試樣。
[0398] 〈比較例 10 >
[0399] 作為砑光處理用的毛面部件32,使用具有Ra = 0. 59 μ m、Sm = 4. 76 μ m的表面形 狀的金屬板32A(實施了鍍鉻處理的不銹鋼板），除此以外，與實施例1同樣地得到比較例 10的網(wǎng)格試樣和實心試樣。
[0400] 〈比較例 11 >
[0401] 作為砑光處理用的毛面部件32,使用具有Ra = 0. 41 μ m、Sm = 3. 09 μ m的表面形 狀的金屬板32A(實施了鍍鉻處理的不銹鋼板），除此以外，與實施例1同樣地得到比較例 11的網(wǎng)格試樣和實心試樣。
[0402] 〈比較例 12 >
[0403] 作為砑光處理用的毛面部件32,使用具有Ra = 0.79 μ m、Sm = 41. 13 μ m的表面 形狀的金屬板32A(不銹鋼板），除此以外，與實施例1同樣地得到比較例12的網(wǎng)格試樣和 實心試樣。
[0404] 〈比較例 13 >
[0405] 作為砑光處理用的毛面部件32,使用具有Ra = 0· 38 μ m、Sm = 13. 42 μ m的表面 形狀的金屬板32A(不銹鋼板），除此以外，與實施例1同樣地得到比較例13的網(wǎng)格試樣和 實心試樣。
[0406] 〈比較例 14 >
[0407] 作為砑光處理用的毛面部件32,使用具有Ra = 0. 28 μ m、Sm = 8. 04 μ m的表面形 狀的金屬板32A(不銹鋼板），除此以外，與實施例1同樣地得到比較例14的網(wǎng)格試樣和實 心試樣。
[0408] (評價結果）
[0409] 實施例1~15以及比較例1~14的詳細內(nèi)容和評價結果列于下表3。需要說明 的是，在表3中，單位[μ m]被記為[um]。
[0410] [表 3]
[0411]
[0412] 根據(jù)表3,實施例1~15中，布線電阻比、緊貼性、圖案可見性難易均良好。特別 是實施例1、2、8~10、12~14中的布線電阻比、緊貼性、圖案可見性難易均為"A"評價，非 常好。使用樹脂膜32B (PET膜）作為毛面部件32的實施例8~15的特性全部良好。在例 如使用金屬板32A作為毛面部件32的實施例3中，正反射率為1.2%、圖案可見性難易的 評價為"B";在使用相同金屬板32A的實施例4中，正反射率為2. 3%、圖案可見性難易的評 價為"C"。與此相對，在使用樹脂膜32B作為毛面部件32的例如實施例11中，盡管正反射 率為2. 8%，但圖案可見性難易的評價為"B"。在實施例4~7中，毛面部件32的表面形狀 的Sm大于金屬細線的線寬（4 μπι)、實心試樣的表面形狀的Sm大于4 μπι，因而圖案可見性 難易為"C"評價，但實用上沒有問題。另外，在實施例4~7中，毛面部件32的表面形狀的 Ra大于砑光處理前的金屬細線24的厚度tc ( = 2. 5 μ m)的1/6 (=約0. 42 μ m)，因而布線 電阻比為"B"評價，但與比較例1相比電阻下降，為良好。
[0413] 此外，在布線電阻比的評價中，實施例1~3均為"A"、比較例7~11均為"D"。在 圖案可見性難易的評價中，實施例1和2均為"A"、實施例3為"B"，比較例3~6、12~14 均為"D"。因此，在圖11中，橫軸采取金屬板的按壓面的Ra、縱軸采取按壓面的Sm，代表性 地示出了對評價最好的實施例1~3、以及布線電阻比和圖案可見性難易的評價中任意一 者的評價差的比較例3~6、比較例7~11、13和14進行作圖的圖表。需要說明的是，在比 較例12中，Sm很高、為41. 13,因而省略了作圖。曲線Lc表示Sm = Ra2A). 015。
[0414] 由此可得出下述判斷。即，在透明導電膜10中，優(yōu)選金屬布線部14的形成了網(wǎng)格 圖案電極42的部分的表面形狀滿足Ra 2/Sm > 0. 01 μπκ并且金屬體積率為35%以上。進 而更優(yōu)選形成了網(wǎng)格圖案電極42的部分的Sm為4 μ m以下。
[0415] 另外，在使用金屬板32A作為砑光處理中使用的毛面部件32的情況下，優(yōu)選使用 RaVSm大于0. 015 μ m的金屬板。特別優(yōu)選使用Sm為金屬細線24的線寬Wb以下、Ra為砑 光處理前的金屬細線24的厚度tc的1/6以下、并且Ra 2/Sm大于0. 015 μ m的金屬板。
