基板處理裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明公開的實(shí)施方式涉及一種基板處理裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]以往，公知有對(duì)半導(dǎo)體晶圓、玻璃基板等基板進(jìn)行清洗、成膜這樣的各種處理的基板處理裝置。
[0003]例如，在專利文獻(xiàn)I中，公開了一種基板處理裝置，該基板處理裝置包括:多個(gè)液處理單元，該多個(gè)液處理單元層疊為上下兩層；上層輸送臂，其用于進(jìn)行基板相對(duì)于上層處理單元的送入送出；以及下層輸送臂，其用于進(jìn)行基板相對(duì)于下層處理單元的送入送出。
[0004]專利文獻(xiàn)1:日本特開2011-082279號(hào)公報(bào)

【發(fā)明內(nèi)容】

_5] 發(fā)明要解決的問題
[0006]但是，在謀求生產(chǎn)率的提高這一點(diǎn)上，專利文獻(xiàn)I所述的技術(shù)有進(jìn)一步改善的余地。
[0007]例如，在專利文獻(xiàn)I所述的基板處理裝置中，上層輸送臂的可移動(dòng)范圍被限定于上層處理單元的高度范圍內(nèi)，下層輸送臂的可移動(dòng)范圍也被限定于下層處理單元的高度范圍內(nèi)。因此，例如在上層輸送臂發(fā)生故障的情況下，有可能上層處理單元無法使用，生產(chǎn)率會(huì)降低。
[0008]實(shí)施方式的一技術(shù)方案的目的在于提供一種能夠謀求生產(chǎn)率的提高的基板處理
目.ο
[0009]用于解決問題的方案
[0010]實(shí)施方式的一技術(shù)方案的基板處理裝置包括基板輸送裝置和多個(gè)處理單元。多個(gè)處理單元在鉛垂方向上并排地配置，用于處理基板。基板輸送裝置能夠在鉛垂方向上移動(dòng)，用于進(jìn)行基板相對(duì)于處理單元的送入送出。另外，基板輸送裝置包括第I輸送臂和第2輸送臂，該第I輸送臂和第2輸送臂在鉛垂方向上并排地配置，并且，在鉛垂方向上的可移動(dòng)范圍互相重疊且能獨(dú)立地在鉛垂方向上移動(dòng)。
[0011]發(fā)明的效果
[0012]采用實(shí)施方式的一技術(shù)方案，能夠謀求生產(chǎn)率的提高。
【附圖說明】
[0013]圖1是表示本實(shí)施方式的基板處理裝置的結(jié)構(gòu)的示意俯視圖。
[0014]圖2是表示本實(shí)施方式的基板處理裝置的結(jié)構(gòu)的示意側(cè)視圖。
[0015]圖3是表示本實(shí)施方式的基板處理裝置的結(jié)構(gòu)的示意后視圖。
[0016]圖4是表示第2輸送裝置的結(jié)構(gòu)的示意俯視圖。
[0017]圖5是表示第2輸送裝置的結(jié)構(gòu)的示意主視圖。
[0018]圖6是表示以往的基板輸送裝置的結(jié)構(gòu)的示意主視圖。
[0019]圖7是表示控制裝置的結(jié)構(gòu)的框圖。
[0020]圖8是表示異常應(yīng)對(duì)處理的動(dòng)作例的圖。
[0021]圖9是表示異常應(yīng)對(duì)處理的動(dòng)作例的圖。
[0022]圖10是表示對(duì)第I輸送臂和第2輸送臂分配處理單元的例子的圖。
[0023]圖11是表示變形例的基板處理裝置的結(jié)構(gòu)的示意俯視圖。
[0024]圖12是表示對(duì)第I輸送臂和第2輸送臂分配處理單元的另一例子的圖。
【具體實(shí)施方式】
[0025]以下，參照附圖，詳細(xì)說明本申請(qǐng)公開的基板處理裝置的實(shí)施方式。另外，本發(fā)明不限定于以下所示的實(shí)施方式。
