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太陽能電池及其制造方法

文檔序號:8270017閱讀:397來源:國知局
太陽能電池及其制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明實施方案涉及一種太陽能電池及其制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002]用于太陽光發(fā)電的太陽能電池的制造方法如下。首先,在制備基板之后,在基板上形成背電極層,并通過激光圖案化該背電極層來形成復(fù)數(shù)個背電極。
[0003]其后,在背電極上相繼形成光吸收層、緩沖層和高電阻緩沖層。已廣泛采用了如下方案來光吸收層:通過同時或分別蒸鍍銅(Cu)、銦(In)、鎵(Ga)和砸(Se)形成Cu (In,Ga)Se2(CIGS)基光吸收層的方案,以及在已形成金屬前體層之后實施砸化工藝的方案。光吸收層的能帶隙在約IeV至1.8eV的范圍內(nèi)。
[0004]然后,通過濺射工藝在光吸收層上形成包括硫化鎘(CdS)的緩沖層。緩沖層的能帶隙可以在約2.2eV至2.4eV的范圍內(nèi)。之后,通過濺射工藝在緩沖層上形成包括氧化鋅(ZnO)的高電阻緩沖層。所述的高電阻緩沖層的能帶隙在約3.1eV至約3.3eV的范圍內(nèi)。
[0005]其后,可在光吸收層、緩沖層和高電阻緩沖層中形成孔圖案。
[0006]然后,在高電阻緩沖層上層合透明導(dǎo)電材料,利用該透明導(dǎo)電材料填充孔圖案。因此,在高電阻緩沖層上形成透明電極層,并且在孔圖案內(nèi)部形成連接線。構(gòu)成透明電極層和連接線的材料可包括鋁摻雜的氧化鋅(AZO)。透明電極層的能帶隙在約3.1eV至3.3eV的范圍內(nèi)。
[0007]然后,在透明電極層中形成孔圖案,使得可以形成多個太陽能電池。透明電極與高電阻緩沖層分別對應(yīng)于電池。透明電極和高電阻緩沖層可以以帶或陣列的形式設(shè)置。
[0008]透明電極與背電極彼此不對準(zhǔn)(misaligned)并通過連接線彼此電連接。因此,太陽能電池能夠串聯(lián)地彼此電連接。
[0009]如上所述,為將太陽光轉(zhuǎn)換成電能,已制造和使用了各種太陽能電池設(shè)備。這些太陽能電池設(shè)備中之一公開在韓國未審查專利公開第10-2008-0088744號中。
[0010]同時,根據(jù)相關(guān)現(xiàn)有技術(shù),當(dāng)采用硫化鎘(CdS)時,會發(fā)生與鎘(Cd)相關(guān)的問題。因此,為了形成不含Cd的緩沖層,可使用硫化鋅(ZnS)作為緩沖層。當(dāng)采用ZnS時,前電極層直接沉積在ZnS緩沖層上,而不在ZnS緩沖層上形成高電阻緩沖層。
[0011]但是,由于ZnS緩沖層的電阻高于CdS緩沖層的電阻,因此限制了 ZnS緩沖層的厚度。因此,當(dāng)前電極沉積在ZnS緩沖層上時,會導(dǎo)致對緩沖層和/或光吸收層的上部的損壞。
[0012]因此,提出了對制造緩沖層的需求,該緩沖層能夠解決當(dāng)使用ZnS緩沖層時的上述問題,以及提出了包括該緩沖層的太陽能電池。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0013]技術(shù)問題
[0014]本發(fā)明實施方案提供一種能夠提高光電轉(zhuǎn)換效率的太陽能電池及其制造方法。
[0015]問題的解決方案
[0016]根據(jù)本發(fā)明實施方案,提供一種太陽能電池,其包括基板,在基板上的背電極層,在背電極層上的光吸收層,在光吸收層上的緩沖層,以及在緩沖層上的前電極層。所述緩沖層包括硫化鋅(ZnS)、氧化鋅(ZnO)和氫氧化鋅(Zn(OH)2)中的至少一種。
[0017]根據(jù)本發(fā)明實施方案,提供一種制造太陽能電池的方法。該方法包括在基板上形成背電極層,在背電極層形成光吸收層,在光吸收層上形成第一緩沖層;以及在第一緩沖層上形成第二緩沖層。第一緩沖層或第二緩沖層包括硫化鋅(ZnS)、氧化鋅(ZnO)和氫氧化鋅(Zn (OH) 2)中的至少一種。
[0018]發(fā)明的有益效果
[0019]如上所述,在根據(jù)本發(fā)明實施方案的太陽能電池及其制造方法中,可通過一道工藝形成多個緩沖層。換言之,通過在沉積過程中調(diào)節(jié)溶液中包含的氨水的濃度,可以形成包含ZnS的第一緩沖層和包含ZnO的第二緩沖層。
[0020]根據(jù)相關(guān)現(xiàn)有技術(shù),在包含ZnS的緩沖層的情況下,由于高電阻導(dǎo)致的厚度限制,在沉積緩沖層之后的后續(xù)工藝中會導(dǎo)致緩沖層和/或光吸收層的損壞。
[0021]然而,在根據(jù)本發(fā)明實施方案制造太陽能電池的方法中,通過調(diào)節(jié)沉積工藝中緩沖溶液的濃度,在沉積第一緩沖層的同時,將第二緩沖層沉積在第一緩沖層上。
