技術(shù)總結(jié)
本實用新型提供一種反應(yīng)腔室及半導(dǎo)體加工設(shè)備。該反應(yīng)腔室包括石英窗、支架，加熱環(huán)以及腔室內(nèi)襯，其中，支架用于支撐石英窗，加熱環(huán)設(shè)置于支架與腔室內(nèi)襯之間，還包括：加熱環(huán)固定件，用于將加熱環(huán)固定于支架底部，以使加熱環(huán)與所述支架貼合，且在腔室開蓋時隨支架一起被抬起。本實用新型所提供的反應(yīng)腔室，在腔室進(jìn)行維護(hù)時，打開腔室的蓋，加熱環(huán)會隨支架一起被抬起，在維護(hù)人員對腔室進(jìn)行維護(hù)作業(yè)時，不會碰到加熱環(huán)，避免了加熱環(huán)過熱對維護(hù)人員造成的傷害，而且維護(hù)人員只需要在腔室內(nèi)襯冷卻到正常溫度后便可以進(jìn)行維護(hù)作業(yè)，大大節(jié)省了等待時間，提高了生產(chǎn)效率。

技術(shù)研發(fā)人員：張新云
受保護(hù)的技術(shù)使用者：北京北方微電子基地設(shè)備工藝研究中心有限責(zé)任公司
文檔號碼：201620358453
技術(shù)研發(fā)日：2016.04.26
技術(shù)公布日：2016.12.28