1.一種雙面消影觸摸屏導(dǎo)電玻璃的加工方法，所述雙面消影觸摸屏導(dǎo)電玻璃是由上玻璃基板(1)、錫面(2)、空氣面(3)、上干涉層一(4)、上透明鈍化層(5)、上透明層(6)、上干涉層二(7)、下玻璃基板(8)、下干涉層(9)、下透明鈍化層(10)、下透明層(11)、ITO膜(12)構(gòu)成；其特征在于：上玻璃基板(1)和下玻璃基板(8)的兩個(gè)表面均為錫面(2)和空氣面(3)，上玻璃基板(1)和下玻璃基板(8)的空氣面(3)對(duì)應(yīng)貼合，上玻璃基板(1)上表面的錫面(2)上方設(shè)置上干涉層一(4)，上干涉層一(4)與上透明層(6)之間設(shè)置上透明鈍化層(5)，上透明層(6)上方設(shè)置上干涉層二(7)，上干涉層二(7)上方設(shè)置ITO膜(12)，下玻璃基板(8)下表面的錫面(2)下方設(shè)置下干涉層(9)，下干涉層(9)與下透明層(11)之間設(shè)置下透明鈍化層(10)，下透明層(11)下方設(shè)置ITO膜(12)；
所述上透明鈍化層(5)和下透明鈍化層(10)均采用透明的二氧化硅或透明的氮氧化硅；
所述上干涉層一(4)、上干涉層二(7)和下干涉層(9)均采用五氧化二鈮。
2.一種雙面消影觸摸屏導(dǎo)電玻璃的加工方法，其特征在于：
第一步，對(duì)上玻璃基板(1)和下玻璃基板(8)進(jìn)行處理，
A、對(duì)上玻璃基板(1)和下玻璃基板(8)進(jìn)行切割，先X切割，再Y切割，然后再掰片處理；
B、對(duì)切割后的上玻璃基板(1)和下玻璃基板(8)進(jìn)行磨邊和倒角，先X磨邊，再倒角，旋轉(zhuǎn)90°再對(duì)Y磨邊及倒角；
C、刷洗吹干；
D、對(duì)磨邊和倒角后的上玻璃基板(1)和下玻璃基板(8)進(jìn)行拋光；
E、再刷洗吹干；
第二步，對(duì)上玻璃基板(1)和下玻璃基板(8)濺射上干涉層一(4)、上透明鈍化層(5)、上透明層(6)、下干涉層(9)、下透明鈍化層(10)；
A、對(duì)拋光刷洗吹干后上玻璃基板(1)和下玻璃基板(8)沿空氣面(3)粘合在一起進(jìn)行加熱；采用的加熱溫度為150-280攝氏度；
B、利用磁控濺射真空鍍膜設(shè)備對(duì)加熱后的上玻璃基板(1)和下玻璃基板(8)的錫面(2)上同時(shí)濺射上干涉層一(4)和下干涉層(9)，上干涉層一(4)和下干涉層(9)均采用五氧化二鈮，上干涉層一(4)上方和下干涉層(9)的下方同時(shí)濺射上透明鈍化層(5)和下透明鈍化層(10)，上透明鈍化層(5)和下透明鈍化層(10)均采用透明的二氧化硅或透明的氮氧化硅，上透明鈍化層(5)上方濺射上透明層(6)；
第三步，在上玻璃基板(1)和下玻璃基板(8)第二步濺射的基礎(chǔ)上，進(jìn)行上干涉層二(7)、下透明層(11)和ITO膜(12)濺射；
A、對(duì)第二步濺射后的上玻璃基板(1)和下玻璃基板(8)進(jìn)行加熱；加熱溫度采用280-380攝氏度；
B、利用磁控濺射真空鍍膜設(shè)備，對(duì)加熱后的上玻璃基板(1)和下玻璃基板(8)濺射，在上玻璃基板(1)的上透明層(6)上方和下玻璃基板(8)的下透明鈍化層(10)下方，同時(shí)進(jìn)行上干涉層二(7)和下透明層(11)濺射，上干涉層二(7)采用五氧化二鈮，上干涉層二(7)的上方和下透明層(11)的下方同步濺射ITO膜(12)；
C、對(duì)濺射ITO膜(12)后的上玻璃基板(1)和下玻璃基板(8)，經(jīng)緩沖室做退火處理：先降溫至200攝氏度，再加溫至300攝氏度穩(wěn)定，完成對(duì)上玻璃基板(1)和下玻璃基板(8)的鍍膜。