本發(fā)明涉及半導體制造領域，更具體地說，本發(fā)明涉及一種監(jiān)控不同層金屬層間隔離性能的測試結構以及一種監(jiān)控不同層金屬層間隔離性能的測試方法。

背景技術：

在55納米及其以下工藝中，刻蝕工藝對透光率愈發(fā)敏感，相同工藝條件，在不同產(chǎn)品中應用時，可能因為透光率的差異導致刻蝕量的偏差，從而造成過度刻蝕。在后端金屬刻蝕工藝中，會發(fā)現(xiàn)因此造成不同金屬層間的短路，如圖1中圓圈圈出的部分所示。對于這種情況，常規(guī)方法無法在線有效監(jiān)控，常常在最后電路失效后，通過切片才能發(fā)現(xiàn)，這樣大大延長了新產(chǎn)品開發(fā)周期，浪費了較大的人力和物力。

由此，期望提供一種能夠及時、準確地在線發(fā)現(xiàn)問題的監(jiān)控不同層金屬層間隔離性能的測試結構。

技術實現(xiàn)要素：

本發(fā)明所要解決的技術問題是針對現(xiàn)有技術中存在上述缺陷，提供一種監(jiān)控不同層金屬層間隔離性能的測試結構，其中能夠通過對其電學性能的測試來監(jiān)控后端金屬層間隔離能力，可以及時、準確地在線發(fā)現(xiàn)問題，從而縮短產(chǎn)品開發(fā)周期。

為了實現(xiàn)上述技術目的，根據(jù)本發(fā)明，提供了一種監(jiān)控不同層金屬層間隔離性能的測試結構，包括：第一測試端、與第一測試端連接的第一測試金屬線、與第一測試金屬線的至少一部分并行連接的冗余金屬線、第二測試端、以及與第二測試端連接的第二測試金屬線；其中，第二測試金屬線包括與冗余金屬線垂直布置的多條并行金屬線；其中，第一測試金屬線和冗余金屬線處于第一金屬布線層，第二測試金屬線處于第二金屬布線層，而且第一金屬布線層和第二金屬布線層是相鄰金屬布線層。

優(yōu)選地，多條并行金屬線在延伸方向超過所述第一測試金屬線的所述至少一部分的長度依次遞減。

優(yōu)選地，第一測試端上施加的電壓大小從0V逐漸改到目標電壓，第二測試端用于檢測目標電流。

優(yōu)選地，在第二測試端檢測到電流則判斷有工藝失效。

優(yōu)選地，在第二測試端沒有檢測到目標電流則判斷工藝合格。

為了實現(xiàn)上述技術目的，根據(jù)本發(fā)明，還提供了一種監(jiān)控不同層金屬層間隔離性能的測試方法，包括：第一步驟：形成監(jiān)控不同層金屬層間隔離性能的測試結構；第二步驟：在第一測試端上施加的電壓大小從0V逐漸改到目標電壓，同時在第二測試端檢測目標電流。

優(yōu)選地，所述監(jiān)控不同層金屬層間隔離性能的測試結構包括：第一測試端、與第一測試端連接的第一測試金屬線、與第一測試金屬線的至少一部分并行連接的冗余金屬線、第二測試端、以及與第二測試端連接的第二測試金屬線；其中，第二測試金屬線包括與冗余金屬線垂直布置的多條并行金屬線；其中，第一測試金屬線和冗余金屬線處于第一金屬布線層，第二測試金屬線處于第二金屬布線層，而且第一金屬布線層和第二金屬布線層是相鄰金屬布線層。

優(yōu)選地，多條并行金屬線在延伸方向超過所述第一測試金屬線的所述至少一部分的長度依次遞減。

優(yōu)選地，在第二測試端檢測到電流則判斷有工藝失效。

優(yōu)選地，在第二測試端沒有檢測到目標電流則判斷工藝合格。

本發(fā)明提供了一種監(jiān)控不同層金屬層間隔離性能的測試結構，其中能夠通過對其電學性能的測試來監(jiān)控后端金屬層間隔離能力，可以及時、準確地在線發(fā)現(xiàn)問題，從而縮短產(chǎn)品開發(fā)周期。

附圖說明

結合附圖，并通過參考下面的詳細描述，將會更容易地對本發(fā)明有更完整的理解并且更容易地理解其伴隨的優(yōu)點和特征，其中：

圖1示意性地示出了后端金屬刻蝕工藝中造成的不同金屬層間的短路的電子顯微示圖。

圖2示意性地示出了根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實施例的監(jiān)控不同層金屬層間隔離性能的測試結構的示意圖。

圖3示意性地示出了根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實施例的監(jiān)控不同層金屬層間隔離性能的測試方法的流程圖。

需要說明的是，附圖用于說明本發(fā)明，而非限制本發(fā)明。注意，表示結構的附圖可能并非按比例繪制。并且，附圖中，相同或者類似的元件標有相同或者類似的標號。

