本發(fā)明涉及熒光儀器校準(zhǔn)測(cè)量。更具體地，涉及一種用于熒光儀器校準(zhǔn)測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)樣片及其制備方法。

背景技術(shù)：

隨著生物技術(shù)的不斷發(fā)展，熒光檢測(cè)技術(shù)(fluorescentdetection)由于其具有熒光定量、結(jié)果穩(wěn)定、靈敏度高、封閉操作、安全便捷等特點(diǎn)，已經(jīng)廣泛地應(yīng)用于生命科學(xué)、醫(yī)藥衛(wèi)生、食品安全、藥理學(xué)及生物化學(xué)分析等領(lǐng)域。熒光檢測(cè)是一種自然發(fā)光反應(yīng)，通過(guò)熒光素酶與atp進(jìn)行反應(yīng)，利用專用設(shè)備對(duì)光照度進(jìn)行測(cè)量并以數(shù)字形式予以表示，迅速得到反應(yīng)結(jié)果，可用于檢測(cè)人體細(xì)胞、細(xì)菌、霉菌和食物殘?jiān)取?/p>

傳統(tǒng)的熒光儀器通常采用激光、氙燈、高壓/低壓汞燈等光源作為激發(fā)光源，通過(guò)檢測(cè)熒光物質(zhì)受激發(fā)后發(fā)射光的光譜及信號(hào)強(qiáng)弱來(lái)進(jìn)行分析。不同熒光儀器的光源、光路、檢測(cè)系統(tǒng)的設(shè)計(jì)與集成各不相同，即使是同一儀器的光源、光路及檢測(cè)系統(tǒng)也可能因?yàn)槔匣h(huán)境或震動(dòng)等原因出現(xiàn)細(xì)微的變化，從而引起激光光譜發(fā)生變化，帶來(lái)測(cè)量誤差，影響測(cè)量結(jié)果。由于熒光檢測(cè)的靈敏度極高，通常用于痕量檢測(cè)中，極小的測(cè)量誤差可能會(huì)很大程度上影響測(cè)量結(jié)果，甚至導(dǎo)致完全相反的結(jié)論。因此，制備標(biāo)準(zhǔn)樣片并應(yīng)用其對(duì)熒光儀器進(jìn)行校準(zhǔn)測(cè)量顯得尤為重要。

目前，用于熒光儀器校準(zhǔn)測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)有按特定濃度配成的液體和固態(tài)薄膜等形式。液體標(biāo)準(zhǔn)需要置于玻璃容器之中，應(yīng)用領(lǐng)域受限。固態(tài)薄膜型熒光強(qiáng)度標(biāo)準(zhǔn)樣品，將含有熒光材料的薄膜制作于玻璃基片上，可用于熒光顯微鏡、熒光光譜儀等多種生物熒光檢測(cè)儀器的日常校準(zhǔn)和儀器間比對(duì)。但是，這種標(biāo)準(zhǔn)樣品通常只含有一種特定的熒光強(qiáng)度，當(dāng)需要標(biāo)定多個(gè)熒光強(qiáng)度時(shí)，需要更換多個(gè)不同強(qiáng)度的標(biāo)準(zhǔn)樣品，操作不便其標(biāo)準(zhǔn)樣片的利用率低。