[0416] 另一方面，在使用樹脂膜32B作為砑光處理中使用的毛面部件32的情況下，優(yōu)選 使用表面形狀的Ra大于0. 15 μ m的樹脂膜。并且優(yōu)選使用Ra2/Sm大于0. 01 μ m的樹脂膜。
[0417] 在上述實施例中，示出了使用毛面部件32進行砑光處理的情況下的評價，然而， 在不使用毛面部件32而使用基于表面進行了粗面加工的金屬輥與表面進行了鏡面加工的 樹脂輥的組合的砑光裝置的情況下，也可得到同樣的評價。關于這種情況下的砑光處理，對 于網(wǎng)格試樣和實心試樣施加千斤頂壓力11. 4MPa的壓力，以120_/分鐘的速度進行輸送， 來進行砑光處理。此時，按照網(wǎng)格試樣和實心試樣的金屬部與金屬輥接觸的方式來進行砑 光處理。需要說明的是，在金屬輥的表面特性評價中，將金屬輥的端部表面切削成載置于顯 微鏡的載物臺的大小來進行。
[0418] 由于制造用的金屬輥無法通過切削來進行使用，因而實質(zhì)上不可能進行基于切削 的評價，但在以下的方法中，可通過將表面形狀轉(zhuǎn)印到膜上并對膜的表面形狀進行評價來 測量金屬輥的表面形狀（表面粗糙度）。
[0419] 首先，將厚度為40 μ m的三乙酰纖維素膜（以下記為TAC)在丙酮中浸漬5秒。將 浸漬于丙酮中之后的該TAC以沒有氣泡混入的方式輕輕蓋在金屬輥上，進行自然干燥。干 燥后，緩慢地剝?nèi)≡揟AC，則金屬輥的表面形狀被轉(zhuǎn)印至TAC。與實施例1的表面形狀評價 的方法同樣地利用激光顯微鏡測量該TAC的轉(zhuǎn)印面的表面粗糙度，則求出金屬輥的表面粗 糙度。該TAC的轉(zhuǎn)印面的表面粗糙度Ra和Sm與轉(zhuǎn)印部位的金屬輥的表面粗糙度Ra和Sm 完全一致，無需特別進行數(shù)值的校正。
[0420] [第2實施例]
[0421] 在實施例16、17和比較例15中，改變支撐體的表面形狀進行各種特性的評價。實 施例16、17和比較例15的詳細內(nèi)容和評價結果列于后述的表4。需要說明的是，在表4中， 也將單位[μ m]記為[um]。
[0422] 〈實施例 16 >
[0423] (1.包含經(jīng)還原的金屬顆粒的鍍覆底涂聚合物層的形成）
[0424] [鍍覆底涂聚合物層形成用組合物的制備]
[0425] 在使丙烯酸聚合物：7. 1質(zhì)量％溶解在1-甲氧基-2丙醇73質(zhì)量％、水19. 9質(zhì) 量％的混合溶劑中的溶液中進一步添加光聚合引發(fā)劑（Esacure KT0-46、Lamberti社制 造）：0. 35質(zhì)量％并進行攪拌，制備鍍覆底涂聚合物溶液。
[0426] 將所得到的鍍覆底涂聚合物溶液通過棒涂法按照厚度約0. 55 μ m涂布在具有Ra =0· 23 μ m、Sm = L 89 μ m的表面形狀的PET膜（富士膠片株式會社制造）上，在室溫干燥 10分鐘以及在80°C干燥5分鐘后，利用UV照射裝置（GS YUASA社制造，金屬鹵化物燈）在 254nm的波長下進行1000mJ/cm2的UV曝光。在網(wǎng)格圖案電極的制作中，在UV曝光時使用 網(wǎng)格圖案掩模。
[0427] 將所得到的涂布有鍍覆底涂聚合物的PET膜基板在1質(zhì)量％的碳酸氫鈉水溶液中 浸漬5分鐘后利用純水沖洗1分鐘來進行清洗，除去未反應聚合物。
[0428] (2.金屬前體的賦予）
[0429] 作為包含鍍覆金屬前體的溶液，調(diào)制硝酸銀的1質(zhì)量％水溶液。將上述工序中得 到的涂布有鍍覆底涂聚合物的PET膜基板在調(diào)制的金屬前體液中浸漬5分鐘后，利用純水 沖洗1分鐘來進行清洗，進行金屬前體的賦予。
[0430] (3.金屬前體的還原）
[0431] 作為還原液，調(diào)制甲醛0. 25質(zhì)量％、氫氧化鈉0. 14質(zhì)量％的混合水溶液。將上述 工序中得到的被賦予了金屬前體的PET膜基板在調(diào)整的還原液中浸漬1分鐘后，利用純水 沖洗1分鐘來進行清洗，進行金屬前體的還原。
