透明導(dǎo)電膜和透明導(dǎo)電膜的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及透明導(dǎo)電膜和透明導(dǎo)電膜的制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002] 金屬由于具有高電導(dǎo)率而適于用作導(dǎo)電層材料，但另一方面，由于金屬強(qiáng)烈反射 可見光，因而在看得見電極圖案為致命缺陷這樣的用途、例如觸摸面板等中并不適合。從 而，以往，作為這些用途，使用了 IT0(Indium Tin Oxide:氧化銦錫）等透明導(dǎo)電性氧化物。
[0003] 但是，與氧化物相比，金屬具有容易圖案化、撓曲性優(yōu)異、電阻低等優(yōu)點(diǎn)，因而繼續(xù) 進(jìn)行了將其作為ITO的代替材料的研究。近年來發(fā)現(xiàn)，通過在金屬細(xì)線的細(xì)線化、圖案化方 面的努力，能夠在一定程度上減少可視覺辨認(rèn)出金屬布線這樣的問題。
[0004] 作為金屬細(xì)線的細(xì)線化的現(xiàn)有技術(shù)，可以舉出：在日本特表2009-505358號公報(bào) 等中記載的使用金屬納米線的透明導(dǎo)電膜；應(yīng)用照片感光材料的技術(shù)，對具有銀鹽乳劑層 的感光材料進(jìn)行曝光、顯影處理而制作出的透明導(dǎo)電膜等。但是，在這些技術(shù)中，由于金屬 微粒間的接觸點(diǎn)多等理由，具有布線的電阻高于金屬本來的電阻這樣的問題。
[0005] 為了解決該問題，一直以來積極進(jìn)行了砑光處理（日本特開2009-004726號公 報(bào)）、光恪合（Journal of Electronic Materials，2011，40,2268-2277，J.S.Kang，J. Ryu,H.S. Kim, Η. T. Hahn, Sintering of Inkjet-Printed Silver Nanoparticles at Room Temperature Using Intense Pulsed Light)等技術(shù)開發(fā)，但在這些方法中，金屬反射被強(qiáng) 化，具有可視覺辨認(rèn)出導(dǎo)電膜的圖案這樣的問題。
[0006] 作為不易看見導(dǎo)電膜的圖案的技術(shù)，例如在日本特開2011-082211號公報(bào)中公開 了通過在導(dǎo)電性圖案層的表面層疊厚度為〇. 01 μπι~0. 5 μπι的黑化層來防止導(dǎo)電性圖案 的反射的方法。但是，在日本特開2011-082211號公報(bào)的技術(shù)中，具有理論上無法避免導(dǎo) 電性的降低這樣的問題。需要說明的是，對防反射膜賦予防眩性的技術(shù)一直以來是已知的 (參照日本特開2005-070435號公報(bào)和日本特開2004-004404號公報(bào)）。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007] 如此，由于金屬細(xì)線具有金屬特有的光反射，因而在透明導(dǎo)電膜等中容易視覺辨 認(rèn)出金屬細(xì)線，由金屬細(xì)線形成的圖案容易被看見。為了不容易見到金屬細(xì)線，在金屬細(xì)線 的細(xì)線化、圖案方面進(jìn)行了努力，但具有電阻增高的傾向?？墒?，若為了低電阻化而利用砑 光處理等提高金屬的體積率，則光反射顯著增大，難以兼顧可見性（不容易看見布線圖案） 與低電阻化這兩方面。
