本實(shí)用新型涉及太陽(yáng)能制造技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及太陽(yáng)能硅片,具體是指一種用于測(cè)試硅片臭氧氧化層親水性的組合裝置。
背景技術(shù):
目前,在太陽(yáng)能電池生產(chǎn)過(guò)程中,在對(duì)硅片進(jìn)行濕法刻蝕后需要在硅片表面進(jìn)行氧化以形成一層氧化膜二氧化硅,二氧化硅表面含有羥基,羥基可以與水分子短暫的結(jié)合,因此被氧化后的硅片表面由疏水變成親水性,因此為了檢測(cè)硅片表面是否已經(jīng)被氧化,通常需要對(duì)硅片表面進(jìn)行親水性測(cè)試,而常用的方法就是將水滴于硅片表面,觀察硅片表面是否浸潤(rùn),以判斷硅片的親水性效果,從而用親水性測(cè)試的結(jié)果確定硅片的氧化效果。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本實(shí)用新型的目的是克服了上述現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn),提供了一種傾斜角度固定、精準(zhǔn)移取去離子水、測(cè)試穩(wěn)定、結(jié)果準(zhǔn)確的用于測(cè)試硅片臭氧氧化層親水性的組合裝置。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型的用于測(cè)試硅片臭氧氧化層親水性的組合裝置具有如下構(gòu)成:
所述的組合裝置包括:載片裝置,所述的載片裝置包括支撐硅片的支撐面及穩(wěn)固硅片的抵擋條,所述的支撐面的底邊與所述的抵擋條相平行,使硅片以30度的角度斜靠于所述的支撐面的頂邊與所述的抵擋條之間,取水裝置,所述的取水裝置為20μL的移液槍。
較佳地,所述的組合裝置還包括用以記錄測(cè)試過(guò)程的攝像設(shè)備。
較佳地,所述的載片裝置還包括連接支撐面的底邊與抵擋條的連接面,所述的抵擋條設(shè)置于所述的連接面上。
較佳地,所述的載片裝置具有可放置若干個(gè)硅片同時(shí)進(jìn)行測(cè)試的長(zhǎng)度。
較佳地,斜靠于所述的載片裝置上的硅片的上邊沿滴有用所述的20μL的移液槍形成的水滴。
采用了該實(shí)用新型中的用于測(cè)試硅片臭氧氧化層親水性的組合裝置,根據(jù)去離子水遇硅有明顯的脫水性、去離子水遇二氧化硅有明顯的親水性的差異,利用去離子水滴落在硅片上的表現(xiàn)形式不一致來(lái)區(qū)分二氧化硅是否覆蓋良好,載片裝置使硅片以30度的角度傾斜,方便于測(cè)試人員測(cè)試,移液槍取出分量固定為20μL,取水過(guò)多則即使在覆蓋不良的狀態(tài)下,等離子水也能往下流動(dòng),取水過(guò)少則無(wú)法流到硅片底部,從而影響對(duì)結(jié)果的判斷。
附圖說(shuō)明
圖1為本實(shí)用新型的用于測(cè)試硅片臭氧氧化層親水性的組合裝置的載片裝置的右視圖。
圖2為本實(shí)用新型的用于測(cè)試硅片臭氧氧化層親水性的組合裝置的載片裝置的俯視圖。
附圖標(biāo)記
1 支撐面
2 連接面
3 抵擋條
具體實(shí)施方式
為了能夠更清楚地描述本實(shí)用新型的技術(shù)內(nèi)容,下面結(jié)合具體實(shí)施例來(lái)進(jìn)行進(jìn)一步的描述。
針對(duì)上述問(wèn)題,本實(shí)用新型旨在提供一種能夠?qū)崿F(xiàn)。為解決上述技術(shù)問(wèn)題,本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案:
本實(shí)用新型的組合裝置包括:載片裝置,所述的載片裝置包括支撐硅片的支撐面及穩(wěn)固硅片的抵擋條,所述的支撐面1的底邊與所述的抵擋條3相平行,使硅片以30度的角度斜靠于所述的支撐面的頂邊與所述的抵擋條之間,取水裝置,所述的取水裝置為20μL的移液槍。
