本發(fā)明涉及半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種反應(yīng)腔體以及干法刻蝕機(jī)臺。

背景技術(shù)：

刻蝕是半導(dǎo)體制造工藝、微電子IC制造工藝以及微納制造工藝中的一種相當(dāng)重要的工藝步驟，是與光刻相聯(lián)系的圖形化(pattern)處理的一種主要工藝。廣義上來講，刻蝕成了通過溶液、反應(yīng)離子或其它機(jī)械方式來剝離、去除材料的一種統(tǒng)稱，成為微加工制造的一種普適叫法?？涛g最簡單最常用分類是干法刻蝕和濕法刻蝕。干法刻蝕種類很多，包括光揮發(fā)、氣相腐蝕、等離子體腐蝕等。干法刻蝕的各向異性好，選擇比高，可控性、靈活性、重復(fù)性好，易實(shí)現(xiàn)自動化，無化學(xué)廢液，處理過程未引入污染，潔凈度高。

干法刻蝕是在干法刻蝕機(jī)臺中反應(yīng)腔體內(nèi)進(jìn)行的，反應(yīng)腔體形成一密閉空間，所述反應(yīng)腔體的頂壁具有一頂板，一隔離板固定于所述頂板面向所述密閉空間的一面。在進(jìn)行刻蝕反應(yīng)時，所述密閉空間內(nèi)具有等離子體等反應(yīng)氣體，但是，所述頂板的材料一般為金屬材質(zhì)，所以需要設(shè)置所述隔離板以隔絕所述頂板與密閉空間。

然而，所述隔離板的材料為陶瓷，例如石英，所述隔離板易碎，在拆下及安裝所述隔離板時，所述隔離板容易發(fā)生破損，安裝難度大，耗時長，且所述隔離板的價格高?，F(xiàn)有技術(shù)中一般使用吸盤將所述隔離板從所述頂板上取下，但是經(jīng)過長期使用，吸盤吸力不足，導(dǎo)致所述隔離板容易掉落，造成損壞。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供一種反應(yīng)腔體，包括：

頂板，所述頂板的一面上設(shè)置有多個孔洞；

多個頂起部件，分別設(shè)置于多個所述孔洞內(nèi)；

隔離板，所述隔離板位于所述頂板的一面；以及

用于驅(qū)動所述頂起部件的驅(qū)動裝置，連接所述頂起部件，當(dāng)所述驅(qū)動裝置控制所述頂起部件未頂起時，所述頂起部件完全位于所述孔洞內(nèi)；當(dāng)所述驅(qū)動裝置控制所述頂起部件頂起時，所述頂起部件的一端從所述頂板的一面頂出所述孔洞，并將所述頂板頂起。

進(jìn)一步的，在所述反應(yīng)腔體中，所述頂起部件為彈性頂起部件。

進(jìn)一步的，在所述反應(yīng)腔體中，所述頂起部件包括一基塊以及一位于所述基塊一側(cè)的彈簧，所述驅(qū)動裝置控制所述基塊上下運(yùn)動。

