本實用新型涉及半導體設備制造技術領域，具體涉及一種反應腔室及半導體加工設備。

背景技術：

在半導體加工設備進行工藝的過程中，要求等離子反應室內的溫度穩(wěn)定在120度，因此整個設備需要加熱系統(tǒng)來保證腔室的溫度達到工藝的要求。目前等離子反應室的加熱系統(tǒng)分為上、中、下三部分。其中中腔室和下腔室的加熱系統(tǒng)都采用插進腔室本體中的加熱棒進行加熱，而且腔室外圍安裝熱防護板，可以有效的保護操作和維護人員。

等離子反應室的上加熱系統(tǒng)采用加熱環(huán)對腔室的上部分加熱。加熱環(huán)的具體安裝結構如圖1所示，等離子反應室上加熱系統(tǒng)的加熱環(huán)2安裝在腔室內襯3和支架4之間，腔室內襯3和支架4上分別設置有和加熱環(huán)2相配合的凹陷部，以使加熱環(huán)2和兩者充分的接觸，保證導熱性。腔室內襯3安裝在腔室1上，支架4和線圈盒5安裝在一起。

目前在進行腔室維護時，線圈盒5和支架4會一起被掀開，加熱環(huán)2與腔室內襯3保持不動，在加熱環(huán)2剛停止工作時溫度會保持在幾百度，維護人員在進行維護作業(yè)時，很容易碰到暴露在外的加熱環(huán)2造成傷害，通常在加熱環(huán)2冷卻到安全溫度后，維護人員才能對腔室進行維護，而加熱環(huán)2冷卻到安全溫度的時間一般需要兩個多小時。

在進行腔室維護時，有時只需對腔室內部進行擦拭，維護時間很短，而對加熱環(huán)冷卻需要兩個多小時，對產線生產的時間造成很大的浪費。

如何從根本上解決腔室進行維護時，加熱環(huán)容易對維護人員造成傷害且冷卻較慢的問題，是半導體設備制造領域亟待解決的問題。

技術實現要素：

本實用新型所要解決的技術問題是針對現有技術中所存在的上述缺陷，提供一種反應腔室及半導體加工設備，用以解決現有技術中存在的加熱環(huán)容易對維護人員造成傷害且冷卻較慢的問題。

實現上述目的，本實用新型提供一種包括石英窗、支架，加熱環(huán)以及腔室內襯，其中，支架用于支撐石英窗，加熱環(huán)設置于支架與腔室內襯之間，還包括：

加熱環(huán)固定件，用于將所述加熱環(huán)固定于支架底部，以使加熱環(huán)隨支架同時運動。

優(yōu)選的，所述加熱環(huán)固定件呈圓環(huán)狀，并與所述支架可拆卸連接。

優(yōu)選的，所述支架的下表面周向設置有凹槽，所述凹槽的底部設置有開口向下的第一凹陷部；所述加熱環(huán)固定件容置在所述凹槽中，且所述加熱環(huán)固定件的上表面與所述第一凹陷部對應的位置設置有開口向上的第二凹陷部；所述加熱環(huán)容置在所述第一凹陷部和第二凹陷部形成的空間中，且所述加熱環(huán)的形狀與所述第一凹陷部和第二凹陷部形成的空間的形狀相匹配。

優(yōu)選的，所述加熱環(huán)固定件的環(huán)寬與所述支架的環(huán)寬相等；

所述支架的下表面周向設置有開口向下的第三凹陷部，所述加熱環(huán)固定件與所述第三凹陷部對應的位置設置有開口向上的第四凹陷部；所述加熱環(huán)容置于所述第三凹陷部和第四凹陷部形成的空間中，且所述加熱環(huán)的形狀與所述第三凹陷部和第四凹陷部形成的空間的形狀相匹配。

