1.一種柔性顯示面板的制備方法,包括如下步驟:
在基板上形成陽(yáng)極層;
其特征在于,
利用化學(xué)氣相沉積方法,控制溫度650~750℃、使對(duì)有機(jī)二聚體蒸汽在所述陽(yáng)極層上形成聚合物作為微腔調(diào)節(jié)層;所述有機(jī)二聚體的結(jié)構(gòu)式如式1所示:
其中,所述R代表為H、F、Cl、Br中至少一種;
在所述微腔調(diào)節(jié)層上形成空穴注入層;
在所述空穴注入層上形成有機(jī)發(fā)射層;
在所述有機(jī)發(fā)射層上形成電子傳輸層;
在所述電子傳輸層上形成陰極層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述柔性顯示面板的制備方法,其特征在于,還包括利用化學(xué)氣相沉積方法,控制溫度100~150℃將有機(jī)二聚體沉積至所述陰極層上作為陰極保護(hù)層。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述柔性顯示面板的制備方法,其特征在于,還包括:
防護(hù)層制備:在所述陰極保護(hù)層上形成n層防護(hù)層,n為大于0的整數(shù);所述防護(hù)層包括從下至上依次沉積的阻水層和緩沖層;
在第n層防護(hù)層上沉積頂部阻水層。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述柔性顯示面板的制備方法,其特征在于,還包括封裝填充層的制備步驟:利用化學(xué)氣相沉積方法,控制溫度100~150℃將所述有機(jī)二聚體沉積至所述防護(hù)層上。
5.根據(jù)權(quán)利要求1~4任一項(xiàng)所述柔性顯示面板的制備方法,其特征在于,所述化學(xué)氣相沉積方法包括等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積、高密度等離子體化學(xué)氣相沉積、感應(yīng)耦合等離子體化學(xué)氣相沉積中的任一種。
6.一種柔性顯示面板,從下至上包括:基板、陽(yáng)極層、微腔調(diào)節(jié)層、空穴注入層、有機(jī)發(fā)射層、電子傳輸層和陰極層,其特征在于,所述微腔調(diào)節(jié)層材質(zhì)為有機(jī)二聚體形成的聚合物,所述有機(jī)二聚體及其形成的聚合物結(jié)構(gòu)式分別如式1、式2所示:
其中,所述R選自H、F、Cl、Br中的至少一種。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述柔性顯示面板,其特征在于,還包括沉積在所述陰極層上的陰極保護(hù)層,所述陰極保護(hù)層材質(zhì)為如所述式1所示的有機(jī)二聚體。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述柔性顯示面板,其特征在于,還包括依次沉積在所述陰極保護(hù)層上的n層防護(hù)層,所述n為大于0的整數(shù);以及設(shè)置于所述第n層防護(hù)層上的頂部阻水層;所述防護(hù)層包括上下層疊設(shè)置的緩沖層和阻水層。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述柔性顯示面板,其特征在于,還包括設(shè)置于所述防護(hù)層上的封裝填充層,所述封裝填充層材質(zhì)為如所述式1所示的有機(jī)二聚體。
10.根據(jù)權(quán)利要求6~9任一項(xiàng)所述柔性顯示面板,其特征在于,所述微腔調(diào)節(jié)層、所述陰極保護(hù)層和所述封裝填充層的厚度為0.1~10μm。