為了簡(jiǎn)化操作過(guò)程，提高標(biāo)準(zhǔn)樣片的利用率，提出了包含多個(gè)熒光強(qiáng)度區(qū)域的標(biāo)準(zhǔn)樣片。其中，不同熒光強(qiáng)度區(qū)域用于標(biāo)定不同的熒光強(qiáng)度，使得在不更換標(biāo)準(zhǔn)樣品的情況下對(duì)熒光檢測(cè)儀的熒光強(qiáng)度、線性度、飽和度等關(guān)鍵參數(shù)進(jìn)行測(cè)試成為可能。為了獲得具有不同熒光強(qiáng)度區(qū)域的標(biāo)準(zhǔn)樣品，通常將不同區(qū)域的熒光薄膜層設(shè)置為不同厚度或不同濃度。具體地，如果將熒光薄膜層設(shè)置為不同厚度，需要采用多次勻膠、多次曝光和一次顯影的方法制作同一濃度多個(gè)厚度的熒光材料薄膜，其操作的次數(shù)與熒光強(qiáng)度區(qū)域的個(gè)數(shù)正相關(guān)，特別是制作包含熒光強(qiáng)度值多的標(biāo)準(zhǔn)樣品時(shí)，其操作將異常繁雜。如果將熒光薄膜層設(shè)置為不同濃度，通常使用微陣列點(diǎn)樣儀或旋涂加絲網(wǎng)印刷等相對(duì)較為簡(jiǎn)單的方法將不同濃度的熒光材料溶液涂覆于基片表面，從而形成具有大約等同厚度和不同熒光強(qiáng)度的點(diǎn)陣。但是，其并不能精準(zhǔn)控制標(biāo)準(zhǔn)樣品不同濃度的熒光材料薄膜厚度一致性，導(dǎo)致實(shí)際熒光強(qiáng)度不能得到精準(zhǔn)控制而影響校準(zhǔn)測(cè)量結(jié)果。另外，采用這種方式獲得的標(biāo)準(zhǔn)樣片只能制作大尺度的圓形圖形，并不能制作含有復(fù)雜圖案的小尺度圖形。

因此，需要提供一種包含多個(gè)熒光強(qiáng)度區(qū)域的標(biāo)準(zhǔn)樣片，能夠簡(jiǎn)化制作過(guò)程，同時(shí)保證對(duì)熒光強(qiáng)度的精準(zhǔn)控制，滿足制作含有復(fù)雜圖案的小尺度圖形的要求。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

為了克服上述缺點(diǎn)，本發(fā)明的一個(gè)目的在于提供一種包含厚度相同的多個(gè)熒光強(qiáng)度區(qū)域，制作過(guò)程簡(jiǎn)單且滿足復(fù)雜圖案的小尺度圖形要求的標(biāo)準(zhǔn)樣片。

為達(dá)到上述目的，本發(fā)明采用下述技術(shù)方案：

一種用于熒光儀器校準(zhǔn)測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)樣片，包括

基板；及

熒光薄膜，設(shè)置于基板上且包括具有不同熒光強(qiáng)度的多個(gè)熒光強(qiáng)度區(qū)域；多個(gè)熒光強(qiáng)度區(qū)域中每個(gè)熒光強(qiáng)度區(qū)域具有特定的熒光染料填充占空比。

優(yōu)選地，基于微納加工技術(shù)獲得特定的熒光染料填充占空比。

優(yōu)選地，熒光強(qiáng)度區(qū)域包括多個(gè)與像素對(duì)應(yīng)的重復(fù)單元，同一熒光強(qiáng)度區(qū)域中的重復(fù)單元具有相同的熒光染料填充占空比。

進(jìn)一步優(yōu)選地，重復(fù)單元尺寸小于或等于像素尺寸。

進(jìn)一步優(yōu)選地，像素為人眼像素或ccd像素。

進(jìn)一步優(yōu)選地，采用光刻、納米壓印或電子束曝光獲得重復(fù)單元。

進(jìn)一步優(yōu)選地，光刻時(shí)，與重復(fù)單元對(duì)應(yīng)的光刻板中透光或不透光部分的占空比與重復(fù)單元的熒光染料填充占空比相同。

進(jìn)一步優(yōu)選地，光刻膠為混有熒光材料的光敏高分子材料。

優(yōu)選地，標(biāo)準(zhǔn)樣片表面涂覆有保護(hù)層。

本發(fā)明的另一個(gè)目的在于提供一種制作過(guò)程簡(jiǎn)單、對(duì)熒光強(qiáng)度控制精準(zhǔn)的用于熒光儀器校準(zhǔn)測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)樣片的制備方法，包括：

制備基板；

在基板上制作熒光薄膜，具體包括：

在熒光薄膜上形成具有不同熒光強(qiáng)度的多個(gè)熒光強(qiáng)度區(qū)域；

基于微納加工技術(shù)在每個(gè)熒光強(qiáng)度區(qū)域上形成多個(gè)與像素對(duì)應(yīng)的重復(fù)單元，使同一熒光強(qiáng)度區(qū)域中的重復(fù)單元具有相同的熒光染料填充占空比。

