1.一種膜層圖形的制備方法，包括：
在襯底上形成光刻膠層；
對所述光刻膠進行曝光顯影，形成光刻膠圖形；
形成第一膜層，所述第一膜層包括設置在光刻膠圖形上面的第一部分和設置在光刻膠圖形之間的縫隙的第二部分；
在所述第一膜層的第一部分上面，形成粘附層；
去除所述光刻膠圖形和所述光刻膠圖形上的所述第一膜層的第一部分，以形成第一膜層圖形。
2.根據(jù)權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述形成粘附層具體包括：
在所述第一膜層上形成粘附層薄膜，進行曝光顯影，以形成所述粘附層。
3.根據(jù)權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述光刻膠層為負性光刻膠。
4.根據(jù)權利要求3所述的制備方法，其特征在于，所述光刻膠圖形在垂直于所述襯底方向的截面為兩個或兩個以上倒梯形結(jié)構(gòu)。
5.根據(jù)權利要求1～4任一項所述的制備方法，其特征在于，所述粘附層材料包括有機樹脂膠。
6.一種薄膜晶體管，其特征在于，采用權利要求6～8任一項制備方法制備。
7.根據(jù)權利要求6所述的薄膜晶體管，其特征在于，所述第一膜層為：柵極層或源漏極層。
8.一種陣列基板，其特征在于，包括權利要求6或7所述的薄膜晶體管。
9.一種顯示裝置，其特征在于，包括權利要求8所述的陣列基板。