優(yōu)選的，所述加熱環(huán)固定件包括沿支架下表面周向設置的至少兩個卡扣結構。

優(yōu)選的，所述卡扣結構沿所述支架下表面周向均勻設置。

優(yōu)選的，所述支架的下表面周向設置有開口向下的第五凹陷部，所述腔室內襯與所述第五凹陷部對應的位置設置有開口向上的第六凹陷部；所述加熱環(huán)容置于所述第五凹陷部和第六凹陷部形成的空間中，且所述加熱環(huán)的形狀與所述第五凹陷部和第六凹陷部形成的空間的形狀相匹配；所述支架的下表面與所述卡扣結構相對應的位置設置有第一卡槽，所述腔室內襯的上表面與所述第一卡槽相對應的位置設置有第二卡槽，且所述卡扣結構容置于所述第一卡槽和第二卡槽形成的空間中，且所述卡扣結構的形狀與所述第一卡槽和第二卡槽形成的空間的形狀相匹配。

優(yōu)選的，所述支架的下表面周向設置有開口向下的第七凹陷部，所述加熱環(huán)容置于所述第七凹陷部中，且所述加熱環(huán)的形狀與所述第七凹陷部的形狀相匹配；所述支架的下表面與所述卡扣結構相對應的位置設置有第三卡槽，且所述卡扣結構容置于所述第三卡槽中，且所述卡扣結構的形狀與所述第三卡槽的形狀相匹配。

優(yōu)選的，所述加熱環(huán)固定件采用與所述支架相同的材料制成。

本實用新型還提供一種半導體加工設備，包括如權利要求1-9所述的任一項反應腔室。

本實用新型所提供的反應腔室，在腔室進行維護時，打開腔室的蓋，加熱環(huán)會隨支架一起被抬起，在維護人員對腔室進行維護作業(yè)時，不會碰到加熱環(huán)，避免了加熱環(huán)過熱對維護人員造成的傷害，而且維護人員只需要在腔室內襯冷卻到正常溫度后便可以進行維護作業(yè)，大大節(jié)省了等待時間，提高了生產效率。

附圖說明

為了更清楚的說明本實用新型實施例中的技術方案，下面將對實施例描述中所需要使用的附圖做簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖是本實用新型的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。

圖1現有技術中加熱環(huán)的安裝示意圖；

圖2為本實用新型所提供的第一實施例在腔室閉合時的結構示意圖；

圖3為本實用新型所提供的第一實施例在腔室開蓋時的結構示意圖；

圖4為本實用新型所提供的第二實施例的結構示意圖；

圖5為本實用新型所提供的第三實施例的結構示意圖。

圖中：1-腔室；2-加熱環(huán)；3-腔室內襯；4-支架；5-線圈盒；6-加熱環(huán)固定件；7-卡扣結構。

具體實施方式

為使本領域技術人員更好地理解本實用新型的技術方案，下面結合附圖和實施例對本實用新型作進一步詳細描述。顯然，所描述的實施例是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒緦嵱眯滦椭械膶嵤├?，本領域普通技術人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。

本實用新型所提供反應腔室包括環(huán)狀的支架4、加熱環(huán)2，還包括加熱環(huán)固定件4，所述加熱環(huán)固定件4用于將加熱環(huán)2固定于支架4的底部，以使加熱環(huán)2與所述支架4貼合，且在腔室開蓋時隨支架4一起被抬起，可見，本實用新型將加熱環(huán)2和支架4固定在一起，以使加熱環(huán)2在腔室開蓋時能夠隨支架4一起被抬起，維護人員在對腔室進行維護作業(yè)時，就不會碰到加熱環(huán)2，避免了燙傷，而且加熱環(huán)2被抬起后，腔室內襯3冷卻較快，節(jié)省了維護時間。

本實用新型主要提供了兩種加熱環(huán)固定件的結構，其中第一種為圓環(huán)狀的加熱環(huán)固定件6，第二種為卡扣結構的加熱環(huán)固定件6，圖2和圖3為圓環(huán)狀加熱環(huán)固定件6的第一實施例，圖4為圓環(huán)狀加熱環(huán)固定件6的第二實施例，圖5為卡扣結構的加熱環(huán)固定件6的第三實施例。以下結合附圖分別對這兩種結構進行說明。

