技術(shù)特征：

1.一種理論光譜數(shù)據(jù)優(yōu)化方法，其特征在于，包括如下步驟：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的理論光譜數(shù)據(jù)優(yōu)化方法，其特征在于，所述結(jié)構(gòu)模型在第三方向上具有至少一個分層，所述第三方向與所述第一方向和所述第二方向兩兩垂直，所述第三方向為樣品的高度方向；

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的理論光譜數(shù)據(jù)優(yōu)化方法，其特征在于，對于不同的所述波長和所述結(jié)構(gòu)模型在所述第三方向上不同分層，所述收斂級次對對應的所述微擾值各不相同；

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的理論光譜數(shù)據(jù)優(yōu)化方法，其特征在于，所述根據(jù)所述收斂級次對集合以及對應的所述微擾值計算得到第三理論光譜數(shù)據(jù)的過程中，僅對于包含預設(shè)的待測形貌參數(shù)的分層的收斂級次對對應的傅里葉系數(shù)增加所述微擾值。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的理論光譜數(shù)據(jù)優(yōu)化方法，其特征在于，所述靈敏度為所述第三理論光譜數(shù)據(jù)與所述第四理論光譜數(shù)據(jù)的均方誤差，與所述收斂級次對集合中所有所述收斂級次對對應的所述微擾值的平均值的模的比值。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的理論光譜數(shù)據(jù)優(yōu)化方法，其特征在于，所述靈敏度為所述第三理論光譜數(shù)據(jù)與所述第四理論光譜數(shù)據(jù)的均方誤差，與所述收斂級次對集合中所有所述收斂級次對對應的所述微擾值中最大值的模的比值。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的理論光譜數(shù)據(jù)優(yōu)化方法，其特征在于，所述根據(jù)預設(shè)條件和所述靈敏度對所述收斂級次對集合進行篩選以獲取優(yōu)化級次對集合，包括如下步驟：

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的理論光譜數(shù)據(jù)優(yōu)化方法，其特征在于，所述根據(jù)預設(shè)條件和所述靈敏度對所述收斂級次對集合進行篩選以獲取優(yōu)化級次對集合，包括如下步驟：

9.根據(jù)權(quán)利要求1至權(quán)利要求8中任意一項所述的理論光譜數(shù)據(jù)優(yōu)化方法，其特征在于，

10.一種測量方法，其特征在于，包括如下步驟：

技術(shù)總結(jié)
本公開提供了一種理論光譜數(shù)據(jù)優(yōu)化方法及測量方法，其中理論光譜數(shù)據(jù)優(yōu)化方法能夠在獲取收斂級次對集合的情況下，通過獲取每個收斂級次對對應的靈敏度，并根據(jù)靈敏度對于收斂級次對集合進行篩選以獲得優(yōu)化級次對集合，根據(jù)優(yōu)化級次對集合獲取對應的理論光譜數(shù)據(jù)。本公開通過靈敏度表征了級次對的傅里葉系數(shù)的改變量對于理論光譜數(shù)據(jù)的改變量的影響，靈敏度的數(shù)值越小，說明對應級次對的傅里葉系數(shù)的改變量對于理論光譜數(shù)據(jù)的影響越小，對應級次對在理論光譜數(shù)據(jù)的計算過程中越不可或缺。由于優(yōu)化級次對集合中的級次對個數(shù)相較收斂級次對集合中的級次對個數(shù)更少，利用優(yōu)化級次對集合能夠提高理論光譜數(shù)據(jù)的計算效率。

技術(shù)研發(fā)人員：張曉雷,張厚道,馮新月,施耀明
受保護的技術(shù)使用者：上海精測半導體技術(shù)有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/1/2