本發(fā)明的有益效果如下：

本發(fā)明的用于熒光儀器校準(zhǔn)測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)樣片及其制作方法，通過(guò)利用微納加工技術(shù)，精確控制調(diào)整熒光薄膜表面上每個(gè)像素對(duì)應(yīng)區(qū)域內(nèi)的熒光染料填充占空比，在一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)樣片上獲得多個(gè)厚度相同的熒光強(qiáng)度區(qū)域，且每個(gè)熒光強(qiáng)度區(qū)域具有精準(zhǔn)可控的特定的熒光染料填充占空比，使獲得復(fù)雜圖案的小尺度圖形成為可能。簡(jiǎn)化了制作工藝，優(yōu)化了校準(zhǔn)測(cè)量過(guò)程，提高了不同熒光強(qiáng)度區(qū)域圖形的復(fù)雜度和精細(xì)度，能夠獲得更多更加精準(zhǔn)的熒光強(qiáng)度，改善了熒光儀器校準(zhǔn)測(cè)量標(biāo)準(zhǔn)樣片的可用性。

附圖說(shuō)明

下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的具體實(shí)施方式作進(jìn)一步詳細(xì)的說(shuō)明。

圖1示出實(shí)施例1中用于熒光儀器校準(zhǔn)測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)樣片結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2示出實(shí)施例2中第一重復(fù)單元結(jié)構(gòu)示意圖。

圖3示出實(shí)施例2中第二重復(fù)單元結(jié)構(gòu)示意圖。

圖4示出實(shí)施例2中第三重復(fù)單元結(jié)構(gòu)示意圖。

圖5示出實(shí)施例2中第四重復(fù)單元結(jié)構(gòu)示意圖。

圖6示出另一種重復(fù)單元結(jié)構(gòu)示意圖。

圖7示出又一種重復(fù)單元結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明，下面結(jié)合優(yōu)選實(shí)施例和附圖對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步的說(shuō)明。附圖中相似的部件以相同的附圖標(biāo)記進(jìn)行表示。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，下面所具體描述的內(nèi)容是說(shuō)明性的而非限制性的，不應(yīng)以此限制本發(fā)明的保護(hù)范圍。

本發(fā)明的說(shuō)明書和權(quán)利要求書及上述附圖中的屬于“第一”、“第二”等是用于區(qū)別不同的對(duì)象，而不是用于描述特定順序。此外，術(shù)語(yǔ)“包括”和“具有”以及它們?nèi)魏巫冃危鈭D在于覆蓋不排他的包含。例如包含了一些列步驟或單元的過(guò)程、方法、系統(tǒng)、產(chǎn)品或設(shè)備沒(méi)有限定于已列出的步驟或單元，而是可選地還包括沒(méi)有列出的步驟或單元，或可選地還包括對(duì)于這些過(guò)程、方法或設(shè)備固有的氣體步驟或單元。

本發(fā)明中，通過(guò)利用微納加工技術(shù)，精確控制調(diào)整熒光薄膜表面上每個(gè)像素對(duì)應(yīng)區(qū)域內(nèi)的熒光染料填充占空比，在一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)樣片上獲得多個(gè)厚度相同的熒光強(qiáng)度區(qū)域，且每個(gè)熒光強(qiáng)度區(qū)域具有精準(zhǔn)可控的特定的熒光染料填充占空比，使獲得復(fù)雜圖案的小尺度圖形成為可能。

本發(fā)明中，熒光染料填充占空比是指熒光薄膜中熒光染料填充部分面積與熒光薄膜面積的比值。

實(shí)施例1

如圖1所示，一種用于熒光儀器校準(zhǔn)測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)樣片，包括基板10及熒光薄膜20。所述熒光薄膜20設(shè)置于基板上10且包括具有不同熒光強(qiáng)度的多個(gè)熒光強(qiáng)度區(qū)域，多個(gè)熒光強(qiáng)度區(qū)域中每個(gè)熒光強(qiáng)度區(qū)域具有特定的熒光染料填充占空比。

應(yīng)說(shuō)明的是，本發(fā)明中，多個(gè)熒光強(qiáng)度區(qū)域中每個(gè)熒光強(qiáng)度區(qū)域具有特定的熒光染料填充占空比是指不同的熒光強(qiáng)度區(qū)域具有不同的熒光染料填充占空比。