圖2為本實用新型所提供的第一實施例在腔室閉合時的結構示意圖，圖3為本實用新型所提供的第一實施例在腔室開蓋時的結構示意圖，請一并參閱圖2和圖3。

如圖2所示的本實用新型所提供的第一實施例的結構包括：

所述支架4的下表面周向設置有凹槽，所述凹槽的底部設置有開口向下的第一凹陷部；所述加熱環(huán)固定件6容置在所述凹槽中，且所述加熱環(huán)固定件6的上表面與所述第一凹陷部對應的位置設置有開口向上的第二凹陷部；所述加熱環(huán)2容置在所述第一凹陷部和第二凹陷部形成的空間中，且所述加熱環(huán)2的形狀與所述第一凹陷部和第二凹陷部形成的空間的形狀相適應；所述第一凹陷部和第二凹陷部的深度之和等于所述加熱環(huán)2的厚度。

如圖1所示，圖中圓圈A中的部分為支架4、加熱環(huán)2、加熱環(huán)固定件6和腔室內襯3的剖面圖，可見在支架4和腔室內襯3之間放置了加熱環(huán)固定件6，在調整之間4和加熱環(huán)固定件6之間放置了加熱環(huán)2，且支架4、加熱環(huán)2、加熱環(huán)固定件6和腔室內襯3保持緊密的接觸，且所述加熱環(huán)固定件6采用和支架4和腔室內襯3相同的材質制作，以使加熱環(huán)2散發(fā)的熱量能夠很快的傳導到支架4和腔室內襯3上。

加熱環(huán)固定件6和支架4可拆卸的連接，如，可采用螺釘連接的方式。

如圖3所示，當腔室需要進行維護時，線圈5被抬起，由于被加熱環(huán)固定件6固定在了支架4底部凹槽中的加熱環(huán)2，也被一并抬起，不會燙傷維護人員，此時，腔室下部的腔室內襯3上沒有了加熱環(huán)2，冷卻速度快，也不會對維護工作造成時間浪費。

本領域技術人員可以理解的是，本實施例中的加熱環(huán)固定件6采用了在支架4上開槽放置的方式，其支架4上開槽寬度的大小，最小要能覆蓋住加熱環(huán)2，最大不超過支架4的環(huán)寬即可，沒有一定的限制，其開槽深度的大小，以最小略大于加熱環(huán)半徑即可。同時，為達到的對支架4和腔室內襯3的共同的加熱效果，本實施例不采用將加熱環(huán)2完全埋入支架4之中的方式。

本實施例所提供的加熱環(huán)固定件，能夠將加熱環(huán)和支架固定在一起，當腔室需要維護將線圈盒抬起時，加熱環(huán)和支架一起被抬起，不會對維護人員造成傷害，腔室內襯也可以更快的冷卻，不會對維護工作造成時間浪費。

圖4為本實用新型所提供的第二實施例的結構示意圖，如圖4所示的本實用新型提供的第二實施例，將圖2中圓圈A的部分進行了放大，以使結構更加清晰。

與第一實施例不同的是，本實施例二所述加熱環(huán)固定件6的環(huán)寬與所述支架的環(huán)寬相等；所述支架4的下表面周向設置有開口向下的第三凹陷部，所述加熱環(huán)固定件6與所述第三凹陷部對應的位置設置有開口向上的第四凹陷部；所述加熱環(huán)2容置于所述第三凹陷部和第四凹陷部形成的空間中，且所述加熱環(huán)2的形狀與所述第三凹陷部和第四凹陷部形成的空間的形狀相適應；所述第三凹陷部和第四凹陷部的深度之和等于所述加熱環(huán)2的厚度。

