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凸塊下金屬(UBM)及其形成方法與流程

文檔序號(hào):12613219閱讀:來(lái)源:國(guó)知局

技術(shù)特征:

1.一種器件封裝件,包括:

管芯;

位于所述管芯上方的扇出式再分布層(RDL);

位于所述扇出式RDL上方的凸塊下金屬(UBM),其中,所述UBM包括:

導(dǎo)電焊盤部分;和

環(huán)繞所述導(dǎo)電焊盤部分的溝槽;以及

設(shè)置在所述UBM的所述導(dǎo)電焊盤部分上的連接件,其中,所述扇出式RDL將所述連接件和所述UBM電連接至所述管芯。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的器件封裝件,其中,所述UBM還包括環(huán)繞所述溝槽的擁壁部分。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的器件封裝件,其中,所述擁壁部分的寬度為約10μm至約20μm。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的器件封裝件,其中,所述連接件不設(shè)置在所述UBM的所述擁壁部分上。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的器件封裝件,其中,所述溝槽的寬度在約10μm至約20μm之間。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的器件封裝件,其中,所述扇出式RDL包括導(dǎo)電線,其中,所述UBM形成在所述導(dǎo)電線的頂面上,并且其中,所述溝槽暴露所述導(dǎo)電線的部分。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的器件封裝件,其中,所述扇出式RDL包括在所述導(dǎo)電線的所述頂面上方延伸的聚合物層。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的器件封裝件,其中,所述UBM的全部設(shè)置在所述聚合物層的開口中。

9.一種器件封裝件,包括:

器件管芯;

位于所述器件管芯上方并且電連接至所述器件管芯的導(dǎo)電線;

在所述導(dǎo)電線的頂面上方延伸的聚合物層;

形成在所述導(dǎo)電線的頂面上的凸塊下金屬(UBM),其中,所述UBM至少部分地被所述聚合物層中的開口暴露,并且其中,所述UBM包括:

導(dǎo)電焊盤部分;和

在所述導(dǎo)電焊盤部分周圍形成環(huán)的擁壁部分,其中,所述擁壁部分通過(guò)溝槽與所述導(dǎo)電焊盤部分分開;以及

位于所述UBM的所述導(dǎo)電焊盤部分上的焊料球。

10.一種用于形成器件封裝件的方法,包括:

在管芯上方形成晶種層;

在所述晶種層上形成導(dǎo)電線;

在所述導(dǎo)電線和所述晶種層上方形成第一掩模層;

在所述第一掩模層中圖案化開口,其中,所述開口包括:

用于凸塊下金屬(UBM)的導(dǎo)電焊盤部分的第一開口;以及

用于所述UBM的擁壁部分的第二開口,其中,所述第二開口在所述第一開口周圍形成環(huán),并且其中,所述第一掩模層的部分保留設(shè)置在所述第一開口和所述第二開口之間;

在所述第一開口和所述第二開口中形成所述UBM;

去除所述第一掩模層;以及

將焊料球安裝至所述UBM的所述導(dǎo)電焊盤部分。

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