本發(fā)明涉及晶圓清洗設(shè)備領(lǐng)域，尤其涉及一種一種單片式晶圓去膠清洗設(shè)備。

背景技術(shù)：

1、晶圓光刻是半導(dǎo)體工藝中的重要步驟，其流程包括晶圓生產(chǎn)、光刻膠的涂覆、曝光、顯影以及清洗等步驟，晶圓表面所涂覆的光刻膠經(jīng)過后續(xù)曝光和顯影制程后，其表面殘留的光刻膠以及其他雜質(zhì)需要通過清洗去除。現(xiàn)有的晶圓去膠剝離設(shè)備通常采用浸泡去膠的方法達到去除晶圓表面附著的光刻膠的目的。

2、浸泡去膠的目的在于軟化晶圓表面殘留的光刻膠，殘留于晶圓表面的光刻膠經(jīng)過浸泡軟化后經(jīng)過后續(xù)的清洗步驟即可由晶圓表面脫落，從而達到去膠剝離的目的?，F(xiàn)有晶圓去膠剝離設(shè)備中，通常采用批量浸泡的方式，即，將一定數(shù)量的晶圓排列于晶圓花籃中，再對將晶圓花籃及其內(nèi)部的若干晶圓整體浸泡于去膠藥液內(nèi)以達到去膠剝離的效果。當(dāng)晶圓表面存在大量粘合物時，這些粘合物覆蓋了晶圓表面較大的面積，因此需要較長的時間對其進行浸泡才能夠達到良好的去除效果，并且，批量浸泡晶圓的方式花費較長的浸泡時間仍然無法保證每片晶圓的浸泡去膠效果是否達到要求，然后將盛放若干晶圓的花籃整體轉(zhuǎn)移至清洗設(shè)備中整體進行清洗。

3、由于整體浸泡的過程中無法保證每一片晶圓表面附著的粘合物的軟化效果，當(dāng)花籃中盛放的若干晶圓中存在部分粘合物軟化不到位的情況時，其經(jīng)過批量清洗仍然存在粘合物未去除的問題而無法正常進行后續(xù)的晶圓制程。有鑒于此，有必要對現(xiàn)有技術(shù)中的晶圓去膠剝離設(shè)備予以改進，以解決上述問題。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本發(fā)明的目的在于揭示一種單片式晶圓去膠清洗設(shè)備，用以解決現(xiàn)有技術(shù)中批量浸泡晶圓的方式可能存在的粘合物軟化不徹底難以被發(fā)現(xiàn)的問題導(dǎo)致影響后續(xù)晶圓制程的問題，通過單片式浸泡的方式配合噴淋去膠的方式有效提高對晶圓表面粘合物的剝離效率。

2、為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了一種單片式晶圓去膠清洗設(shè)備，包括：儲液箱和不少于一組的浸泡槽，所述浸泡槽內(nèi)裝配不少于一個用于承托單片晶圓的承托座，所述浸泡槽內(nèi)盛放沒過所述承托座所承托的晶圓上表面的去膠藥液；

3、所述浸泡槽內(nèi)位于所述承托座正上方設(shè)置噴淋組件，所述噴淋組件具有噴淋管道和噴淋主體，所述儲液箱與噴淋管道穿出浸泡槽的一端連通以使所述噴淋主體向承托座所承托的晶圓的上表面噴淋去膠藥液。

4、作為本發(fā)明的進一步改進，所述浸泡槽設(shè)有多組，多組所述浸泡槽由上至下且軸線相互重合設(shè)置，上下兩組相鄰所述浸泡槽之間通過安裝板隔離并固定，所述浸泡槽長度方向的側(cè)壁開設(shè)供晶圓置入的讓位槽；

5、所述浸泡槽內(nèi)設(shè)有供液組件，所述供液組件沿浸泡槽的長度方向分布，并且兩端呈u型由浸泡槽的側(cè)壁穿出，所述浸泡槽內(nèi)沿長度方向設(shè)置兩組或兩組以上的承托座，每組所述承托座均對應(yīng)設(shè)有一組噴淋組件。

6、作為本發(fā)明的進一步改進，所述噴淋主體設(shè)為平行于晶圓所在平面的噴淋盤，所述噴淋盤的頂端固接于安裝板的下表面，所述噴淋盤的下表面開設(shè)若干出液孔，所述噴淋管道包括連接管和通液管，所述連接管設(shè)為兩道，兩道所述連接管的一端分別連通至噴淋盤的側(cè)壁后另一端通過三通接頭匯集至通液管，所述通液管由浸泡槽的側(cè)壁穿出后連接至儲液箱。

7、作為本發(fā)明的進一步改進，所述供液組件包括第一供液管道和第二供液管道，所述第一供液管道由第一出液管和兩道第一進液管構(gòu)成，所述第二供液管道由第二出液管和兩道第二進液管構(gòu)成，所述第一出液管和第二出液管均沿浸泡槽的長度方向設(shè)置，所述第一出液管設(shè)置于第二出液管上方且第一出液管的管徑大于第二出液管的管徑；

