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一種通用背光電阻測(cè)試系統(tǒng)及測(cè)試方法與流程

文檔序號(hào):40435024發(fā)布日期:2024-12-24 15:08閱讀:來(lái)源:國(guó)知局

技術(shù)特征:

1.一種通用背光電阻測(cè)試系統(tǒng),其特征在于:包括上位機(jī)軟件和硬件控制和采集組件,所述上位機(jī)軟件包括modbus通信模塊、參數(shù)配置模塊、自檢學(xué)習(xí)模塊、檢測(cè)判斷模塊和數(shù)據(jù)處理模塊,硬件控制和采集組件包括硬件控制和采集組件包括功能切換模塊、通斷路自檢模塊、電阻值檢測(cè)模塊、背光供電模塊和外接引腳模塊;

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種通用背光電阻測(cè)試系統(tǒng),其特征在于,所述c型繼電器的常開(kāi)、常閉觸點(diǎn)和公共端共同構(gòu)成功能切換模塊,將c型繼電器標(biāo)記為y1-y48,則,y33~y48的公共端為外接引腳模塊;ai接口包括in1+、in1-~in8+、in8-,構(gòu)成電阻值監(jiān)測(cè)模塊;背光供電模塊包括vout與gnd,用于提供12v正電和接地;d?i接口包括x1~x16,構(gòu)成通斷路自檢模塊。

3.一種根據(jù)權(quán)利要求1或2任一項(xiàng)所述測(cè)試系統(tǒng)的通用背光電阻測(cè)試方法,其特征在于,包括如下步驟:

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種通用背光電阻測(cè)試方法,其特征在于,所述阻值測(cè)試的具體過(guò)程包括:

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種通用背光電阻測(cè)試方法,其特征在于,所述背光測(cè)試主要通過(guò)視覺(jué)相機(jī)對(duì)背光圖像數(shù)據(jù)進(jìn)行采集,對(duì)背光圖像數(shù)據(jù)的無(wú)背光字符、字符缺失的劣品情況進(jìn)行篩選過(guò)濾,并對(duì)經(jīng)過(guò)過(guò)濾后的待測(cè)試件背光字符的亮度與色度分布進(jìn)行分析處理,得到背光測(cè)試的整體偏差率p。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種通用背光電阻測(cè)試方法,其特征在于,所述數(shù)據(jù)處理模塊對(duì)待測(cè)試件品質(zhì)進(jìn)行評(píng)價(jià)區(qū)分的過(guò)程為:

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種通用背光電阻測(cè)試方法,其特征在于,所述電阻測(cè)試中阻值穩(wěn)定系數(shù)的獲得過(guò)程包括:

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種通用背光電阻測(cè)試方法,其特征在于,所述電阻測(cè)試中同一批次不同待測(cè)試件間阻值數(shù)據(jù)的整體偏差率的計(jì)算過(guò)程包括:

9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種通用背光電阻測(cè)試方法,其特征在于,所述背光測(cè)試中亮度和色度分布情況分析過(guò)程包括:


技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開(kāi)了一種通用背光電阻測(cè)試系統(tǒng)及測(cè)試方法,涉及電子測(cè)試系統(tǒng)技術(shù)領(lǐng)域;本發(fā)明通過(guò)上位機(jī)軟件、硬件控制和采集組件進(jìn)行實(shí)時(shí)MosBus通信,將多種測(cè)試需求進(jìn)行整合,通過(guò)切換觸點(diǎn)狀態(tài)快速進(jìn)行到對(duì)應(yīng)的測(cè)試需求中,可以一次性完成多項(xiàng)檢測(cè),大大提高了測(cè)試效率;同時(shí)在進(jìn)行基礎(chǔ)的檢測(cè)過(guò)程中,利用機(jī)器視覺(jué)技術(shù)對(duì)背光字符亮度和色度分布進(jìn)行分析處理,并與電阻的穩(wěn)定性分析結(jié)果進(jìn)行綜合,對(duì)單個(gè)待測(cè)試件進(jìn)行綜合評(píng)分,進(jìn)而依據(jù)評(píng)分對(duì)待測(cè)試件的品質(zhì)進(jìn)行區(qū)分,更精細(xì)化地對(duì)產(chǎn)品的檢測(cè)結(jié)果進(jìn)行分類(lèi),從另一方面也能夠發(fā)現(xiàn)生產(chǎn)中的問(wèn)題集中產(chǎn)生的位置,為生產(chǎn)產(chǎn)生指導(dǎo)價(jià)值。

技術(shù)研發(fā)人員:李東兵,姚衛(wèi)軍,程嘉訊,宋玉斌
受保護(hù)的技術(shù)使用者:黃山奧特斯電氣股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2024/12/23
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