其中所述的組合裝置還包括用以記錄測(cè)試過(guò)程的攝像設(shè)備;所述的載片裝置還包括連接支撐面的底邊與抵擋條的連接面2,所述的抵擋條設(shè)置于所述的連接面上;所述的載片裝置具有可放置若干個(gè)硅片同時(shí)進(jìn)行測(cè)試的長(zhǎng)度;斜靠于所述的載片裝置上的硅片的上邊沿滴有用所述的20μL的移液槍形成的水滴。
本實(shí)用新型中的組合裝置用于檢測(cè)過(guò)臭氧機(jī)后的硅片是否氧化層覆蓋良好,氧化層的覆蓋情況對(duì)PID效果影響較大。根據(jù)去離子水遇硅有明顯的脫水性,和去離子水遇二氧化硅有明顯的親水性的差異,利用去離子水滴落在硅片上的表現(xiàn)形式不一致來(lái)區(qū)分二氧化硅是否覆蓋良好。
本實(shí)用新型提供的組合裝置中的一種實(shí)施方式中,移液槍取出分量固定為20μL,取水過(guò)多則即使在覆蓋不良的狀態(tài)下,等離子水也能往下流動(dòng),取水過(guò)少則無(wú)法流到硅片底部,從而影響對(duì)結(jié)果的判斷。取水裝置采用按壓式真空方式進(jìn)行取液,精度可達(dá)到±0.4uL,頂部旋鈕可進(jìn)行校準(zhǔn)。在使用時(shí)準(zhǔn)備去離子水,用移液槍將去離子水滴在硅片的上邊沿,移液槍取液的分量是20μL。水滴滴落的位置分別均勻的分布在硅片上邊沿的五點(diǎn),去離子水在短時(shí)間內(nèi)均勻的流到硅片底部視為合格,水滴無(wú)法均勻的流下去視為不合格。
本實(shí)用新型提供的載片裝置的一種實(shí)施方式中,結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,容易放置硅片,讓硅片以30度的角度斜靠,擴(kuò)散面朝上,方便于測(cè)試人員測(cè)試,所述的載片裝置可放置若干個(gè)硅片同時(shí)進(jìn)行測(cè)試,如圖2所示的組合裝置的俯視圖。
本實(shí)用新型提供的組合裝置的一種實(shí)施方式中,還設(shè)置攝像頭對(duì)檢測(cè)過(guò)程進(jìn)行保存,點(diǎn)擊電腦界面的抓取,即可保存圖片,方便記錄臭氧實(shí)際運(yùn)行情況,及時(shí)做出防治措施,從圖片中讀取時(shí)間、線別、道次,如圖2所述的線別標(biāo)注L1-1,還可進(jìn)行存檔,存檔以半年內(nèi)視為有效。
通過(guò)該組合裝置有效的監(jiān)控硅片的氧化層覆蓋情況,防止未覆蓋氧化層的電池片流入后道,造成PID不良。在實(shí)際操作中由生產(chǎn)員取片測(cè)試,每小時(shí)測(cè)試一次,一次取刻蝕機(jī)每道的片子做親水性檢測(cè)。若親水性不良則立即通知刻蝕機(jī)停線,工藝設(shè)備人員前來(lái)排查。
采用了該實(shí)用新型中的用于測(cè)試硅片臭氧氧化層親水性的組合裝置,根據(jù)去離子水遇硅有明顯的脫水性、去離子水遇二氧化硅有明顯的親水性的差異,利用去離子水滴落在硅片上的表現(xiàn)形式不一致來(lái)區(qū)分二氧化硅是否覆蓋良好,載片裝置使硅片以30度的角度傾斜,方便于測(cè)試人員測(cè)試,移液槍取出分量固定為20μL,取水過(guò)多則即使在覆蓋不良的狀態(tài)下,等離子水也能往下流動(dòng),取水過(guò)少則無(wú)法流到硅片底部,從而影響對(duì)結(jié)果的判斷。
在此說(shuō)明書(shū)中,本實(shí)用新型已參照其特定的實(shí)施例作了描述。但是,很顯然仍可以作出各種修改和變換而不背離本實(shí)用新型的精神和范圍。因此,說(shuō)明書(shū)和附圖應(yīng)被認(rèn)為是說(shuō)明性的而非限制性的。