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TFT基板的制作方法及TFT基板與流程

文檔序號(hào):11586557閱讀:來源:國(guó)知局

技術(shù)特征:

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種TFT基板的制作方法及TFT基板。本發(fā)明的TFT基板的制作方法,先蝕刻?hào)艠O絕緣層形成兩第一過孔,并在兩第一過孔內(nèi)形成與兩跨接金屬塊,再蝕刻層間介電層形成分別與兩第一過孔連通的兩第二過孔,源極和漏極分別通過兩第二過孔與兩跨接金屬塊接觸,通過將傳統(tǒng)的一次蝕刻工藝制作出柵極絕緣層與層間介電層的過孔結(jié)構(gòu)改進(jìn)為兩次蝕刻工藝,能夠提升有源層的均一性,降低制程難度,避免因蝕刻厚度較厚而造成的蝕刻停止的問題,提升產(chǎn)品品質(zhì)。

技術(shù)研發(fā)人員:張海杰;張占東;楊玲
受保護(hù)的技術(shù)使用者:武漢華星光電技術(shù)有限公司
技術(shù)研發(fā)日:2017.04.05
技術(shù)公布日:2017.08.11
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