1.原料瑕疵自動光學(xué)檢測規(guī)避方法,其特征在于,所述方法包括:
2.如權(quán)利要求1所述的原料瑕疵自動光學(xué)檢測規(guī)避方法,其特征在于,所述確定光學(xué)影像集之后,包括:
3.如權(quán)利要求1所述的原料瑕疵自動光學(xué)檢測規(guī)避方法,其特征在于,所述確定影像向量集,包括:
4.如權(quán)利要求1所述的原料瑕疵自動光學(xué)檢測規(guī)避方法,其特征在于,所述確定多層鄰接樣本,包括:
5.如權(quán)利要求4所述的原料瑕疵自動光學(xué)檢測規(guī)避方法,其特征在于,所述挖掘瑕疵圖網(wǎng)絡(luò),包括:
6.如權(quán)利要求1所述的原料瑕疵自動光學(xué)檢測規(guī)避方法,其特征在于,所述引入對比學(xué)習(xí)原理,監(jiān)督訓(xùn)練瑕疵檢測模塊,包括:
7.如權(quán)利要求5所述的原料瑕疵自動光學(xué)檢測規(guī)避方法,其特征在于,結(jié)合所述瑕疵檢測模塊進(jìn)行瑕疵對比檢測與預(yù)案規(guī)避決策,確定瑕疵檢出單,包括:
8.原料瑕疵自動光學(xué)檢測規(guī)避系統(tǒng),其特征在于,所述系統(tǒng)用于實施權(quán)利要求1-7任一項所述的原料瑕疵自動光學(xué)檢測規(guī)避方法,所述系統(tǒng)包括:
9.一種電子設(shè)備,其特征在于,所述電子設(shè)備包括:
10.一種計算機(jī)可讀存儲介質(zhì),其上存儲有計算機(jī)程序,其特征在于,該程序被處理器執(zhí)行時實現(xiàn)如權(quán)利要求1-7中任一項所述的原料瑕疵自動光學(xué)檢測規(guī)避方法。