1.一種濕式基板處理裝置，用于對(duì)基板進(jìn)行處理，其特征在于，該濕式基板處理裝置具有：
工作臺(tái)，用于保持基板；以及
處理液供給機(jī)構(gòu)，用于對(duì)保持在所述工作臺(tái)上的基板供給處理液，
所述工作臺(tái)具有：
支撐面，用于支撐基板；
第一開口部，形成于所述支撐面；
第二開口部，形成于所述支撐面，被配置為至少局部地包圍所述第一開口部；
第一流體通路，穿過所述工作臺(tái)而延伸到所述支撐面的所述第一開口部，構(gòu)成為能夠與真空源連接；以及
第二流體通路，穿過所述工作臺(tái)而延伸到所述支撐面的所述第二開口部，構(gòu)成為能夠使所述第二開口部向大氣開放。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濕式基板處理裝置，其特征在于，
所述第二流體通路以貫通所述工作臺(tái)的至少一部分的方式延伸。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的濕式基板處理裝置，其特征在于，
所述工作臺(tái)具有在所述工作臺(tái)的表面擴(kuò)展的方向上延伸的擴(kuò)展緣部，所述第二開口部位于所述擴(kuò)展緣部，所述第二流體通路以貫通所述擴(kuò)展緣部的方式延伸。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濕式基板處理裝置，其特征在于，
所述第一流體通路構(gòu)成為能夠與流體供給源連接，該流體供給源用于通過所述第一流體通路而從所述第一開口部供給流體。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的濕式基板處理裝置，其特征在于，
所述流體具有由空氣、氮以及水構(gòu)成的組中的至少1個(gè)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濕式基板處理裝置，其特征在于，
所述工作臺(tái)構(gòu)成為能夠旋轉(zhuǎn)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濕式基板處理裝置，其特征在于，
該濕式基板處理裝置具有用于對(duì)所述基板進(jìn)行研磨處理的研磨墊。
8.一種濕式基板處理裝置，用于對(duì)基板進(jìn)行處理，其特征在于，該濕式基板處理裝置具有：
工作臺(tái)，用于保持基板；以及
處理液供給機(jī)構(gòu)，用于對(duì)保持在所述工作臺(tái)上的基板供給處理液，
所述工作臺(tái)具有：
支撐面，用于支撐基板；
第一開口部，形成于所述支撐面；
第二開口部，形成于所述支撐面，被配置為至少局部地包圍所述第一開口部；
第一流體通路，穿過所述工作臺(tái)而延伸到所述支撐面的所述第一開口部，構(gòu)成為能夠與真空源連接；以及
第二流體通路，穿過所述工作臺(tái)而延伸到所述支撐面的所述第二開口部，構(gòu)成為能夠與流體供給源連接。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的濕式基板處理裝置，其特征在于，
所述流體具有由空氣、氮以及水構(gòu)成的組中的至少1個(gè)。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的濕式基板處理裝置，其特征在于，
所述工作臺(tái)構(gòu)成為能夠旋轉(zhuǎn)。
11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的濕式基板處理裝置，其特征在于，
該濕式基板處理裝置具有用于對(duì)基板進(jìn)行研磨處理的研磨墊。
12.一種濕式基板處理裝置，用于對(duì)基板進(jìn)行處理，其特征在于，該濕式基板處理裝置具有：
工作臺(tái)，用于保持基板；以及
處理液供給機(jī)構(gòu)，用于對(duì)保持在所述工作臺(tái)上的基板供給處理液，
所述工作臺(tái)具有：
支撐面，用于支撐基板；
第一開口部，形成于所述支撐面；
第二開口部，形成于所述支撐面，被配置為至少局部地包圍所述第一開口部；
第一流體通路，穿過所述工作臺(tái)而延伸到所述支撐面的所述第一開口部，構(gòu)成為能夠與流體供給源連接；以及
第二流體通路，穿過所述工作臺(tái)而延伸到所述支撐面的所述第二開口部，構(gòu)成為能夠與真空源連接。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的濕式基板處理裝置，其特征在于，
所述流體具有由空氣、氮以及水構(gòu)成的組中的至少1個(gè)。
14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的濕式基板處理裝置，其特征在于，
第一流體通路構(gòu)成為能夠與真空源連接。
15.根據(jù)權(quán)利要求12所述的濕式基板處理裝置，其特征在于，
所述工作臺(tái)構(gòu)成為能夠旋轉(zhuǎn)。
16.根據(jù)權(quán)利要求12所述的濕式基板處理裝置，其特征在于，
該濕式基板處理裝置具有用于對(duì)基板進(jìn)行研磨處理的研磨墊。
17.一種襯墊件，能夠配置于用于對(duì)基板進(jìn)行保持的工作臺(tái)，其特征在于，
所述襯墊件在配置于權(quán)利要求1所述的濕式基板處理裝置的工作臺(tái)時(shí)，在與所述工作臺(tái)的所述第一開口部和所述第二開口部的位置對(duì)應(yīng)的位置上具有貫通孔。