1.一種用于電解槽的測量機構(gòu),其特征在于,包括:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測量機構(gòu),其特征在于,導(dǎo)向機構(gòu),包括:
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的測量機構(gòu),其特征在于,槽溫檢測機構(gòu),還包括:
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的測量機構(gòu),其特征在于,槽溫檢測機構(gòu),包括:
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的測量機構(gòu),其特征在于,第一去殼機構(gòu),包括:
6.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的測量機構(gòu),其特征在于,還包括:
7.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的測量機構(gòu),其特征在于,還包括:
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的測量機構(gòu),其特征在于,兩水平檢測機構(gòu),包括:
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的測量機構(gòu),其特征在于,兩水平檢測機構(gòu),還包括:
10.一種用于電解槽的測量系統(tǒng),其特征在于,包括:
11.一種用于測量系統(tǒng)的控制方法,其特征在于,應(yīng)用于如權(quán)利要求10所述的用于電解槽的測量系統(tǒng),測量機構(gòu)包括測量臂以及設(shè)置于測量臂的導(dǎo)向機構(gòu)、槽溫檢測機構(gòu)和第一去殼機構(gòu),導(dǎo)向機構(gòu)包括導(dǎo)向槽,槽溫檢測機構(gòu)包括設(shè)置于導(dǎo)向槽內(nèi)的熱電偶,控制方法包括:
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的控制方法,其特征在于,控制測量機構(gòu)采集電解槽的槽內(nèi)溫度,包括:
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的控制方法,其特征在于,控制移動機構(gòu)、測量支架和測量機構(gòu),將熱電偶的探頭端對準(zhǔn)目標(biāo)電解槽的爐孔位置,包括:
14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的控制方法,其特征在于,控制導(dǎo)向槽相對滑軌滑動,使熱電偶的探頭端浸沒于電解液的液面以下,包括:
15.根據(jù)權(quán)利要求11至14中任一項所述的控制方法,其特征在于,測量機構(gòu)還包括降溫機構(gòu);在控制第一去殼機構(gòu)沖擊導(dǎo)向槽,將導(dǎo)向槽內(nèi)的粘連物去除后,控制方法還包括:
16.一種用于測量系統(tǒng)的控制裝置,其特征在于,應(yīng)用于如權(quán)利要求10所述的用于電解槽的測量系統(tǒng),測量機構(gòu)包括測量臂以及設(shè)置于測量臂的導(dǎo)向機構(gòu)、槽溫檢測機構(gòu)和第一去殼機構(gòu),導(dǎo)向機構(gòu)包括導(dǎo)向槽,槽溫檢測機構(gòu)包括設(shè)置于導(dǎo)向槽內(nèi)的熱電偶,控制裝置包括:
17.一種用于測量系統(tǒng)的控制裝置,包括處理器和存儲有程序指令的存儲器,其特征在于,所述處理器被配置為能夠執(zhí)行如權(quán)利要求11至15中任一項所述的用于測量系統(tǒng)的控制方法。