱圖3，圖3是本發(fā)明以圖像抓取框的幾何中心設(shè)置中間基準(zhǔn)點的圖像處理的示意圖。如圖3所示，過孔50為此次所要測量直徑的過孔，51、52、53分別是過孔四周由于膜厚不均造成的顏色不一的陰影，曲線10是根據(jù)圖像繪制的變化曲線，在曲線10上有因為過孔50和陰影51、52、53之間的色差而繪制出的波峰11、12、13、14、15、16、17、18。在本實施例中，將抓取框60的幾何中心點32在曲線10上的對應(yīng)位置點作為為曲線10的中心基準(zhǔn)點31。

過孔50中間是空洞，所以理論上不會出現(xiàn)其他顏色，因此波峰14和15中間的直線正對應(yīng)著過孔50的區(qū)域。因此距離中心基準(zhǔn)點32最近的兩個波峰14和15對應(yīng)著過孔50的上下邊緣，作為對應(yīng)過孔50的上下邊緣的波峰的峰值會因為過孔50內(nèi)被掏空的區(qū)域與四周面板的色差較大而較高，所以為了避免拍照時過孔50的四周的由于膜厚不同而造成的色差會造成一些小的波峰，波峰14和15的峰值還應(yīng)該超過預(yù)先設(shè)定的閾值。計算過孔50的直徑時，計算波峰14、15所間隔的像素點數(shù)量，并進一步結(jié)合成像設(shè)備10的成像特性，例如焦距、分辨率等參數(shù)即可換算得到過孔50的直徑。

通過上述描述可知，本發(fā)實施例通過在變化曲線上設(shè)置與抓取框的幾何中心點相對應(yīng)點為中心基準(zhǔn)點，以中心基準(zhǔn)點為起點分別向兩側(cè)搜索滿足預(yù)設(shè)條件的波峰，兩個波峰之間的距離即為過孔的直徑?？梢杂行П苊膺^孔四周多個波峰的干擾，找到正確的波峰。

請參閱圖4，圖4是本發(fā)明以過孔的幾何中心設(shè)置中間基準(zhǔn)點的圖像處理的示意圖。如圖4所示，過孔50為此次所要測量直徑的過孔，51、52、53分別是過孔四周由于膜厚不均造成的顏色不一的陰影，曲線20是根據(jù)圖像繪制的變化曲線，在曲線20上有因為過孔50和陰影51、52、53之間的色差而繪制出的波峰21、22、23、24、25、26、27、28，在本實施例中，將過孔50的幾何中心點42在曲線20上的對應(yīng)位置點作為為曲線20的中心基準(zhǔn)點41。

因為抓取框是人為設(shè)置位置，所以有可能會出現(xiàn)圖4所示的狀態(tài)，抓取框60位置偏移較多，抓取框60的幾何中心點32位于整個圖像上半部分，若是以幾何中心點32在曲線20上的對應(yīng)位置點33作為曲線20的中心基準(zhǔn)點，找到的波峰23、24并非正確選擇，由此計算出的過孔50的直徑也是錯誤值。

因此本實施例采用識別出過孔50的幾何中心點42，直這樣可以確保過孔50的幾何中心點42在曲線20上的對應(yīng)位置點也就是中心基準(zhǔn)點41一定是位于對應(yīng)過孔50的上下邊緣的波峰之間，或者說以中心基準(zhǔn)點41為起點向兩側(cè)尋找到的符合條件的波峰就是對應(yīng)過孔50的上下邊緣的波峰。

通過上述描述可知，本發(fā)明通過在變化曲線上設(shè)置與過孔的幾何中心點對應(yīng)的點作為中心基準(zhǔn)點，避免了由于抓取框位置偏差引起的誤差，可以準(zhǔn)確找到正確的波峰，從而計算出過孔直徑的正確值。

區(qū)別于現(xiàn)有技術(shù)只能從上到下識別波峰順序，將第n個波峰作為邊界值，這樣會受到過孔四周由于膜厚不同而造成的色差所引起的波峰的干擾，造成測量誤差。本發(fā)明通過在變化曲線上設(shè)置中間基準(zhǔn)點，以中間基準(zhǔn)點為起點，分別向兩側(cè)搜索距離中間基準(zhǔn)點最近的且峰值大于閾值的波峰，找到的兩側(cè)波峰之間的距離即為過孔的直徑。這樣可以有效避免由于過孔四周膜厚不同而造成的色差所引起的波峰的干擾，找到正確的波峰，計算出過孔的正確直徑。

以上所述僅為本發(fā)明的實施方式，并非因此限制本發(fā)明的專利范圍，凡是利用本發(fā)明說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本發(fā)明的專利保護范圍內(nèi)。