具體實施方式

為了使本發(fā)明的內(nèi)容更加清楚和易懂，下面結合具體實施例和附圖對本發(fā)明的內(nèi)容進行詳細描述。

圖2示意性地示出了根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實施例的監(jiān)控不同層金屬層間隔離性能的測試結構的示意圖。

如圖2所示，根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實施例的監(jiān)控不同層金屬層間隔離性能的測試結構包括：第一測試端100、與第一測試端100連接的第一測試金屬線10、與第一測試金屬線10的至少一部分并行連接的冗余金屬線20、第二測試端200、以及與第二測試端200連接的第二測試金屬線30。

其中，第二測試金屬線30包括與冗余金屬線20垂直布置的多條并行金屬線(例如圖2所示的第一并行金屬線31、第二并行金屬線32和第三并行金屬線33)。

其中，多條并行金屬線在延伸方向超過所述第一測試金屬線10的所述至少一部分的長度依次遞減。由于多條并行金屬線在延伸方向超過所述第一測試金屬線10的所述至少一部分的長度依次遞減，分梯度變化，從而可以涵蓋不同的工藝弱點。

其中，第一測試金屬線10和冗余金屬線20處于第一金屬布線層，第二測試金屬線30處于第二金屬布線層，而且第一金屬布線層和第二金屬布線層是相鄰金屬布線層。

優(yōu)選地，在測試時，第一測試端100上施加的電壓大小從0V逐漸改到目標電壓，第二測試端200用于檢測目標電流。在第二測試端200檢測到電流則判斷有工藝失效，在第二測試端200沒有檢測到目標電流則判斷工藝合格。

圖3示意性地示出了根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實施例的監(jiān)控不同層金屬層間隔離性能的測試方法的流程圖。

如圖3所示，根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實施例的監(jiān)控不同層金屬層間隔離性能的測試方法包括：

第一步驟S1：形成圖2所述的根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實施例的監(jiān)控不同層金屬層間隔離性能的測試結構；

第二步驟S2：在第一測試端100上施加的電壓大小從0V逐漸改到目標電壓，同時在第二測試端200檢測目標電流；

其中，在第二測試端200檢測到電流則判斷有工藝失效，在第二測試端200沒有檢測到目標電流則判斷工藝合格。

本發(fā)明提供了一種監(jiān)控不同層金屬層間隔離性能的測試結構，其中能夠通過對其電學性能的測試來監(jiān)控后端金屬層間隔離能力，可以及時、準確地在線發(fā)現(xiàn)問題，從而縮短產(chǎn)品開發(fā)周期。

此外，需要說明的是，除非特別說明或者指出，否則說明書中的術語“第一”、“第二”、“第三”等描述僅僅用于區(qū)分說明書中的各個組件、元素、步驟等，而不是用于表示各個組件、元素、步驟之間的邏輯關系或者順序關系等。

可以理解的是，雖然本發(fā)明已以較佳實施例披露如上，然而上述實施例并非用以限定本發(fā)明。對于任何熟悉本領域的技術人員而言，在不脫離本發(fā)明技術方案范圍情況下，都可利用上述揭示的技術內(nèi)容對本發(fā)明技術方案作出許多可能的變動和修飾，或修改為等同變化的等效實施例。因此，凡是未脫離本發(fā)明技術方案的內(nèi)容，依據(jù)本發(fā)明的技術實質對以上實施例所做的任何簡單修改、等同變化及修飾，均仍屬于本發(fā)明技術方案保護的范圍內(nèi)。

而且還應該理解的是，本發(fā)明并不限于此處描述的特定的方法、化合物、材料、制造技術、用法和應用，它們可以變化。還應該理解的是，此處描述的術語僅僅用來描述特定實施例，而不是用來限制本發(fā)明的范圍。必須注意的是，此處的以及所附權利要求中使用的單數(shù)形式“一個”、“一種”以及“該”包括復數(shù)基準，除非上下文明確表示相反意思。因此，例如，對“一個元素”的引述意味著對一個或多個元素的引述，并且包括本領域技術人員已知的它的等價物。類似地，作為另一示例，對“一個步驟”或“一個裝置”的引述意味著對一個或多個步驟或裝置的引述，并且可能包括次級步驟以及次級裝置。應該以最廣義的含義來理解使用的所有連詞。因此，詞語“或”應該被理解為具有邏輯“或”的定義，而不是邏輯“異或”的定義，除非上下文明確表示相反意思。此處描述的結構將被理解為還引述該結構的功能等效物?？杀唤忉尀榻频恼Z言應該被那樣理解，除非上下文明確表示相反意思。

而且，本發(fā)明實施例的方法和/或系統(tǒng)的實現(xiàn)可包括手動、自動或組合地執(zhí)行所選任務。而且，根據(jù)本發(fā)明的方法和/或系統(tǒng)的實施例的實際器械和設備，可利用操作系統(tǒng)通過硬件、軟件或其組合實現(xiàn)幾個所選任務。