[0008] 本發(fā)明是考慮了這樣的課題而進(jìn)行的，其目的在于提供一種適宜用于觸摸面板、 顯示裝置中的透明導(dǎo)電膜，在該透明導(dǎo)電膜中，通過規(guī)定金屬細(xì)線的表面形狀，能夠兼顧實(shí) 現(xiàn)可見性與低電阻化。
[0009] 此外，本發(fā)明的其它目的在于提供一種透明導(dǎo)電膜的制造方法，在該制造方法中， 通過使砑光的按壓面（押L面）為適當(dāng)?shù)牟馁|(zhì)和表面形態(tài)，能夠兼顧透明導(dǎo)電膜的可見性 的提尚和電阻的降低化。
[0010] 此外，本發(fā)明的其它目的在于提供一種觸摸面板，在該觸摸面板中，即使設(shè)置顯示 畫面，也不容易看到布線圖案，而且電阻低，進(jìn)而布線的緊貼性良好，因而可靠性高。
[0011] 此外，本發(fā)明的其它目的在于提供一種顯示裝置，其為在顯示畫面設(shè)置了透明導(dǎo) 電膜的顯示裝置，在該顯示裝置中，不容易看見透明導(dǎo)電膜的布線圖案，而且電阻低，進(jìn)而 布線的緊貼性良好，因而可靠性高。
[0012] 本發(fā)明人為了在通過對具有銀鹽乳劑層的感光材料進(jìn)行曝光、顯影處理而制作的 透明導(dǎo)電膜中應(yīng)用通過將具有凹凸表面的面按壓（押L當(dāng)·^ 3 )至試樣表面而對試樣賦予 防眩性的方法（參照日本特開2005-070435號公報(bào)等）而開始了研究。
[0013] 進(jìn)行了按壓各種表面形態(tài)的面的實(shí)驗(yàn)，結(jié)果明確了，利用通常得到的大部分砑光 輥時(shí)，均無法抑制光反射，或者即使抑制了光反射，但也會產(chǎn)生金屬細(xì)線斷線這樣的問題。 本發(fā)明人進(jìn)一步反復(fù)進(jìn)行了研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)了能夠兼顧光反射的抑制和金屬細(xì)線的低電阻 化的按壓面（押L當(dāng)τ面）的材質(zhì)和表面形態(tài)，從而完成了本發(fā)明。
[0014] 即，本發(fā)明具有以下的結(jié)構(gòu)。
[0015] [1]本發(fā)明的第1方案的透明導(dǎo)電膜為具有支撐體以及在該支撐體上形成的金屬 布線部的透明導(dǎo)電膜，其特征在于，金屬布線部的至少一部分具有滿足Ra 2/Sm > 0. 01 μ m 的表面形狀，并且金屬體積率為35%以上。此處，Ra為算術(shù)平均粗糙度[μπι]，其為表面粗 糙度測量位置的金屬布線的厚度以下。Sm為凹凸的平均間隔[μπι]，其為Ο.ΟΙμπι以上。以 下是相同的。
[0016] 通常，由于金屬布線部的表面為光澤面，因而強(qiáng)烈反射可見光，反射光中的正反射 光的比例（正反射率）增高。其結(jié)果具有構(gòu)成金屬布線部的至少一部分的金屬細(xì)線容易 被視覺辨認(rèn)出這樣的問題。此外，若金屬細(xì)線的金屬體積率低，則入射光進(jìn)入到金屬顆粒 間，因而正反射率降低，但由于金屬顆粒的接觸差，因而具有電阻增高這樣的問題。于是，在 為了降低金屬細(xì)線的電阻而利用砑光處理等提高金屬的體積率時(shí)，表面的金屬顆粒排列致 密，因而正反射率顯著增大，進(jìn)而出現(xiàn)金屬細(xì)線變得顯眼這樣的問題。即，難以兼顧可見性 (金屬細(xì)線不顯眼）和低電阻化這兩方面。
