1.一種印刷用柔性襯底，其特征在于，包括柔性透明導(dǎo)電襯底、位于所述柔性透明導(dǎo)電襯底上方的第一柔性透明絕緣襯底、位于第一柔性透明絕緣襯底上方的第二柔性透明絕緣襯底；所述第一柔性透明絕緣襯底上分布有若干深入到所述柔性透明導(dǎo)電襯底中的第一凹槽，所述第二柔性透明絕緣襯底上分布有若干第二凹槽，所述第一凹槽與所述第二凹槽上下對(duì)應(yīng)設(shè)置，使第一柔性透明絕緣襯底與第二柔性透明絕緣襯底無(wú)縫拼接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的印刷用柔性襯底，其特征在于，所述第一柔性透明絕緣襯底和第二柔性透明絕緣襯底均為聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯膜、聚對(duì)萘二甲酸乙二醇酯膜、聚酰亞胺膜、聚碳酸酯膜、聚氯乙烯膜或聚乙烯醇膜、聚甲基丙烯酸甲酯膜、聚苯乙烯膜、聚氯乙烯膜、聚α-甲基苯乙烯樹(shù)脂膜、聚對(duì)苯二甲酸丁二醇酯膜、聚碳酸亞丙酯膜、天然橡膠膜、丁腈橡膠膜、硅膜、碳化硅膜、硫化砷膜、二氧化硅膜、丁基橡膠膜、異戊二烯橡膠膜、酚醛樹(shù)脂膜、丁苯橡膠膜、低密度聚乙烯膜、線性低密度聚乙烯膜中的一種或多種。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的印刷用柔性襯底，其特征在于，所述柔性透明導(dǎo)電襯底為石墨烯、金屬薄片、聚對(duì)苯二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、聚酰亞胺、硒化鉍納米薄片、碲化鉍納米薄片，碲化銻納米薄片中的一種或多種。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的印刷用柔性襯底，其特征在于，所述第一凹槽為半球狀凹槽，所述第二凹槽為圓柱狀凹槽。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的印刷用柔性襯底，其特征在于，所述半球狀凹槽內(nèi)填滿有透明電極材料。
6.一種印刷用柔性襯底的制備方法，其特征在于，包括步驟：
A1、先在第一柔性透明絕緣襯底上生長(zhǎng)柔性透明導(dǎo)電襯底，然后對(duì)第一柔性透明絕緣襯底進(jìn)行刻蝕，得到若干深入到所述柔性透明導(dǎo)電襯底中的第一凹槽；同時(shí)，在第二柔性透明絕緣襯底上直接進(jìn)行刻蝕，得到若干第二凹槽，其中所述第一凹槽與所述第二凹槽上下對(duì)應(yīng)設(shè)置；
A2、將第一柔性透明絕緣襯底與第二柔性透明絕緣襯底按照第一凹槽和第二凹槽的位置進(jìn)行無(wú)縫拼接，制備得到印刷用柔性襯底；然后對(duì)所述印刷用柔性襯底進(jìn)行壓印處理，完成制備。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述印刷用柔性襯底的制備方法，其特征在于，所述步驟A1中，先對(duì)第一柔性透明絕緣襯底進(jìn)行刻蝕，得到若干圓柱狀的第一凹槽；然后進(jìn)行壓印處理，得到末端為半球狀的第一凹槽。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述印刷用柔性襯底的制備方法，其特征在于，在所述步驟A1中，通過(guò)真空蒸鍍的手段對(duì)第一凹槽蒸鍍一層透明電極材料。
9.一種量子點(diǎn)發(fā)光二級(jí)管的制備方法，其特征在于，包括步驟：
A、在如權(quán)利要求1~5任一所述的印刷用柔性襯底上制備空穴傳輸層；
B、接著在空穴傳輸層上制備量子點(diǎn)發(fā)光層；
C、然后在量子點(diǎn)發(fā)光層上制備電子傳輸層；
D、最后在電子傳輸層上蒸鍍陰極層，然后進(jìn)行封裝，得到量子點(diǎn)發(fā)光二極管。
10.一種量子點(diǎn)發(fā)光二極管，其特征在于，所述量子點(diǎn)發(fā)光二極管自下而上依次包括權(quán)利要求1~5任一所述的印刷用柔性襯底、空穴傳輸層、量子點(diǎn)發(fā)光層、電子傳輸層及陰極層。