在本實(shí)施例中，基板10為玻璃基板，熒光薄膜20例如包括四個(gè)熒光強(qiáng)度區(qū)域，分別為第一熒光強(qiáng)度區(qū)域210、第二熒光強(qiáng)度區(qū)域220、第三熒光強(qiáng)度區(qū)域230和第四熒光強(qiáng)度區(qū)域240。每個(gè)熒光強(qiáng)度區(qū)域具有特定的熒光染料填充占空比，例如第一熒光強(qiáng)度區(qū)域210的熒光染料填充占空比為25％，第二熒光強(qiáng)度區(qū)域220的熒光染料填充占空比為50％，第三熒光強(qiáng)度區(qū)域230的熒光染料填充占空比為75％和第四熒光強(qiáng)度區(qū)域240的熒光染料填充占空比為100％。

本發(fā)明中，通過(guò)對(duì)不同熒光強(qiáng)度區(qū)域的熒光染料填充比進(jìn)行精確控制，能夠獲得確定熒光強(qiáng)度的熒光強(qiáng)度區(qū)域，且各熒光強(qiáng)度區(qū)域具有精準(zhǔn)的薄膜厚度，實(shí)現(xiàn)了實(shí)際熒光強(qiáng)度的精確控制。相對(duì)于現(xiàn)有傳統(tǒng)的簡(jiǎn)單工藝，克服了只能制作大尺度圓形圖形的缺陷，使得制作小尺度的含有復(fù)雜圖案的圖形成為肯能。

實(shí)施例2

一種用于熒光儀器校準(zhǔn)測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)樣片，包括基板10及熒光薄膜20。所述熒光薄膜20設(shè)置于基板上10且包括具有不同熒光強(qiáng)度的多個(gè)熒光強(qiáng)度區(qū)域，熒光強(qiáng)度區(qū)域包括多個(gè)與像素對(duì)應(yīng)的重復(fù)單元，同一熒光強(qiáng)度區(qū)域中的重復(fù)單元具有相同的熒光染料填充占空比。

如圖2-圖5所示，本實(shí)施例中，例如熒光薄膜20包括四個(gè)熒光強(qiáng)度區(qū)域，分別為第一熒光強(qiáng)度區(qū)域210、第二熒光強(qiáng)度區(qū)域220、第三熒光強(qiáng)度區(qū)域230和第四熒光強(qiáng)度區(qū)域240。例如，第一熒光強(qiáng)度區(qū)域210包括m個(gè)第一重復(fù)單元，第二熒光強(qiáng)度區(qū)域220包括n個(gè)第二重復(fù)單元，第三熒光強(qiáng)度區(qū)域230包括p個(gè)第三重復(fù)單元，第四熒光強(qiáng)度區(qū)域240包括q個(gè)第四重復(fù)單元。其中，第一重復(fù)單元的熒光染料填充占空比為25％，第二復(fù)單元的熒光染料填充占空比為50％，第三重復(fù)單元的熒光染料填充占空比為75％和第四重復(fù)單元的熒光染料填充占空比為100％。

上述m、n、p、q為自然數(shù)，且其由熒光強(qiáng)度區(qū)域與像素尺寸的對(duì)應(yīng)關(guān)系決定。本實(shí)施例中，設(shè)定重復(fù)單元尺寸小于或等于像素尺寸，像素為人眼像素或ccd像素。基于此，根據(jù)選定的熒光強(qiáng)度區(qū)域大小包含重復(fù)單元大小個(gè)的個(gè)數(shù)確定上述m、n、p和q。上述ccd像素是指ccd/cmos上光電感應(yīng)元件的單元，經(jīng)過(guò)光電信號(hào)轉(zhuǎn)換、a/d轉(zhuǎn)換等步驟后，在輸出的照片上形成一個(gè)點(diǎn)，這些點(diǎn)是構(gòu)成整個(gè)畫面的最小單位。在視野范圍內(nèi)，ccd上每個(gè)像素點(diǎn)與熒光標(biāo)準(zhǔn)樣片的實(shí)物端的特定尺寸區(qū)域是一一對(duì)應(yīng)的，通過(guò)在熒光標(biāo)準(zhǔn)樣片上與像素點(diǎn)對(duì)應(yīng)的尺寸內(nèi)調(diào)整熒光染料填充占空比可以實(shí)現(xiàn)調(diào)整此區(qū)域的熒光強(qiáng)度等級(jí)。