[0017] 因此，在本發(fā)明的第1方案中，金屬布線部的至少一部分呈滿足Ra2/Sm > 0. 01 μ m 的表面形狀。這種情況下，由于散射光的比例增加、正反射率減少，因而不容易視覺辨認(rèn)出 金屬細(xì)線。因此，即使金屬體積率為35%以上，也能夠抑制金屬布線部的光反射。即，能夠 兼顧實(shí)現(xiàn)可見性（金屬細(xì)線不顯眼）與低電阻化。
[0018] 本發(fā)明中的表面形狀（表面粗糙度）采用高度方向和水平方向的空間分辨率高于 0.03 μ m的測量設(shè)備測量得到的值。具體地說，采用物鏡為100倍以上的激光顯微鏡。并且 測量范圍為100 μ m以上300 μ m以下。觸針式表面粗糙度儀的空間分辨率低，無法進(jìn)行本 發(fā)明中規(guī)定的表面粗糙度的測量。
[0019] [2]在本發(fā)明的第1方案中，金屬布線部的至少一部分的Sm優(yōu)選為4μπι以下。能 夠?qū)⒄瓷渎室种圃?. 2%以下。
[0020] [3]在本發(fā)明的第1方案中，金屬布線部的至少一部分正面的正反射率與金屬布 線部的背面的正反射率之差優(yōu)選小于3%。此處，背面是指從與配置有金屬布線部的面相反 的面通過支撐體進(jìn)行觀察的該金屬布線部的面。正反射率為減去在空氣與支撐體的界面處 產(chǎn)生的反射率得到的值。
[0021] 這種情況對于在1個(gè)支撐體的正面與背面分別形成金屬布線部（第1金屬布線部 和第2金屬布線部）的情況等是有效的。
[0022] 即，透明導(dǎo)電膜中的第1金屬布線部的正面的正反射率與通過支撐體進(jìn)行觀察的 一側(cè)的第2金屬布線部的背面的正反射率之差小于3%。由于該原因，不容易視覺辨認(rèn)出構(gòu) 成第1金屬布線部的金屬細(xì)線，同樣也不容易視覺辨認(rèn)出構(gòu)成第2金屬布線部的金屬細(xì)線。 其結(jié)果，在1個(gè)支撐體的正面與背面分別形成了金屬布線部的透明導(dǎo)電膜中，可見性提高， 還能夠謀求第1金屬布線部和第2金屬布線部的低電阻化。
[0023] [4]本發(fā)明的第2方案的透明導(dǎo)電膜的制造方法的特征在于，其具有在支撐體上 形成金屬布線部的工序；以及將在表面具有凹凸的金屬部件按壓至金屬布線部的至少一部 分的砑光工序，對于金屬部件的所述表面的形狀，Ra 2/Sm大于0. 015 μ m。
[0024] 由此，能夠容易地制作金屬布線部的至少一部分具有滿足Ra2/Sm > 0. 01 μ m的表 面形狀，并且金屬體積率為35%以上的透明導(dǎo)電膜。
[0025] [5]本發(fā)明的第3方案的透明導(dǎo)電膜的制造方法的特征在于，其具有在支撐體上 形成金屬布線部的工序；以及將在表面具有凹凸的金屬部件按壓至金屬布線部的至少一部 分的砑光工序，對于金屬部件的表面的形狀，Sm為構(gòu)成金屬布線部的至少一部分的金屬細(xì) 線的線寬以下，Ra為金屬細(xì)線的砑光工序前的厚度的1/6以下，并且Ra 2/Sm大于0. 015 μπι。
[0026] 由此，能夠容易地制作金屬布線部的至少一部分的Sm為4 μπι以下、金屬布線部的 至少一部分具有滿足Ra2/Sm > 0. 01 μ m的表面形狀，并且金屬體積率為35%以上的透明導(dǎo) 電膜。