8、兩道所述第一進液管的兩端分別與第一出液管的兩端連通后由浸泡槽的側(cè)壁穿出，兩道所述第二進液管的兩端分別與第二出液管的兩端連通后由浸泡槽的側(cè)壁穿出。

9、作為本發(fā)明的進一步改進，所述浸泡槽的槽壁開設(shè)回收孔，所述浸泡槽內(nèi)圍繞回收孔設(shè)置過濾件，所述回收孔通過回收管連接至儲液箱，所述儲液箱連通有過濾裝置，由所述回收孔回流至儲液箱的去膠藥液經(jīng)過所述過濾裝置過濾后再次回流至儲液箱，再經(jīng)過所述通液管和連接管后由噴淋盤噴灑至晶圓表面。

10、作為本發(fā)明的進一步改進，由上至下排布于第一位的浸泡槽覆蓋承托板，所述承托板的上表面設(shè)置檢測工位，所述檢測工位通過所述承托座承托單片晶圓。

11、作為本發(fā)明的進一步改進，所述承托座包括底座和裝配于底座頂端且不少于三道的承托桿，多道所述承托桿的一端匯集于一點并相互固定，另一端沿平行于晶圓的徑向均勻發(fā)散；

12、多道所述承托桿均設(shè)有用于定位第一尺寸晶圓的第一定位柱和用于定位第二尺寸晶圓的第二定位柱，第一尺寸晶圓的直徑大于第二尺寸晶圓的直徑。

13、作為本發(fā)明的進一步改進，由下至上排布于最后一位的浸泡槽裝配于連接板處，所述連接板設(shè)有若干連接頭，所述通液管和回收管通過連接頭連接至所述儲液箱。

14、作為本發(fā)明的進一步改進，所述儲液箱具有一設(shè)置為透明板體的可視側(cè)壁，所述可視側(cè)壁沿高度方向設(shè)有刻度尺，所述儲液箱通過泵體連接至過濾裝置。

15、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果是：首先，浸泡槽內(nèi)設(shè)置不少于一組的承托座，承托座用于單片式盛放晶圓，首先向浸泡槽內(nèi)通入去膠藥液，位于承托座處的晶圓被浸泡于去膠藥液中從而達到浸泡軟化其表面粘合物的目的。然后，通過儲液箱向噴淋組件供液，去膠藥液由噴淋管道通入噴淋主體，在晶圓采用單片式浸泡去膠的同時由噴淋主體向其表面噴灑去膠藥液，以達到將晶圓表面經(jīng)過浸泡軟化的粘合物由其表面沖掉的目的。相較于現(xiàn)有技術(shù)中批量式浸泡晶圓的方式而言，首先單片式浸泡晶圓的方式以便于及時觀察晶圓表面的粘合物軟化程度，進一步的配合噴淋沖洗加速晶圓表面經(jīng)過浸泡軟化的粘合物由其表面脫離，從而達到有效去除晶圓表面粘合物的效果同時提高粘合物去除效率的效果，避免產(chǎn)生粘合物去除不徹底而影響后續(xù)的晶圓制程的問題。

16、其次，浸泡槽由上至下且軸線相互重合設(shè)置有多組且每個浸泡槽內(nèi)設(shè)置不少于兩個的承托座，可同時對四片或四片以上的晶圓進行浸泡和噴淋去膠。并且，每個浸泡槽內(nèi)的供液組件由第一供液管道和第二供液管道構(gòu)成，通過第一供液管道和第二供液管道向浸泡槽內(nèi)通入兩種藥液，并且通過控制第一供液管道所具有的第一出液管的管徑大于第二供液管道所具有的第二出液管的管徑，從而控制第一出液管和第二出液管內(nèi)的去膠藥液的流量，進而控制進入浸泡槽內(nèi)的兩種去膠藥液的比例，控制比例的兩種去膠藥液混合后達到對浸泡槽內(nèi)部的晶圓良好的去膠效果。

17、最后，通過形成于浸泡槽的回收孔并且圍繞回收孔設(shè)置過濾件，浸泡槽內(nèi)混合由晶圓表面脫落的粘合物的去膠藥液經(jīng)過過濾件的一次過濾后由回收管收集至儲液箱中，而較為大塊的粘合物留存在浸泡槽內(nèi)。經(jīng)過回收管回收至儲液箱的去膠藥液再由過濾裝置進行二次過濾以去除去膠藥液內(nèi)混合的較為小塊的粘合物以得到雜質(zhì)較少的去膠藥液，經(jīng)過二次過濾的去膠藥液回到儲液箱內(nèi)再由通液管和連接管通入噴淋盤以進行對晶圓表面進行配合浸泡去膠的噴淋去膠。通過對晶圓表面進行噴淋去膠的藥液由浸泡槽中回收而來的設(shè)計，在儲液箱中具有足夠量的去膠藥液時無需額外補充，達到對去膠藥液進行循環(huán)利用的目的。