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觸控面板隱形感測層的雷射圖案化設(shè)備及雷射圖案化網(wǎng)柵的制作方法

文檔序號:9523768閱讀:361來源:國知局
觸控面板隱形感測層的雷射圖案化設(shè)備及雷射圖案化網(wǎng)柵的制作方法【
技術(shù)領(lǐng)域
】】[0001]本發(fā)明涉及一種雷射圖案化技術(shù),特別涉及一種觸控面板的隱形感測層的雷射圖案化設(shè)備及雷射圖案化網(wǎng)柵?!尽?br>背景技術(shù)
】】[0002]近年來,觸控技術(shù)已經(jīng)逐漸廣泛應(yīng)用在一般的消費性電子商品上,例如行動通訊裝置、數(shù)字相機、數(shù)字音樂播放器(MP3)、個人數(shù)字助理器(PDA)、衛(wèi)星導(dǎo)航器(GPS)、掌上型計算機(hand-heldPC)、平板計算機(tablet),甚至薪新的超級行動計算機(UltraMobilePC,UMPC)等。觸控技術(shù)可以多種形式應(yīng)用在顯示面板上,例如是外加觸控面板在顯示面板上(外掛式),或是直接在顯示面板上制作觸控感測單元(內(nèi)嵌式,又分為on-cell與in-cell兩種)。[0003]但是,制作觸控感測單元的工藝需經(jīng)過成膜、曝光、顯影、蝕刻等工藝形成,其中在微影工藝的一連串步驟中,很容易在基板上殘留曝光階段使用的光阻和顯影液,而影響到后續(xù)進行的蝕刻或其它沉積工藝的質(zhì)量。而且,光阻涂布、軟烤、曝光、顯影、硬烤、去光阻、回火等工藝過于繁復(fù),例如回火通常需要進行烤箱回火步驟才能使非晶質(zhì)轉(zhuǎn)變成多晶質(zhì)材料,不但制作成本高、耗時,人為的疏失以及不當(dāng)?shù)墓に嚳刂埔捕己苋菀自斐苫鍙澢p壞或是污染?!尽?br/>發(fā)明內(nèi)容】】[0004]本發(fā)明的目的在于提供一種觸控面板的隱形感測層的雷射圖案化設(shè)備及雷射圖案化網(wǎng)柵,能夠簡化工藝而節(jié)省制作成本,并可得到較為準(zhǔn)確的移轉(zhuǎn)圖案,同時避免公知將基板送到烤箱回火而容易造成基板彎曲、損壞或污染等問題。[0005]為達上述目的,本發(fā)明的一種觸控面板的隱形感測層的雷射圖案化設(shè)備包括一加載單兀、一成膜單兀、一雷射單兀以及一蝕刻單兀,加載單兀提供一基板;成膜單兀形成一感測層在基板上;雷射單元將感測層以一具有一彎折的抗擾斑塊圖案與一感測層預(yù)定圖案進行一雷射回火處理,而形成一結(jié)構(gòu)變化層;蝕刻單元去除抗擾斑塊圖案以外與感測層預(yù)定圖案以外的部分感測層,而形成觸控面板的隱形感測層。[0006]在一實施例中,感測層是透過濺鍍、蒸鍍、印刷、噴墨印刷、涂布、或旋轉(zhuǎn)涂布形成。[0007]在一實施例中,感測層是非晶銦錫氧化物層或奈米金屬層。[0008]在一實施例中,感測層是奈米金屬層時,奈米金屬層包括一基質(zhì)及多個奈米金屬結(jié)構(gòu),多個奈米金屬結(jié)構(gòu)設(shè)置在基質(zhì)內(nèi)。[0009]在一實施例中,感測層透過雷射單元去除基質(zhì)而形成結(jié)構(gòu)變化層。[0010]在一實施例中,蝕刻單元以濕式蝕刻方式去除抗擾斑塊圖案以外與感測層預(yù)定圖案以外的部分感測層。[0011]在一實施例中,濕式蝕刻是草酸蝕刻。[0012]在一實施例中,基板是玻璃基板、高分子基板、塑料基板、或藍寶石基板。[0013]在一實施例中,結(jié)構(gòu)變化層是結(jié)晶銦錫氧化物層或奈米金屬導(dǎo)電層。[0014]在一實施例中,加載單元包括機械手臂、輸送帶、或滾輪組。[0015]在一實施例中,雷射圖案化設(shè)備還包括一輸出單元,以輸出具有隱形感測層的觸控面板。[0016]在一實施例中,雷射單元還包括一圖案化網(wǎng)柵,構(gòu)成具有抗擾斑塊圖案與感測層預(yù)定圖案的圖案。[0017]為達上述目的,本發(fā)明的一種觸控面板的隱形感測層的雷射圖案化網(wǎng)柵包括一透光基板以及一圖案化介電層,圖案化介電層設(shè)置在透光基板上。其中,圖案化介電層具有多個開口,多個開口構(gòu)成具有一彎折的抗擾斑塊圖案與一感測層預(yù)定圖案的圖案。[0018]在一實施例中,透光基板的材料包括氧化硅。[0019]在一實施例中,圖案化介電層的材料包括氟化鎂、氧化鈦、氧化鋁、氧化鉭、鈰氟化物、硫化鋅、氟化鋁、氧化鉿、氧化鋯、或其組合。[0020]在一實施例中,圖案化介電層的介電常數(shù)大于30。[0021]在一實施例中,圖案化介電層的圖案尺寸小于觸控面板的隱形感測層的圖案尺寸。