重復(fù)單元為可重復(fù)的任意圖形如方形。本實(shí)施例中，重復(fù)單元為方形，且每個(gè)重復(fù)單元的方形中包括a區(qū)域、b區(qū)域、c區(qū)域和d區(qū)域。為了獲得上述熒光染料填充占空比，可以設(shè)置第一熒光強(qiáng)度區(qū)域210中m個(gè)第一重復(fù)單元的a區(qū)域?yàn)闊晒馊玖?；第二熒光?qiáng)度區(qū)域220中n個(gè)第二重復(fù)單元的a區(qū)域和b區(qū)域?yàn)闊晒馊玖?；第三熒光?qiáng)度區(qū)域230中p個(gè)第三重復(fù)單元的a區(qū)域、b區(qū)域和c區(qū)域?yàn)闊晒馊玖?；第四熒光?qiáng)度區(qū)域240中q個(gè)第四重復(fù)單元的全部四個(gè)區(qū)域?yàn)闊晒馊玖稀?/p>

應(yīng)說(shuō)明的是，不同熒光強(qiáng)度區(qū)域的面積和/或形狀可以相同或不相同，其熒光強(qiáng)度值應(yīng)根據(jù)校準(zhǔn)檢測(cè)需要而設(shè)定，并不限于本發(fā)明實(shí)施例中數(shù)值。如圖6和圖7所示，不同熒光強(qiáng)度區(qū)域中的重復(fù)單元具有相同的大小。每個(gè)熒光強(qiáng)度區(qū)域中具有相同的重復(fù)單元，且不同熒光強(qiáng)度區(qū)域中的重復(fù)單元可以相同或者不相同，例如第一重復(fù)單元中包括四個(gè)區(qū)域，第二重復(fù)單元中包括兩個(gè)區(qū)域等。進(jìn)一步地，本實(shí)施例中個(gè)，對(duì)重復(fù)單元中區(qū)域的劃分并不做限定，如重復(fù)單元中子區(qū)域可以為長(zhǎng)方形、正方形或其他可獲得特定熒光染料填充占空比的圖形。

實(shí)施例3

在上述實(shí)施例1和實(shí)施例2的基礎(chǔ)上，為了提高無(wú)機(jī)熒光材料在基板上的牢固程度，可在形成熒光薄膜的基板表面涂覆保護(hù)層，常用保護(hù)層為聚甲基硅氧烷(pdms)膜或聚乙烯醇(pva)膜等透明的低熒光背景膜，膜的厚度應(yīng)小于50微米。

實(shí)施例4

本發(fā)明還提供一種制作過(guò)程簡(jiǎn)單、對(duì)熒光強(qiáng)度控制精準(zhǔn)的用于熒光儀器校準(zhǔn)測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)樣片的制備方法，包括：

s100：制備基板，本實(shí)施例中基板為玻璃基板；

s200：在基板上制作熒光薄膜，具體包括：

s201：在熒光薄膜上形成具有不同熒光強(qiáng)度的多個(gè)熒光強(qiáng)度區(qū)域；

s202：基于微納加工技術(shù)在每個(gè)熒光強(qiáng)度區(qū)域上形成多個(gè)與像素對(duì)應(yīng)的重復(fù)單元，使同一熒光強(qiáng)度區(qū)域中的重復(fù)單元具有相同的熒光染料填充占空比。