進(jìn)一步的，在所述反應(yīng)腔體中，所述頂起部件還包括一頂帽，所述頂帽位于所述彈簧背離所述基塊的一側(cè)，所述頂帽的材料為柔性絕緣材料。

進(jìn)一步的，在所述反應(yīng)腔體中，所述頂帽的材料為全氟橡膠。

進(jìn)一步的，在所述反應(yīng)腔體中，所述基塊和彈簧的表面均為絕緣材料。

進(jìn)一步的，在所述反應(yīng)腔體中，所述頂板包括框架結(jié)構(gòu)，所述孔洞位于所述框架結(jié)構(gòu)內(nèi)。

進(jìn)一步的，在所述反應(yīng)腔體中，多個所述孔洞均勻排列在所述框架結(jié)構(gòu)上。

進(jìn)一步的，在所述反應(yīng)腔體中，所述反應(yīng)腔體包括多個所述驅(qū)動裝置，每個所述驅(qū)動裝置分別連接部分所述頂起部件。

根據(jù)本發(fā)明的另一面，還提供一種干法刻蝕機(jī)臺，包括如上任意一項(xiàng)所述的反應(yīng)腔體。

在本發(fā)明提供一種反應(yīng)腔體以及干法刻蝕機(jī)臺中，所述反應(yīng)腔體包括頂板、隔離板、多個頂起部件以及驅(qū)動裝置，所述頂板的一面上設(shè)置有多個孔洞，所述多個頂起部件分別設(shè)置于多個所述孔洞內(nèi)，所述隔離板位于所述頂板的一面，驅(qū)動裝置連接所述頂起部件。當(dāng)所述驅(qū)動裝置控制所述頂起部件未頂起時，所述頂起部件完全位于所述孔洞內(nèi)，所述隔離板可以固定于所述頂板上；當(dāng)需要將所述隔離板從所述頂板上取下時，所述驅(qū)動裝置控制所述頂起部件頂起，所述頂起部件的一端從所述頂板的一面頂出所述孔洞，所述頂起部件頂起所述隔離板，從而將所述隔離板從所述頂板上頂起，從而可以方便地將所述隔離板取走，避免對所述隔離板造成損傷。

進(jìn)一步的，所述頂起部件為彈性頂起部件，可以在所述頂起部件頂起所述隔離板時，增加所述頂起部件對所述隔離板的緩沖，進(jìn)一步避免對所述隔離板造成損傷。

附圖說明

圖1為本發(fā)明一實(shí)施例的反應(yīng)腔體的剖面圖；

圖2為本發(fā)明一實(shí)施例的頂板的一面俯視圖；

圖3為本發(fā)明一實(shí)施例中頂起部件未頂起隔離板的示意圖；

圖4為本發(fā)明一實(shí)施例中頂起部件頂起隔離板的示意圖；

圖5為本發(fā)明一實(shí)施例中頂起部件的示意圖。

具體實(shí)施例

下面將結(jié)合示意圖對本發(fā)明的反應(yīng)腔體以及干法刻蝕機(jī)臺進(jìn)行更詳細(xì)的描述，其中表示了本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例，應(yīng)該理解本領(lǐng)域技術(shù)人員可以修改在此描述的本發(fā)明，而仍然實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的有利效果。因此，下列描述應(yīng)當(dāng)被理解為對于本領(lǐng)域技術(shù)人員的廣泛知道，而并不作為對本發(fā)明的限制。

在下列段落中參照附圖以舉例方式更具體地描述本發(fā)明。根據(jù)下面說明，本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)和特征將更清楚。需說明的是，附圖均采用非常簡化的形式且均使用非精準(zhǔn)的比例，僅用以方便、明晰地輔助說明本發(fā)明實(shí)施例的目的。

本發(fā)明的核心思想在于，本發(fā)明提供一種反應(yīng)腔體，包括：頂板，所述頂板的一面上設(shè)置有多個孔洞；多個頂起部件，分別設(shè)置于多個所述孔洞內(nèi)；隔離板，所述隔離板位于所述頂板的一面；以及，用于驅(qū)動所述頂起部件的驅(qū)動裝置，連接所述頂起部件。

當(dāng)所述驅(qū)動裝置控制所述頂起部件未頂起時，所述頂起部件完全位于所述孔洞內(nèi)，所述隔離板可以固定于所述頂板上；當(dāng)需要將所述隔離板從所述頂板上取下時，所述驅(qū)動裝置控制所述頂起部件頂起，所述頂起部件的一端從所述頂板的一面頂出所述孔洞，所述頂起部件頂起所述隔離板，從而將所述隔離板從所述頂板上頂起，從而可以方便地將所述隔離板取走，避免對所述隔離板造成損傷。