[0022]承上所述,在本發(fā)明將觸控面板的感測層以具有彎折的抗擾斑塊圖案與感測層預(yù)定圖案進行雷射回火處理,再去除抗擾斑塊圖案以外與感測層預(yù)定圖案以外的部分感測層,而形成觸控面板的隱形感測層,這種方式能夠簡化工藝而節(jié)省制作成本,并可得到較為準(zhǔn)確的移轉(zhuǎn)圖案,同時避免公知將基板送到烤箱回火而容易造成基板彎曲、損壞或污染等問題。【【附圖說明】】[0023]圖1是本發(fā)明較佳實施例的觸控面板的隱形感測層的雷射圖案化設(shè)備的功能方塊圖。[0024]圖2是雷射單元的功能方塊圖。[0025]圖3A是雷射回火處理的立體示意圖。[0026]圖3B是圖3A沿A_A線段的剖面圖。[0027]圖4是感測層在工作雷射光照射前后的示意圖。[0028]圖5A是本發(fā)明較佳實施例的雷射圖案化隱形感測層基板的部分剖面圖。[0029]圖5B是本發(fā)明較佳實施例的雷射圖案化隱形感測層基板的上視圖。[0030]圖6A是本發(fā)明一實施例的雷射圖案化隱形感測層基板應(yīng)用在外掛式觸控顯示面板的不意圖。[0031]圖6B是本發(fā)明一實施例的雷射圖案化隱形感測層基板應(yīng)用在有機發(fā)光二極管觸控顯示裝置的示意圖。[0032]圖6C是本發(fā)明一實施例的雷射圖案化隱形感測層基板應(yīng)用在液晶觸控顯示裝置的示意圖。[0033]圖7是本發(fā)明一實施例的邊緣電場轉(zhuǎn)換型液晶觸控顯示面板的示意圖。[0034]圖8A是本發(fā)明一實施例的主動矩陣晶體管基板的布線示意圖。[0035]圖8B是圖8A的主動矩陣晶體管基板沿B_B線段的剖面示意圖。[0036]圖9A是本發(fā)明一實施例的主動矩陣晶體管基板的布線示意圖。[0037]圖9B是圖9A的主動矩陣晶體管基板沿C_C線段的剖面示意圖。【【具體實施方式】】[0038]以下將參考相關(guān)附圖,說明依本發(fā)明較佳實施例的觸控面板的隱形感測層的雷射圖案化設(shè)備及雷射圖案化網(wǎng)柵,其中相同的元件將以相同的參考符號加以說明。[0039]圖1是本發(fā)明較佳實施例的觸控面板的隱形感測層的雷射圖案化設(shè)備的功能方塊圖。請參考圖1所示,雷射圖案化設(shè)備1可用以形成顯示面板的畫素電極、觸控面板的觸控電極(觸控感測結(jié)構(gòu))、或其它線路例如導(dǎo)線或接地線等導(dǎo)電結(jié)構(gòu)。在本實施例中,是以形成觸控面板的隱形感測層(invisiblesensorlayer)為例進行說明。在此,雷射圖案化設(shè)備1包括一加載單元11、一成膜單元12、一雷射單元13以及一蝕刻單元14。[0040]加載單元11可提供一基板2(如圖2所示),以將基板2運送到其它單元作后續(xù)工藝。實施上,加載單元11可以是機械手臂,以夾持基板2而運送,或者以吸附的方式運送基板2,例如機械手臂貼附在基板2并將空氣抽出而真空吸附,或是利用電磁鐵吸附基板2而運送。當(dāng)然,以電磁鐵吸附的方式運送時,基板2需要是導(dǎo)磁性基材,或是事先貼合在一導(dǎo)磁元件以方便運送作業(yè)。除此之外,加載單元11也可以是滾輪組或輸送帶,以使基板2透過滾輪組或輸送帶運送到各單元的工作區(qū)。另外,當(dāng)基板2是可撓性基板時,加載單元11也可使用多個滾動條(rolltoroll)來運送基板2。[0041]基板2是透光材料,例如是玻璃基板、高分子基板、塑料基板、或藍寶石基板,在此是以玻璃基板為例?;?可以是剛性基板或可撓性基板,當(dāng)是可撓性基板時,其可應(yīng)用在可撓性顯示器。在應(yīng)用上,基板2可以是透光蓋板(coverglass),以減少應(yīng)用在觸控面板的厚度。[0042]成膜(deposit1n)單元12可形成一感測層21在基板2上。在一些實施例中,成膜單元12可例如包括一腔室,以及一些容置在腔室內(nèi)的沉積裝置,如沉積源或氣閥等。另夕卜,成膜單元12可透過調(diào)整氣閥的氣體供應(yīng)而控制在大氣壓力環(huán)境、真空環(huán)境或鈍氣環(huán)境的狀態(tài)下作業(yè)。當(dāng)基板2透過加載單元11運送到成膜單元12內(nèi),成膜單元12就可以濺鍛(sputtering)或蒸鍛(evaporat1n)形成感測層21在基板2上。在一些實施例中,成膜單元12可包括印刷機,透過印刷或噴墨印刷(ink-jetprinting)形成感測層21。在一些實施例中,成膜單元12可包括涂布機,透過涂布(coating)或旋轉(zhuǎn)涂布(spincoating)形成感測層21。[0043]圖當(dāng)前第1頁1 2 3 4 
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