[0027] [6]本發(fā)明的第4方案的透明導(dǎo)電膜的制造方法的特征在于，其具有在支撐體上 形成金屬布線部的工序；以及將在表面具有凹凸的樹脂板按壓至所述金屬布線部的至少一 部分的砑光工序，對于所述樹脂板的所述表面的形狀，Ra大于0. 15 μ m。
[0028] 由此，能夠容易地制作金屬布線部的至少一部分具有滿足Ra2/Sm > 0. 01 μ m的表 面形狀，并且金屬體積率為35%以上的透明導(dǎo)電膜。需要說明的是，樹脂板也包括樹脂膜。
[0029] [7]這種情況下，所述樹脂板的所述表面的形狀進(jìn)一步優(yōu)選Ra2/Sm大于0. 01 μ m。 由此，能夠容易地制作金屬布線部的至少一部分的Sm為4 μπι以下、金屬布線部的至少一部 分具有滿足Ra2/Sm > 0. 01 μ m的表面形狀，并且金屬體積率為35%以上的透明導(dǎo)電膜。
[0030] [8]本發(fā)明的第5方案的透明導(dǎo)電膜的制造方法的特征在于，其具有在支撐體上 形成金屬布線部的工序，其中該支撐體在表面具有凹凸，對于支撐體的表面的形狀，Ra大于 0. 15 μ m〇
[0031] 由此，通過在支撐體的表面上形成金屬布線部，而成為支撐體的表面的凹凸形狀 被轉(zhuǎn)印至金屬布線部的表面的形態(tài)。即，利用在表面具有凹凸的支撐體上形成金屬布線部 的方法也能夠?qū)崿F(xiàn)金屬布線部的至少一部分具有滿足Ra 2/Sm > 0. 01 μ m的表面形狀，并且 金屬體積率為35%以上的特性。其結(jié)果，與在平滑面上形成金屬膜的情況相比，能夠得到可 見性優(yōu)異的透明導(dǎo)電膜。
[0032] [9]這種情況下，在支撐體上形成金屬布線部的工序可以包括在支撐體的表面上 蒸鍍金屬的工序。由此，能夠得到金屬布線部具有滿足Ra 2/Sm > 0. 01 μ m的表面形狀，并 且金屬體積率為35%以上的透明導(dǎo)電膜。
[0033] [10]或者，在支撐體上形成金屬布線部的工序也可以包括在支撐體的表面上對金 屬進(jìn)行鍍覆處理的工序。這種情況下，也能夠得到金屬布線部具有滿足RaVSm > 0. 01 μ m 的表面形狀，并且金屬體積率為35%以上的透明導(dǎo)電膜。
[0034] [11]在本發(fā)明的第2~第5方案中，金屬布線部可以在至少一部分具有由金屬細(xì) 線形成的網(wǎng)格圖案。
[0035] [12]本發(fā)明的第6方案的透明導(dǎo)電膜的特征在于，其是利用所述第2~第5方案 的透明導(dǎo)電膜的制造方法制造出的。
[0036] [13]在本發(fā)明的第1或第6方案中，金屬布線部的至少一部分可以具有由金屬細(xì) 線形成的網(wǎng)格圖案。
[0037] [14]本發(fā)明的第1或第6方案的特征在于，所述透明導(dǎo)電膜是利用下述透明導(dǎo)電 膜的制造方法制造出的，該制造方法包括下述工序：在支撐體上對具有銀鹽乳劑層的感光 材料進(jìn)行曝光處理的曝光工序；以及對曝光后的銀鹽乳劑層進(jìn)行顯影處理，在支撐體上形 成基于金屬銀部的導(dǎo)電圖案的顯影工序。
[0038] [15]本發(fā)明的第7方案的觸摸面板的特征在于，其具備本發(fā)明第1或第6方案的 透明導(dǎo)電膜。
[0039] 由此，即使設(shè)置于顯示畫面，也不容易見到布線圖案，并且電阻低，進(jìn)而布線的緊 貼性也良好，因而能夠得到可靠性高的觸摸面板。
[0040] [16]本發(fā)明的第8方案的顯示裝置的特征在于，其具備本發(fā)明第1或第6方案的 透明導(dǎo)電膜。