根據(jù)上述核心思想，本發(fā)明還提供一種包括所述反應(yīng)腔體的干法刻蝕機(jī)臺。

以下請參閱圖1至圖5具體說明本發(fā)明的反應(yīng)腔體以及干法刻蝕機(jī)臺，在本實(shí)施例中，所述反應(yīng)腔體1為干法刻蝕機(jī)臺的反應(yīng)腔體，所述反應(yīng)腔體1內(nèi)進(jìn)行干法刻蝕反應(yīng)。

如圖1所示，所述反應(yīng)腔體1包括腔壁110、隔離板120、頂板130，所述隔離板120位于所述頂板130的一面131，所述腔壁110和隔離板120之間形成一密閉空間111，所述隔離板120安裝在所述頂板130面向所述密閉空間111的一面131，一般的，可以通過螺釘?shù)裙潭⑺龈綦x板120固定到頂板130的一面131，之后再將所述隔離板120和頂板130一起固定與所述腔壁110上方。所述隔離板120的材料可以為石英等陶瓷材料，所述隔離板120容易發(fā)生破損。

所述頂板130的一面131上設(shè)置有多個孔洞132，多個頂起部件140分別設(shè)置于多個所述孔洞132內(nèi)，所述孔洞132的尺寸并不做具體限制，較佳的，所述孔洞132的深度可以為1cm～5cm，例如3cm，所述孔洞132的直徑可以為1cm～10cm，例如3cm、5cm，可以容納所述頂起部件140，又不至于影響所述頂板130的性能。

如圖2所示，在本實(shí)施例中，所述頂板130包括框架結(jié)構(gòu)1301，所述孔洞132位于所述框架結(jié)構(gòu)1301內(nèi)。在本實(shí)施例中，所述框架結(jié)構(gòu)1301的材料為金屬，例如金屬鋁等等。所述框架結(jié)構(gòu)1301的框架內(nèi)還可以設(shè)置有陶瓷塊1302，所述陶瓷塊1302的材料可以為石英等。多個所述孔洞132均勻排列在所述框架結(jié)構(gòu)1301上，以保證所述頂起部件140的分布均勻，在頂起所述隔離板120時，可以保證所述隔離板120的受力均勻。

如圖2所示，所述反應(yīng)腔體1包括驅(qū)動裝置150，所述驅(qū)動裝置150連接所述頂起部件140，用于驅(qū)動所述頂起部件140的運(yùn)動，所述驅(qū)動裝置150可以通過連接件151連接所述頂起部件140。所述驅(qū)動裝置150的具體設(shè)置并不做具體限制，可以為連桿驅(qū)動等方式，此為本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以理解的，在此不作贅述。

所述反應(yīng)腔體1可以包括一個或多個驅(qū)動裝置150，當(dāng)所述反應(yīng)腔體1包括多個驅(qū)動裝置150時，每個所述驅(qū)動裝置150分別連接部分所述頂起部件140，以方便對每個所述頂起部件140達(dá)到精確控制。在圖2中，所述反應(yīng)腔體1可以包括兩個驅(qū)動裝置150，所述驅(qū)動裝置150相對于所述頂板130對稱設(shè)置。

當(dāng)所述反應(yīng)腔體1正常工作時，如圖1所示，所述隔離板120安裝在所述頂板130。如需要將所述隔離板120卸下時，需要先將所述隔離板120和頂板130一起從所述腔壁110上卸下，如圖3所示，將所述隔離板120面向上設(shè)置，并將用于固定所述隔離板120和頂板130的螺釘卸下，所述頂板130的一面131支撐所述隔離板120，此時所述驅(qū)動裝置150控制所述頂起部件140未頂起時，所述頂起部件140完全位于所述孔洞132內(nèi)；然后，所述驅(qū)動裝置150控制所述頂起部件140頂起時，所述頂起部件140的一端從所述頂板130的一面131頂出所述孔洞132，所述頂起部件140高出所述頂板130的一面131，所述頂起部件140頂起所述隔離板120，從而將所述隔離板120從所述頂板130上頂起，從而可以方便地將所述隔離板120取走，避免對所述隔離板120造成損傷。

