本發(fā)明屬于半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種銳角金屬圖形剝離方法。

背景技術(shù)：

金屬lift-off工藝由于剝離精度高、形貌好、控制容易，已廣泛地應(yīng)用于半導(dǎo)體制造業(yè)。整個(gè)lift-off工藝為：（1）在襯底上涂覆一層光刻膠，把掩膜版圖案在襯底表面上準(zhǔn)確對準(zhǔn)，通過曝光將圖形轉(zhuǎn)移到光刻膠涂層上，并通過顯影把掩膜版圖案復(fù)刻到光刻膠上，得到圖形化襯底，如圖1（a）所示；（2）采用金屬蒸發(fā)、濺射或化學(xué)氣相淀積薄膜工藝，在圖形化襯底上沉積一層金屬1，如圖1（b）所示；（3）去除光刻膠，得到金屬圖形，如圖1（c）所示。

在整個(gè)半導(dǎo)體工藝中，為了節(jié)約成本，提高效率，在去除光刻膠時(shí)，一般采用物理撕除（tape- peeling）結(jié)合濕法的方式快速去除光刻膠。在金屬圖形存在銳角時(shí)，濕法藥水不易進(jìn)入銳角區(qū)域，加之物理撕除的引入，極易造成金屬圖形的銳角缺損，如圖4（a）所示。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種銳角金屬圖形剝離方法，該夾具可以很好地解決傳統(tǒng)lift-off工藝極易造成金屬圖形缺損，無法得到具有完成銳角的金屬圖形的問題。

為達(dá)到上述要求，本發(fā)明采取的技術(shù)方案是：提供一種銳角金屬圖形剝離方法，包括采用lift-off工藝形成銳角缺損的金屬圖形的步驟，還包括以下步驟：

S1、在銳角缺損的金屬圖形上涂覆聚酰亞胺層并烘干；

S2、在所述聚酰亞胺層上涂覆光刻膠，采用光刻顯影定義出聚酰亞胺層的打開位置；

S3、根據(jù)所述打開位置，采用刻蝕方式打開聚酰亞胺層，定義出銳角位置，銳角位置的兩個(gè)自由端與銳角缺損的金屬圖形部分重疊；

S4、在所述銳角位置再次沉積金屬；

S5、去除光刻膠，得到具有完整銳角的金屬圖形。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有以下優(yōu)點(diǎn)：

（1）在傳統(tǒng)lift-off工藝的基礎(chǔ)上，進(jìn)行二次金屬沉積，由于第二次銳角位置的兩個(gè)自由端僅與銳角缺損的金屬圖形部分重疊，區(qū)域較小，有利于濕法藥水進(jìn)入銳角處，便于光刻膠去除，更易于完成具有完整銳角的金屬圖形；

（2）聚酰亞胺作為銳角定義層，容易刻蝕出坡度較緩的表面圖形，利于金屬爬坡。

附圖說明

此處所說明的附圖用來提供對本申請的進(jìn)一步理解，構(gòu)成本申請的一部分，在這些附圖中使用相同的參考標(biāo)號(hào)來表示相同或相似的部分，本申請的示意性實(shí)施例及其說明用于解釋本申請，并不構(gòu)成對本申請的不當(dāng)限定。在附圖中：

圖1為lift-off工藝過程中形成的器件結(jié)構(gòu)的剖視圖；

圖2為本發(fā)明方法的流程圖；

圖3為本發(fā)明工藝過程中形成的器件結(jié)構(gòu)的剖視圖；

圖4（a）為lift-off工藝形成的具有缺損銳角的金屬圖形的俯視圖；圖4（b）為聚酰亞胺層打開位置的俯視圖；圖4（c）為具有完整銳角的金屬圖形的俯視圖。

具體實(shí)施方式

為使本申請的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，以下結(jié)合附圖及具體實(shí)施例，對本申請作進(jìn)一步地詳細(xì)說明。為簡單起見，以下描述中省略了本領(lǐng)域技術(shù)人員公知的某些技術(shù)特征。

如圖2所示，本實(shí)施例提供一種銳角金屬圖形剝離方法，包括采用lift-off工藝形成銳角缺損的金屬圖形的步驟，銳角缺損的金屬圖形如圖4（a）所示；還包括以下步驟：

S1、在銳角缺損的金屬圖形上涂覆聚酰亞胺層2并烘干，作為銳角定義層，如圖3（a）所示；

S2、在聚酰亞胺層2上涂覆光刻膠PR，采用光刻顯影在光刻膠PR上定義出聚酰亞胺層2的打開位置，打開位置即圖3（b）中光刻膠PR的缺口；

S3、根據(jù)打開位置，采用刻蝕方式打開聚酰亞胺層2，定義出銳角位置，銳角位置即圖3（c）中聚酰亞胺層2的缺口，也為圖4（b）中的虛線位置；銳角位置的一個(gè)自由端與銳角缺損的金屬圖形的一條邊部分重疊，銳角位置的另一個(gè)自由端與銳角缺損的金屬圖形的另一條邊部分重疊，如圖3（c）和圖4（b）所示，單邊重疊的長度m不小于0.5μm；

S4、在銳角位置再次沉積金屬3，且再次沉積的金屬3單邊長度n不超過10μm，如圖3（d）和圖4（c）所示；由于步驟S3中的部分重疊，能保證再次沉積的金屬3與原缺損銳角金屬1完全連接；

S5、去除光刻膠，得到具有完整銳角的金屬圖形，如圖3（e）所示；

S6、在具有完整銳角的金屬圖形晶圓表面沉積SiO₂或SiN，克服聚酰亞胺層2的吸水性。

當(dāng)然，通過任意其他工藝制成的銳角缺損的金屬圖形，采用該方法制得具有完整銳角金屬圖形的情況，也落入本申請的保護(hù)范圍。

以上實(shí)施例僅表示本發(fā)明的幾種實(shí)施方式，其描述較為具體和詳細(xì)，但并不能理解為對本發(fā)明范圍的限制。應(yīng)當(dāng)指出的是，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進(jìn)，這些都屬于本發(fā)明保護(hù)范圍。因此本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)該以權(quán)利要求為準(zhǔn)。