實(shí)施例5

在光刻時(shí)，使與重復(fù)單元對(duì)應(yīng)的光刻板中透光或不透光部分的占空比與重復(fù)單元的熒光染料填充占空比相同。

在實(shí)施例4的基礎(chǔ)上，該標(biāo)準(zhǔn)樣片的制備方法具體包括：

1)、量取1～100ml熒光材料，例如但不限于cy3，使其均勻分布于100ml的光敏高分子材料中，例如但不限于su-8；

2)、取10ml以上混合溶液，旋涂于玻璃基板上，并在100℃下烘烤5分鐘；

3)、制作重復(fù)單元為0.5～2μm的光刻板，該重復(fù)單元的尺寸小于或等于人眼或ccd像素的尺寸，光刻板上包括多個(gè)熒光強(qiáng)度區(qū)域，且每個(gè)熒光強(qiáng)度區(qū)域中重復(fù)單元的透光或不透光部分的占空比為相同的特定值；

4)、使用上述光刻板對(duì)旋涂有光敏熒光材料的玻璃基板進(jìn)行曝光，曝光時(shí)間根據(jù)圖層厚度和光刻機(jī)的光功率綜合確定；

5)、顯影得到需要的含有多個(gè)特定微納結(jié)構(gòu)區(qū)域的熒光材料層。

本實(shí)施例中，通過(guò)掩模的制備達(dá)到上述效果。掩模的制備是光刻中的關(guān)鍵步驟之一，其作用是在一個(gè)平面上有選擇性的阻擋紫外光的通過(guò)，從而實(shí)現(xiàn)光刻膠的局部曝光。掩模的圖形及尺度按照上述實(shí)施例的設(shè)定由計(jì)算機(jī)設(shè)計(jì)完成，常用的設(shè)計(jì)軟件有l(wèi)-edit和autocad等。帶有圖形結(jié)構(gòu)的掩模常用介質(zhì)有透明膜和玻璃板，圖形結(jié)構(gòu)一般由透明和不透明的區(qū)域組成，掩模有時(shí)也被稱作原圖或光刻版。

本實(shí)施例中，根據(jù)重復(fù)單元的尺寸確定掩膜的制備方法：

1、當(dāng)分辨率要求不高時(shí)，掩?？捎煤?jiǎn)單的方法來(lái)制備。最常用的方法是使用高分辨率的激光照排機(jī)(3000dpi以上)將圖形打印在透明膠片上，這種方法的誤差一般為3-7μm，視激光照排機(jī)的精度而定。當(dāng)圖形的尺度為10μm量級(jí)時(shí)，此法制成的掩?？山埔暈榫_。

2、當(dāng)分辨率要求較高時(shí)，通過(guò)電子束曝光的方法可以得到精度更高的掩模版，精度可達(dá)100nm甚至10nm級(jí)。這種掩模版為金屬掩模，所以不論是精度、壽命還是使用時(shí)的方便程度，均要優(yōu)于打印方法制成的模版。應(yīng)說(shuō)明的是，還有其他一些方法可以得到掩模版，如納米壓印、準(zhǔn)分子激光刻蝕和光學(xué)縮小等方法。

應(yīng)說(shuō)明的是，本發(fā)明還可以直接應(yīng)該用納米壓印和電子束曝光等技術(shù)獲得重復(fù)單元。

實(shí)施例6

不同于實(shí)施例5采用的熒光材料均勻分布于光敏高分子材料中，本實(shí)施例中分別使用熒光材料和光敏高分子材料進(jìn)行光刻和曝光。

該標(biāo)準(zhǔn)樣片的制備方法具體包括：

1)、量取1～100ml熒光材料，例如但不限于cy3，旋涂于玻璃基板上；

2)、量取100ml光敏高分子材料旋涂于熒光材料上，例如但不限于su-8，并在100℃下烘烤5分鐘；

3)、制作重復(fù)單元為0.5～2μm的光刻板，該重復(fù)單元的尺寸小于或等于人眼或ccd像素的尺寸，光刻板上包括多個(gè)熒光強(qiáng)度區(qū)域，且每個(gè)熒光強(qiáng)度區(qū)域中重復(fù)單元的透光或不透光部分的占空比為相同的特定值；