[0041] 由此，在將透明導(dǎo)電膜設(shè)置于顯示畫面的顯示裝置中，不容易見到透明導(dǎo)電膜的 布線圖案，并且電阻低，進(jìn)而布線的緊貼性也良好，因而能夠得到可靠性高的顯示裝置。 [0042] 如以上所說明，根據(jù)本發(fā)明的透明導(dǎo)電膜，通過規(guī)定金屬細(xì)線的表面形狀，能夠兼 顧實(shí)現(xiàn)可見性與低電阻化，適宜用于觸摸面板、顯示裝置中。
[0043] 此外，根據(jù)本發(fā)明的透明導(dǎo)電膜的制造方法，通過使砑光的按壓面為適當(dāng)?shù)牟馁|(zhì) 和表面形態(tài)，能夠兼顧透明導(dǎo)電膜的可見性的提高和電阻的降低化。
[0044] 此外，根據(jù)本發(fā)明的觸摸面板，即使設(shè)置于顯示畫面，也不容易見到布線圖案，并 且電阻低，進(jìn)而布線的緊貼性也良好，因而可靠性高。
[0045] 此外，根據(jù)本發(fā)明的顯示裝置，在將透明導(dǎo)電膜設(shè)置于顯示畫面的顯示裝置中，不 容易見到透明導(dǎo)電膜的布線圖案，并且電阻低，進(jìn)而布線的緊貼性也良好，因而可靠性高。
[0046] 所述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)可通過參照所附的附圖進(jìn)行說明的如下實(shí)施方式的說明容 易地得到理解。
【附圖說明】
[0047] 圖1中，圖IA為部分省略地示出顯示裝置的顯示面板上上所設(shè)置的本實(shí)施方式的 透明導(dǎo)電膜的截面圖，圖IB為部分省略地示出透明導(dǎo)電膜的俯視圖。
[0048] 圖2中，圖2A為示出表面為光澤面的通常的金屬細(xì)線的作用（正反射光率高）的 說明圖，圖2B為示出表面為凹凸面的本實(shí)施方式的金屬細(xì)線的作用（正反射效率低）的說 明圖。
[0049] 圖3中，圖3A為示出金屬體積率低的通常的金屬細(xì)線的作用（正反射效率低）的 說明圖，圖3B為示出金屬體積率高的通常的金屬細(xì)線的作用（正反射效率高）的說明圖。
[0050] 圖4為作圖示出正反射率相對于電極部的Ra2/Sm的變化的圖表。
[0051] 圖5中，圖5A為部分省略地示出在1個(gè)透明基體的正面和背面分別形成金屬布線 部（第1金屬布線部和第2金屬布線部）的結(jié)構(gòu)的截面圖，圖5B為部分省略地示出使2個(gè) 透明導(dǎo)電膜（第1透明導(dǎo)電膜和第2透明導(dǎo)電膜）層疊而成的結(jié)構(gòu)的截面圖。
[0052] 圖6中，圖6A為示出砑光處理的第1方法的說明圖，圖6B為示出砑光處理的第2 方法的說明圖。
[0053] 圖7為作圖示出在金屬輥的Sm為金屬細(xì)線的線寬以下的情況下、以及金屬輥的 Sm比金屬細(xì)線的線寬更寬的情況下，正反射率相對于金屬輥的按壓面的RaVSm的變化的圖 表。
[0054] 圖8中，圖8A和圖8B為示出金屬板或金屬輥的Sm與金屬細(xì)線的線寬之間的關(guān)系 的說明圖，圖8C和圖8D為示出金屬板或金屬輥的Ra與金屬細(xì)線的厚度之間的關(guān)系的說明 圖。
[0055] 圖9為作圖示出正反射率相對于樹脂膜的按壓面的Ra2/Sm的變化的圖表。
[0056] 圖10中，圖IOA為示出在網(wǎng)格試樣上形成的網(wǎng)格圖案電極的俯視圖，圖IOB為示 出構(gòu)成網(wǎng)格圖案電極的正方格的尺寸的俯視圖。