同理，亦可以利用所述頂起部件140將所述隔離板120放置于所述頂板130的一面131，根據(jù)本發(fā)明的上述描述，此為本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員可以理解的，在此不作贅述。

較佳的，所述頂起部件140為彈性頂起部件，可以在所述頂起部件140頂起所述隔離板120時，增加所述頂起部件140對所述隔離板120的緩沖，進(jìn)一步避免對所述隔離板120造成損傷。

在本實(shí)施例中，如圖5所示，所述頂起部件140包括一基塊141以及彈簧142。為了避免所述彈簧142對所述隔離板120劃傷，較佳的，所述頂起部件140還包括一頂帽143，所述頂帽143位于所述彈簧142背離所述基塊141的一側(cè)，所述頂帽143位于所述頂起部件140的一端，所述基塊141位于所述頂起部件140的另一端，所述頂帽143用于頂出所述隔離板120，在本實(shí)施例中，可以通過所述基塊141將所述頂起部件140設(shè)置于所述孔洞132，具體的設(shè)置方式為本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員可以理解的，在此不作贅述。

所述頂帽143的材料為柔性絕緣材料，優(yōu)選的，所述頂帽的材料為全氟橡膠。所述基塊141和彈簧142的表面均為絕緣材料，例如，所述基塊141可以為聚醚醚酮包覆金屬，所述彈簧142可以為絕緣塑料包覆金屬等等。

在本實(shí)施例中，所述驅(qū)動裝置150控制所述基塊141上下運(yùn)動，所述基塊141帶動所述彈簧142和頂帽143運(yùn)動，從而頂起所述隔離板120。

本發(fā)明的較佳實(shí)施例如上所述，但本發(fā)明并不限于上述公開的范圍，例如：

在本發(fā)明的其它實(shí)施例中，所述頂起部件并不限于包括一基塊以及彈簧，例如，所述頂起部件還可以為一塊彈性橡膠等等，只要可以緩沖對所述隔離板的應(yīng)力，亦在本發(fā)明的思想范圍之內(nèi)；

此外，所述反應(yīng)腔體并不限于為干法刻蝕機(jī)臺的腔體，在本發(fā)明的其它實(shí)施例中，也可將本發(fā)明的所述反應(yīng)腔體其它的半導(dǎo)體制造的機(jī)臺中，其具體實(shí)施步驟與思路和本發(fā)明的上述實(shí)施例相似，在本發(fā)明實(shí)施例的啟示下，這一應(yīng)用的延伸對本領(lǐng)域普通技術(shù)人員而言是易于理解和實(shí)現(xiàn)的，在此不再贅述。

綜上，本發(fā)明提供一種反應(yīng)腔體，所述反應(yīng)腔體包括頂板、隔離板、多個頂起部件以及驅(qū)動裝置，所述頂板的一面上設(shè)置有多個孔洞，所述多個頂起部件分別設(shè)置于多個所述孔洞內(nèi)，所述隔離板位于所述頂板的一面，驅(qū)動裝置連接所述頂起部件。當(dāng)所述驅(qū)動裝置控制所述頂起部件未頂起時，所述頂起部件完全位于所述孔洞內(nèi)，所述隔離板可以固定于所述頂板上；當(dāng)需要將所述隔離板從所述頂板上取下時，所述驅(qū)動裝置控制所述頂起部件頂起，所述頂起部件的一端從所述頂板的一面頂出所述孔洞，所述頂起部件頂起所述隔離板，從而將所述隔離板從所述頂板上頂起，從而可以方便地將所述隔離板取走，避免對所述隔離板造成損傷。

顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本發(fā)明進(jìn)行各種改動和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。