4)、使用上述光刻板對(duì)旋涂有光敏熒光材料的玻璃基板進(jìn)行曝光，曝光時(shí)間根據(jù)圖層厚度和光刻機(jī)的光功率綜合確定；

5)、顯影得到需要的含有多個(gè)特定微納結(jié)構(gòu)區(qū)域的熒光材料層，刻蝕并去除殘留的光刻膠，得到標(biāo)準(zhǔn)樣片。

光刻膠采用正型光刻膠或負(fù)型光刻膠。對(duì)應(yīng)地，當(dāng)采用正型光刻膠時(shí)，在曝光時(shí)聚合物發(fā)生鏈斷裂分解而變得更容易溶解，每個(gè)熒光強(qiáng)度區(qū)域中重復(fù)單元的不透光部分的占空比為相同的特定值；當(dāng)采用負(fù)型光刻膠時(shí)，在曝光時(shí)發(fā)生交聯(lián)反應(yīng)形成較曝光前更難溶的聚合物，每個(gè)熒光強(qiáng)度區(qū)域中重復(fù)單元的透光部分的占空比為相同的特定值。

應(yīng)用本發(fā)明中的用于熒光儀器校準(zhǔn)測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)樣片，能夠精確控制調(diào)整熒光薄膜表面上每個(gè)像素對(duì)應(yīng)區(qū)域內(nèi)的熒光染料填充占空比，在一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)樣片上獲得多個(gè)厚度相同的熒光強(qiáng)度區(qū)域，且每個(gè)熒光強(qiáng)度區(qū)域具有精準(zhǔn)可控的特定的熒光染料填充占空比，使獲得復(fù)雜圖案的小尺度圖形成為可能。簡(jiǎn)化了制作工藝，優(yōu)化了校準(zhǔn)測(cè)量過(guò)程，提高了不同熒光強(qiáng)度區(qū)域圖形的復(fù)雜度和精細(xì)度，能夠獲得更多更加精準(zhǔn)的熒光強(qiáng)度，改善了熒光儀器校準(zhǔn)測(cè)量標(biāo)準(zhǔn)樣片的可用性。

實(shí)際中，生物芯片熒光檢測(cè)儀器需要經(jīng)常使用生物熒光強(qiáng)度標(biāo)準(zhǔn)樣片進(jìn)行校準(zhǔn)以盡可能降低測(cè)量誤差，單片包含多個(gè)熒光強(qiáng)度區(qū)域的標(biāo)準(zhǔn)樣片由于能夠在不更更換樣片的情況下對(duì)熒光檢測(cè)儀器的熒光強(qiáng)度、線性度和飽和度等關(guān)鍵參數(shù)進(jìn)行測(cè)試，因此，能夠使實(shí)際的測(cè)量和校準(zhǔn)過(guò)程更為便捷。

以對(duì)熒光顯微鏡的線性度的測(cè)試為例進(jìn)行說(shuō)明如下：當(dāng)光束照射到標(biāo)準(zhǔn)樣片并反射經(jīng)熒光顯微鏡收集，ccd上光電感應(yīng)元件經(jīng)過(guò)光電信號(hào)轉(zhuǎn)換和a/d轉(zhuǎn)換等步驟，不同熒光強(qiáng)度區(qū)域?qū)?yīng)不同的接收強(qiáng)度。若標(biāo)準(zhǔn)樣片不同熒光強(qiáng)度區(qū)域?qū)?yīng)的接收強(qiáng)度關(guān)系與各熒光強(qiáng)度區(qū)域的熒光強(qiáng)度關(guān)系在誤差范圍內(nèi)具有一致性，則說(shuō)明該熒光顯微鏡具有良好的線性度。

本發(fā)明實(shí)施例中提及的“多個(gè)”是指兩個(gè)或兩個(gè)以上。“和/或”，描述關(guān)聯(lián)對(duì)象的關(guān)聯(lián)關(guān)系，表示可以存在三種關(guān)系，例如，a和/或b，可以表示：?jiǎn)为?dú)存在a，同時(shí)存在a和b，單獨(dú)存在b這三種情況。

顯然，本發(fā)明的上述實(shí)施例僅僅是為清楚地說(shuō)明本發(fā)明所作的舉例，而并非是對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式的限定，對(duì)于所屬領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在上述說(shuō)明的基礎(chǔ)上還可以做出其它不同形式的變化或變動(dòng)，這里無(wú)法對(duì)所有的實(shí)施方式予以窮舉，凡是屬于本發(fā)明的技術(shù)方案所引伸出的顯而易見的變化或變動(dòng)仍處于本發(fā)明的保護(hù)范圍之列。