技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本申請?zhí)峁┝酥圃靾D案化基底的方法。該方法可以應(yīng)用于制造裝置如電子器件或集成電路的過程，或者應(yīng)用于其他用途例如制造集成光學(xué)系統(tǒng)、磁疇存儲器的引導(dǎo)和檢測圖案、平板顯示器、LCD、薄膜磁頭或有機(jī)發(fā)光二極管；并且該方法可用于在用來制造離散磁道介質(zhì)如集成電路、位元圖案化介質(zhì)和/或磁存儲裝置如硬盤驅(qū)動器的表面上構(gòu)造圖案。

技術(shù)研發(fā)人員：具世真;李美宿;柳亨周;金廷根;尹圣琇;樸魯振;李濟(jì)權(quán);崔銀英
受保護(hù)的技術(shù)使用者：株式會社LG化學(xué)
技術(shù)研發(fā)日：2015.09.30
技術(shù)公布日：2017.08.18