如圖3所示，本實施例沒有采用在支架4上開槽的方式，而是采用在支架4下方設置一個與支架4的環(huán)寬相等的加熱環(huán)固定件6的方式，本領域技術人員很容易理解的是，本實施例相對實施例一，在零件的加工工藝上要求更低。與實施例一相同的是，為達到的對支架4和腔室內襯3的共同的加熱效果，本實施例不采用將加熱環(huán)2完全埋入支架4之中的方式。本實施例中，加熱環(huán)固定件6采用與支架4或腔室內襯3相同的材質制作，且加熱環(huán)固定件6與支架4可拆卸的連接，如采用螺釘連接。

本實施例所采用的加熱環(huán)固定件，能夠將加熱環(huán)固定在支架上，在腔室進行維護時，隨線圈盒一同抬起，不會燙傷維護人員，且腔室內襯上沒有了加熱環(huán)，降溫較快，節(jié)省了維護的時間。

圖5為本實用新型所提供的第三實施例的結構示意圖，如圖5所示的本實用新型第三實施例，采用了卡扣結構7的方式，將加熱環(huán)2固定在支架4上，圖5中，設置了兩個卡扣結構7，所述的卡扣結構7采用常用的結構即可，為保證加熱環(huán)2的穩(wěn)固性，所述卡扣結構7的數量至少為兩個，如卡扣結構7的數量為多個時，在支架4的下表面進行均勻的分布。

本領域技術人員很容易理解的是，采用卡扣結構7的方式時，存在兩種具體的實現形式。

其一，可以通過在所述支架4的下表面周向設置開口向下的第五凹陷部，所述腔室內襯3與所述第五凹陷部對應的位置設置開口向上的第六凹陷部，將所述加熱環(huán)2容置于所述第五凹陷部和第六凹陷部形成的空間中，使所述加熱環(huán)2的形狀與所述第五凹陷部和第六凹陷部形成的空間的形狀相匹配；

所述支架4的下表面與所述卡扣結構7相對應的位置設置第一卡槽，所述腔室內襯3的上表面與所述第一卡槽相對應的位置設置第二卡槽，所述卡扣結構7容置于所述第一卡槽和第二卡槽形成的空間中，使所述卡扣結構7的形狀與所述第一卡槽和第二卡槽形成的空間的形狀相匹配。本實施例相較于上述環(huán)形的加熱環(huán)固定件6的方式，在不改變現有結構的基礎上，只需要在支架4和腔室內襯3的相應位置加工出容置卡扣結構7的卡槽即可，結構簡單，加工方便。

其二，在所述支架4的下表面周向設置開口向下的第七凹陷部，將所述加熱環(huán)2容置于所述第七凹陷部中，使所述加熱環(huán)2的形狀與所述第七凹陷部的形狀相匹配；所述支架4的下表面與所述卡扣結構7相對應的位置設置第三卡槽，且所述卡扣結構7容置于所述第三卡槽中，使所述卡扣結構7的形狀與所述第三卡槽的形狀相匹配，與上一實施例相比，本實施只對支架4進行了結構的改進。

在本申請所提供的幾個實施例中，應該理解到，所揭露的方法、設備和系統(tǒng)，可以通過其它的方式實現。例如，以上所描述的設備實施例僅是是示意性的，所述功能模塊的劃分，僅為一種邏輯功能的劃分，實際實現時可以有另外的劃分方式，例如多個模塊可以結合或者可以集成到另一個系統(tǒng)，或者一些特征可以忽略，或不執(zhí)行。

最后應說明的是：以上實施例僅用以說明本實用新型的技術方案，而非對其限制；盡管參照前述實施例對本實用新型進行了詳細的說明，本領域的普通技術人員應當理解：其依然可以對前述各實施例所記載的技術方案進行修改，或者對其中部分技術特征進行等同替換；而這些修改或者替換，并不使相應技術方案的本質脫離本實用新型各實施例技術方案的精神和范圍。