[0057] 圖11為橫軸采取金屬板的按壓面的Ra、縱軸采取按壓面的Sm而作圖示出實(shí)施例 1~3以及比較例3~6、13、14、比較例7~11的結(jié)果的圖表。
【具體實(shí)施方式】
[0058] 下面參照圖IA~圖11對本發(fā)明的透明導(dǎo)電膜及其制造方法、以及觸摸面板和顯 示裝置的實(shí)施方式例進(jìn)行說明。需要說明的是，本說明書中的表示數(shù)值范圍的"~"以包含 其前后所記載的數(shù)值作為下限值和上限值的含義進(jìn)行使用。
[0059] 如圖IA所示，本實(shí)施方式的透明導(dǎo)電膜10具有透明基體12 (支撐體）、以及在該 透明基體12的表面12a上形成的金屬布線部14,例如貼合在顯示裝置16的顯示面板16a 上。即，該透明導(dǎo)電膜10被用作例如顯示裝置16的電磁波屏蔽膜或觸摸面板用的透明導(dǎo) 電膜。作為顯示裝置16可以舉出液晶顯示屏、等離子體顯示屏、有機(jī)EL(電致發(fā)光）、無機(jī) EL等。透明導(dǎo)電膜10也可以被應(yīng)用于顯示裝置16內(nèi)部，與顯示裝置16呈一體來使用。
[0060] 金屬布線部14具有構(gòu)成例如電磁波屏蔽膜或觸摸面板的電極的電極部18 ;以及 對電極部18供給驅(qū)動信號或傳遞來自電極部18的信號的基于多條金屬布線20的布線部 22。例如如圖IB所示，電極部18具有由基于金屬細(xì)線24的多個(gè)格子26排列而成的網(wǎng)格 圖案28。金屬布線20和金屬細(xì)線24例如由以金（Au)、銀（Ag)或銅（Cu)為主成分的金屬 構(gòu)成。
[0061] 金屬布線20的線寬Wa與金屬細(xì)線24的線寬Wb具有Wa多Wb之間的關(guān)系，金屬 布線20的厚度ta與金屬細(xì)線24的厚度tb具有ta多tb之間的關(guān)系。特別是構(gòu)成電極部 18的基于金屬細(xì)線24的格子26的一邊的長度La優(yōu)選為100 μ m~400 μ m以下、進(jìn)一步優(yōu) 選為150 μ m~300 μ m、最優(yōu)選為210 μ m~250 μ m以下。格子26的一邊的長度La為上述 范圍的情況下，還能夠進(jìn)一步良好地保持透明性，在安裝于顯示裝置16的顯示面板16a上 時(shí)，能夠沒有不適感地視覺辨認(rèn)出顯示。作為格子26的形狀，可以舉出正方形、長方形、平 行四邊形、菱形，以及六邊形、八邊形等多邊形。
[0062] 此外，金屬細(xì)線24的線寬Wb可以從30 μπι以下進(jìn)行選擇。將透明導(dǎo)電膜10作為 電磁波屏蔽膜使用的情況下，金屬細(xì)線24的線寬Wb優(yōu)選為1 μ m以上20 μ m以下、更優(yōu)選 為1 μπι以上9 μπι以下、進(jìn)一步優(yōu)選為2 μπι以上7 μπι以下。將透明導(dǎo)電膜10作為觸摸面 板用的透明導(dǎo)電膜使用的情況下，金屬細(xì)線24的線寬Wb優(yōu)選為0. 1 μπι以上15 μπι以下、 更優(yōu)選為I ym以上9 μπι以下、進(jìn)一步優(yōu)選為2 μπι以上7 μπι以下。
[0063] 另外，本實(shí)施方式的透明導(dǎo)電膜10還能夠應(yīng)用于投影型靜電電容方式的觸摸面 板、表面型靜電電容方式的觸摸面板、電阻膜式的觸摸面板。此外，還能夠作為設(shè)置于顯示 裝置16的顯示面板16a的光學(xué)膜加