1.一種陣列基板，包括形成在襯底基板上的功能膜層圖形和覆蓋功能膜層圖形的絕緣層，其特征在于，所述絕緣層表面的段差小于預設閾值。
2.根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述功能膜層圖形包括柵金屬層圖形，所述絕緣層包括覆蓋柵金屬層圖形的柵絕緣層；所述陣列基板還包括：
第一犧牲層，所述柵金屬層圖形嵌入所述第一犧牲層，且所述柵金屬層圖形的表面與所述第一犧牲層的表面齊平。
3.根據權利要求2所述的陣列基板，其特征在于，
所述功能膜層圖形包括源漏金屬層圖形，所述絕緣層包括覆蓋源漏金屬層圖形的鈍化層；所述陣列基板還包括：
第二犧牲層，所述陣列基板的有源層嵌入所述第二犧牲層，且所述有源層的表面與所述第二犧牲層的表面位于同一平面上，所述源漏金屬層圖形形成在該平面上。
4.根據權利要求3所述的陣列基板，其特征在于，
所述第二犧牲層為柵絕緣層，所述有源層嵌入但不貫通所述柵絕緣層。
5.根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，
所述功能膜層圖形包括源漏金屬層圖形和有源層，所述絕緣層包括覆蓋源漏金屬層圖形和有源層的柵絕緣層；所述陣列基板還包括：
第三犧牲層，所述陣列基板的有源層和源漏金屬層圖形嵌入所述第三犧牲層，且所述有源層的表面與所述第三犧牲層的表面齊平。
6.根據權利要求5所述的陣列基板，其特征在于，所述功能膜層圖形包括柵金屬層圖形，所述柵金屬層圖形嵌入但不貫通所述柵絕緣層，且所述柵金屬層圖形的表面與所述柵絕緣層的表面齊平。
7.根據權利要求2所述的陣列基板，其特征在于，
所述功能膜層圖形包括源漏金屬層圖形，所述絕緣層包括覆蓋源漏金屬層圖形的鈍化層；所述陣列基板還包括：
第四犧牲層，所述陣列基板的源漏金屬層圖形嵌入所述第四犧牲層，且所述源漏金屬層圖形的表面與所述第四犧牲層的表面位于同一平面上，所述柵絕緣層位于所述源漏金屬層圖形與柵金屬層圖形之間。
8.根據權利要求7所述的陣列基板，其特征在于，所述功能膜層圖形包括形成在所述柵絕緣層上的有源層，所述陣列基板還包括：
第五犧牲層，所述陣列基板的有源層嵌入所述第五犧牲層，且所述有源層的表面與所述第五犧牲層的表面齊平，所述有源層與所述源漏金屬層接觸，并位于所述源漏金屬層與所述柵絕緣層之間。
9.根據權利要求8所述的陣列基板，其特征在于，所述第五犧牲層為所述柵絕緣層，所述源漏金屬層圖形嵌入但不貫通所述柵絕緣層。
10.一種陣列基板的制作方法，其特征在于，包括：
在襯底基板上形成的功能膜層圖形和覆蓋功能膜層圖形的絕緣層的步驟，所述絕緣層表面的段差小于預設閾值。
11.根據權利要求10所述的陣列基板的制作方法，其特征在于，
所述絕緣層包括犧牲層，在襯底基板上形成的功能膜層圖形和覆蓋功能膜層圖形的絕緣層的步驟，包括：
在襯底基板上形成犧牲層；
對所述犧牲層進行刻蝕，使所述犧牲層形成凹槽結構；
在所述犧牲層的凹槽結構內形成功能膜層圖形，所述功能膜層圖形的表面與所述犧牲層的表面齊平。
12.一種顯示面板，其特征在于，包括如權利要求1-9任一項所述的陣列基板。
13.一種顯示裝置，其特征在于，包括如權利要求12所述的顯示面板。