[0026]圖1是表示本實(shí)施方式的基板處理裝置的結(jié)構(gòu)的示意俯視圖。在下文中，為了明確位置關(guān)系，規(guī)定互相垂直的X軸、Y軸和Z軸，Z軸正方向?yàn)殂U垂向上的方向。
[0027]如圖1所示，基板處理裝置I包括送入送出塊2和處理塊3。
[0028]送入送出塊2包括載置站11和第I輸送區(qū)域12。載置站11載置有多個(gè)盒C，該多個(gè)盒C以水平狀態(tài)容納多張基板、在本實(shí)施方式中為多張半導(dǎo)體晶圓(以下稱晶圓W)。
[0029]第I輸送區(qū)域12與載置站11相鄰地配置。第I輸送區(qū)域12配置有第I輸送裝置20。第I輸送裝置20在盒C與處理塊3的后述容納部30之間輸送晶圓W。
[0030]處理塊3包括交接站13、兩個(gè)處理站14、以及第2輸送區(qū)域15。
[0031]交接站13與送入送出塊2的第I輸送區(qū)域12相鄰地配置。交接站13配置有用于容納晶圓W的容納部30。
[0032]第2輸送區(qū)域15與交接站13的容納部30相鄰地配置，兩個(gè)處理站14分別與第2輸送區(qū)域15的Y軸正方向側(cè)以及Y軸負(fù)方向側(cè)相鄰地配置。
[0033]多個(gè)處理單元40在鉛垂方向上并排地配置于各個(gè)處理站14。多個(gè)處理單元40分別對(duì)晶圓W進(jìn)行規(guī)定的基板處理。在此，處理單元40對(duì)晶圓W進(jìn)行使刷子接觸晶圓W的清洗處理，但是處理單元40進(jìn)行的基板處理的內(nèi)容不限定于上述的例子。例如，多個(gè)處理單元40可以分別進(jìn)行使用SCl (氨和雙氧水的混合液)等化學(xué)溶液的清洗處理，也可以進(jìn)行成膜處理等清洗處理以外的基板處理。
[0034]第2輸送區(qū)域15配置有第2輸送裝置50。第2輸送裝置50在容納部30和處理單元40之間進(jìn)行晶圓W的輸送。
[0035]另外，基板處理裝置I包括控制裝置4?？刂蒲b置4例如為計(jì)算機(jī)，包括控制部16和存儲(chǔ)部17。在存儲(chǔ)部17存儲(chǔ)有對(duì)在基板處理裝置I中執(zhí)行的各種處理進(jìn)行控制的程序?？刂撇?6通過讀取并執(zhí)行被存儲(chǔ)于存儲(chǔ)部17的程序從而控制基板處理裝置I的動(dòng)作。
[0036]另外，還可以是，該程序記錄于能夠由計(jì)算機(jī)讀取的存儲(chǔ)介質(zhì)，自該存儲(chǔ)介質(zhì)安裝于控制裝置4的存儲(chǔ)部17。作為能夠由計(jì)算機(jī)讀取的存儲(chǔ)介質(zhì)，存在例如硬盤(HD)、軟盤(FD)、光盤(⑶)、磁光盤(MO)、存儲(chǔ)卡等。
[0037]接下來，參照?qǐng)D2及圖3具體說明處理塊3的結(jié)構(gòu)。圖2是表示本實(shí)施方式的基板處理裝置I的結(jié)構(gòu)的示意側(cè)視圖，圖3是表示本實(shí)施方式的基板處理裝置I的示意后視圖。另外，在圖2及圖3中，將處理單元40記載為“SCR”。
[0038]如圖2所示，容納部30包括第I容納部31和第2容納部32。第I容納部31及第2容納部32在鉛垂方向上并排地配置。
[0039]第I輸送裝置20能夠在水平方向和鉛垂方向上移動(dòng)并能夠以鉛垂軸線為中心旋轉(zhuǎn)，用于在盒C與第I容納部31之間或在盒C與第2容納部32之間輸送晶圓W。第I輸送裝置20包括多個(gè)(在此為兩個(gè))晶圓保持部，能夠同時(shí)輸送多個(gè)晶圓W。
[0040]多個(gè)處理單元40在鉛垂方向上四個(gè)并排地配置。在此，從上到下按順序記載為處理單元41、處理單元42、處理單元43以及處理單元44。另外，在處理塊3中，另一處理站14也配置有與圖2所示的四個(gè)處理單元41?44同樣的處理單元45?48 (參照?qǐng)D3)。因此，處理塊3包括合計(jì)八個(gè)處理單元41?48。
