1.一種單片式晶圓去膠清洗設備，其特征在于，包括：儲液箱和不少于一組的浸泡槽，所述浸泡槽內(nèi)裝配不少于一個用于承托單片晶圓的承托座，所述浸泡槽內(nèi)盛放沒過所述承托座所承托的晶圓上表面的去膠藥液；
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的單片式晶圓去膠清洗設備，其特征在于，所述浸泡槽設有多組，多組所述浸泡槽由上至下且軸線相互重合設置，上下兩組相鄰所述浸泡槽之間通過安裝板隔離并固定，所述浸泡槽長度方向的側(cè)壁開設供晶圓置入的讓位槽；
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的單片式晶圓去膠清洗設備，其特征在于，所述噴淋主體設為平行于晶圓所在平面的噴淋盤，所述噴淋盤的頂端固接于安裝板的下表面，所述噴淋盤的下表面開設若干出液孔，所述噴淋管道包括連接管和通液管，所述連接管設為兩道，兩道所述連接管的一端分別連通至噴淋盤的側(cè)壁后另一端通過三通接頭匯集至通液管，所述通液管由浸泡槽的側(cè)壁穿出后連接至儲液箱。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的單片式晶圓去膠清洗設備，其特征在于，所述供液組件包括第一供液管道和第二供液管道，所述第一供液管道由第一出液管和兩道第一進液管構(gòu)成，所述第二供液管道由第二出液管和兩道第二進液管構(gòu)成，所述第一出液管和第二出液管均沿浸泡槽的長度方向設置，所述第一出液管設置于第二出液管上方且第一出液管的管徑大于第二出液管的管徑；
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的單片式晶圓去膠清洗設備，其特征在于，所述浸泡槽的槽壁開設回收孔，所述浸泡槽內(nèi)圍繞回收孔設置過濾件，所述回收孔通過回收管連接至儲液箱，所述儲液箱連通有過濾裝置，由所述回收孔回流至儲液箱的去膠藥液經(jīng)過所述過濾裝置過濾后再次回流至儲液箱，再經(jīng)過所述通液管和連接管后由噴淋盤噴灑至晶圓表面。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的單片式晶圓去膠清洗設備，其特征在于，由上至下排布于第一位的浸泡槽覆蓋承托板，所述承托板的上表面設置檢測工位，所述檢測工位通過所述承托座承托單片晶圓。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的單片式晶圓去膠清洗設備，其特征在于，所述承托座包括底座和裝配于底座頂端且不少于三道的承托桿，多道所述承托桿的一端匯集于一點并相互固定，另一端沿平行于晶圓的徑向均勻發(fā)散；
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的單片式晶圓去膠清洗設備，其特征在于，由下至上排布于最后一位的浸泡槽裝配于連接板處，所述連接板設有若干連接頭，所述通液管和回收管通過連接頭連接至所述儲液箱。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的單片式晶圓去膠清洗設備，其特征在于，所述儲液箱具有一設置為透明板體的可視側(cè)壁，所述可視側(cè)壁沿高度方向設有刻度尺，所述儲液箱通過泵體連接至過濾裝置。