[0022]因此,即使包含ZnS的第一緩沖層厚度小,由于第二緩沖層形成在第一緩沖層上以彌補(bǔ)第一緩沖層的薄的厚度,可減少在實施緩沖層激光工藝之后在后續(xù)工藝中導(dǎo)致的對緩沖層和/或光吸收層的損壞,使得太陽能電池的整體效率能夠得以提高。
[0023]此外,由于可通過一道工藝同時形成至少兩個緩沖層,可降低工藝成本,并可提高工藝效率。
【附圖說明】
[0024]圖1是示出了根據(jù)本發(fā)明實施方案的太陽能電池的平面圖。
[0025]圖2是示出了根據(jù)本發(fā)明實施方案的太陽能電池的截面圖。
[0026]圖3到圖10是示出了根據(jù)本發(fā)明實施方案的制造太陽能電池的方法的截面圖。
【具體實施方式】
[0027]在以下對本發(fā)明實施方案的描述中,應(yīng)當(dāng)理解的是,當(dāng)層(膜)、區(qū)域、圖案或結(jié)構(gòu)被稱為在另一基板、層(膜)、區(qū)域、焊盤或圖案“上”或“下”時,其可以“直接地”或“間接地”在其它基板、層(膜)、區(qū)域、焊盤或圖案上,或者也可以存在一個或更多個中間層。將參照附圖來描述各個層的這樣的位置。
[0028]為了描述清楚和方便,可調(diào)整附圖中各個層(膜)、區(qū)域、圖案或結(jié)構(gòu)的厚度和尺寸。此外,層(膜)、區(qū)域、圖案或結(jié)構(gòu)的尺寸并不完全反映實際尺寸。
[0029]以下,將參照附圖具體描述本發(fā)明實施方案。
[0030]以下將參照圖1至圖10說明根據(jù)本發(fā)明實施方案的太陽能電池。圖1是示出了根據(jù)本發(fā)明實施方案的太陽能電池的平面圖,圖2是示出了根據(jù)本發(fā)明實施方案的太陽能電池的截面圖。圖3至圖10是示出了制造根據(jù)本發(fā)明實施方案的太陽能電池的方法的截面圖。
[0031]參照圖1至圖10,根據(jù)本發(fā)明實施方案的太陽能電池包括支承基板100、背電極層200、光吸收層300、緩沖層400和前電極層500。
[0032]支承基板100具有板形并支承背電極層200、光吸收層300、緩沖層400和前電極層 500。
[0033]支承基板100可以包括絕緣體。支承基板100可以包括玻璃基板、塑料基板或金屬基板。更具體地,支承基板100可以包括鈉鈣玻璃基板。可替代地,支承基板100可包括不銹鋼、具有柔性性能的聚合物、或包含氧化鋁的陶瓷基板。支承基板100可以是透明的。支承基板100可以是剛性或柔性的。
[0034]背電極層200設(shè)置在支承基板100上。背電極層200為導(dǎo)電層,背電極層200可以包括鉬(Mo)、金(Au)、鋁(Al)、絡(luò)(Cr)、鎢(W)、和銅(Cu)中的一種。在其中,特別地,與其他元素相比,Mo與支承基板100之間的熱膨脹系數(shù)之差更小,使得Mo表現(xiàn)出優(yōu)越的粘附性能,因此防止了上述脫層現(xiàn)象。
[0035]此外,背電極層200可包括至少兩層。在這種情況下,這些層可包括相同的金屬或不同的金屬。
[0036]在背電極層200中形成有第一通孔TH1。通孔THl是露出支承基板100的頂表面的開口區(qū)域。當(dāng)在平面圖中觀察時,通孔THl可具有在第一方向上延伸的形狀。
[0037]第一通孔THl中的每一個均可具有在約80 μ m至約200 μ m范圍內(nèi)的寬度。
[0038]因此,背電極層200由第一通孔THl分割成復(fù)數(shù)個背電極。換言之,背電極通過第一通孔THl限定。
[0039]背電極通過第一通孔THl彼此間隔開。背電極布置成帶的形狀。
[0040]可替代地,背電極可布置成陣列的形狀。在這種情況下,當(dāng)在平面圖中觀察時,第一通孔THl可被設(shè)置成格子的形狀。
[0041]光吸收層300設(shè)置在背電極層200上。此外,構(gòu)成光吸收層300的材料填充進(jìn)第一通孔THl中。
[0042]光吸收層300可以包括第1-1I1-VI族化合物。例如,光吸收層300可具有Cu (In, Ga) Se2 (CIGS)晶體結(jié)構(gòu)、Cu (In) Se2晶體結(jié)構(gòu)或Cu (Ga) Se 2晶體結(jié)構(gòu)。
[0043]光吸收層300可以具有在IeV至1.8eV的范圍內(nèi)的能帶隙。
[0044]緩沖層400設(shè)置在光吸收層300上。緩沖層400可以包括硫化鋅(ZnS)、氧化鋅(ZnO)和/或氫氧化鋅(Zn (OH) 2)。換言之,緩沖層400可以包括ZnS、ZnO或Zn (OH) 2,或者可以包括ZnS、ZnO和Zn (OH) 2中的至少一種。
[0045]此外,緩沖層400包括第一緩沖層410和第二緩沖層420。具體地,第一緩沖層410設(shè)置在光吸收層300上,第二緩沖層420設(shè)置在第一緩沖層410上。第一緩沖層410和第二緩沖層420中的每一個均可以包括ZnS、ZnO和/或Zn (OH) 2。
[0046]此外,硫(S)的濃度從背電極層
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