[0041]如圖3所示，第2輸送裝置50包括第I輸送臂51和第2輸送臂52。第I輸送臂51以及第2輸送臂52以從上方起為第I輸送臂51、第2輸送臂52的順序在鉛垂方向上并排地配置。像這樣，基板處理裝置I包括用于進(jìn)行晶圓W相對(duì)于八個(gè)處理單元41?48的送入送出的兩個(gè)輸送臂(第I輸送臂51和第2輸送臂52)。換言之，在基板處理裝置I中配置有比輸送臂的總數(shù)多的處理單元41?48。
[0042]第I輸送臂51和第2輸送臂52能夠各自獨(dú)立地在水平方向上使臂伸縮、在鉛垂方向上移動(dòng)、以及以鉛垂軸線為中心旋轉(zhuǎn)，用于在容納部30 (第I容納部31或第2容納部32)與處理單元41?48之間輸送晶圓W。
[0043]第I輸送臂51以及第2輸送臂52這兩者的兩側(cè)配置有一對(duì)支柱構(gòu)件53a、53b。一對(duì)支柱構(gòu)件53a、53b自第2輸送區(qū)域15的下部沿鉛垂方向延伸到上部。而且，在第2輸送區(qū)域15的上部設(shè)有能夠容納第I輸送臂51的退避空間SI，在第2輸送區(qū)域15的下部設(shè)有能夠容納第2輸送臂52的退避空間S2。退避空間SI設(shè)于比最上層的處理單元41、45靠上方的位置，退避空間S2設(shè)于比最下層的處理單元44、48靠下方的位置。
[0044]在此，本實(shí)施方式的第2輸送裝置50以第I輸送臂51在鉛垂方向上的可動(dòng)范圍與第2輸送臂52在鉛垂方向上的可動(dòng)范圍互相重疊的方式構(gòu)成。
[0045]參照?qǐng)D4及圖5具體說明該第2輸送裝置50的結(jié)構(gòu)。圖4是表示第2輸送裝置50的結(jié)構(gòu)的示意俯視圖，圖5是表示第2輸送裝置50的結(jié)構(gòu)的示意主視圖。
[0046]如圖4和圖5所示，第2輸送裝置50包括:第I輸送臂51、第2輸送臂52、一對(duì)支柱構(gòu)件53a、53b、第I升降機(jī)構(gòu)54a、第2升降機(jī)構(gòu)54b、第I驅(qū)動(dòng)源55a、第2驅(qū)動(dòng)源55b、第I連接部56a、以及第2連接部56b。
[0047]第I輸送臂51和第2輸送臂52包括:能繞鉛垂軸線旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)部、能夠在水平方向上進(jìn)退的臂部、以及設(shè)于臂部的頂端的晶圓保持部。第I輸送臂51和第2輸送臂52包括多個(gè)(在此為兩個(gè))晶圓保持部。具體而言，第I輸送臂51包括兩個(gè)臂部51a、51b，第2輸送臂52也包括兩個(gè)臂部52a、52b。
[0048]第I升降機(jī)構(gòu)54a設(shè)于一支柱構(gòu)件53a，第2升降機(jī)構(gòu)54b設(shè)于另一支柱構(gòu)件53b。第I輸送臂51借助第I連接部56a連接于第I升降機(jī)構(gòu)54a，第2輸送臂52借助第2連接部56b連接于第2升降機(jī)構(gòu)54b。
[0049]具體而言，如圖5所示，第I升降機(jī)構(gòu)54a包括:第I帶輪541a，其配置于支柱構(gòu)件53a的上部；第2帶輪542a，其配置于支柱構(gòu)件53a的下部；以及帶543a，其架設(shè)于第I帶輪541a和第2帶輪542a。
[0050]第2帶輪542a連接有圖4所示的第I驅(qū)動(dòng)源55a，帶543a連接有第I連接部56a。第I升降機(jī)構(gòu)54a如上所述構(gòu)成，將在第I驅(qū)動(dòng)源55a作用下的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)轉(zhuǎn)換為直線運(yùn)動(dòng)，從而使第I輸送臂51在鉛垂方向上移動(dòng)。
[0051]第2升