[0432] (4.電鍍）
[0433] 作為電鍍前處理，將上述工序中得到的在表面具有還原金屬的PET膜基板在DYNE CLEANER AClOO (大和化成社制造）的10質(zhì)量％水溶液中浸漬30秒后，利用純水沖洗1分 鐘來進行清洗。接著，作為相同的電鍍前處理，在Dyne Silver ACC(大和化成社制造）的 10質(zhì)量％水溶液中浸漬10秒后，利用純水沖洗1分鐘來進行清洗。
[0434] 作為電鍍液使用Dyne Silver Bright PL50(大和化成社制造），利用8M氫氧化鉀 調(diào)整至pH9. 0。將上述前處理之后的在表面具有還原金屬的PET膜基板浸漬在電鍍液中，在 0. 5A/dm2鍍覆20秒，利用純水沖洗1分鐘來進行清洗。
[0435] 作為電鍍后處理，將鍍覆后的PET膜基板在Dyne Silver ACC(大和化成社制造） 的10質(zhì)量％水溶液中浸漬90秒后，利用純水沖洗1分鐘來進行清洗。
[0436] 由此得到銀層的厚度為200nm的實心試樣和網(wǎng)格試樣。與實施例1同樣地進行評 價，結果實心試樣的正反射率為2. 1 %、金屬部的Ra = 0. 18 μπκSm = 2. 21 μm、金屬體積率 =97%、網(wǎng)格試樣的布線電阻比為A、緊貼性為A、圖案可見性為C。
[0437] 〈實施例 17 >
[0438] 使用日本電子制JEE-400型真空蒸鍍裝置，在具有Ra = 0· 23 μπκ Sm = L 89 μπι 的表面形狀的PET膜（開成工業(yè)株式會社制造）上將銀進行厚度為200nm的蒸鍍處理。
[0439] 與實施例1同樣地進行評價，結果實心試樣的正反射率為3. 4%、金屬部的Ra = 0. 17 μπκSm = 2. 42 μπκ金屬體積率=97%、網(wǎng)格試樣的布線電阻比為A、緊貼性為A、圖案 可見性為c。
[0440] 〈比較例 15 >
[0441] 在實施例16中，不使用具有Ra = 0.23 μπκ Sm= 1.89 μπι的表面形狀的PET膜 (開成工業(yè)株式會社制造）而使用具有平滑面（Ra = 0· 03 μ m、Sm = 0· 83 μ m)的PET膜 (富士膠片社制造），除此以外與實施例16同樣地得到銀層的厚度為200nm的實心試樣和 網(wǎng)格試樣。
[0442] 與實施例1同樣地進行評價，結果實心試樣的正反射率為73. 3%、金屬部的Ra = 0. 04 μ m、Sm = 1. 10 μ m、金屬體積率=97%、網(wǎng)格試樣的布線電阻比為A、緊貼性為A、圖案 可見性為D。
[0445] 根據(jù)表4,實施例16和17中，布線電阻比和緊貼性均為"A"評價，為良好。不過， 正反射率為2. 1 %和3. 4%，與上述第1實施例的實施例4等同樣，因而圖案可見性難易為 "C"評價，但實用上沒有問題。在支撐體上通過鍍覆形成金屬膜的情況（實施例16)以及通 過蒸鍍形成金屬膜的情況（實施例17)下，通過鍍覆形成的情況的正反射率低。
[0446] 關于在平滑面形成了金屬膜的比較例15,盡管通過鍍覆形成了金屬膜，但正反射 率非常高、為73. 3%，圖案可見性難易為"D"評價。
[0447] 由此可知，在表面具有凹凸的支撐體上形成金屬布線部的情況下，可實現(xiàn)與上述 第1實施例的實施例3、實施例4等大致同樣的特性。此外，由實施例16和17與比較例15 可知，與在平滑面形成金屬膜的情況相比，通過在表面具有凹凸的支撐體上形成金屬布線 部，可見性優(yōu)異。
[0448] 需要說明的是，本發(fā)明的透明導電膜、透明導電膜的制造方法、觸摸面板和顯示裝 置并不限于上述實施方式，不消說可以在不脫離本發(fā)明的要點的情況下采取各種結構。
【主權項】
1. 一種透明導電膜，其具有支撐體（12)以及在該支撐體（12)上形成的金屬布線部 (14)，該透明導電膜的特征在于， 所述金屬布線部（14)的至少一部分具有滿足Ra2/Sm > 0.0 l y m的表面形狀，并且金 屬體積率為35%以上， 所述Ra表示算術平均粗糙度，為進行了表面粗糙度測量的位置的金屬細線（24)的厚 度以下，單位為ym， 所述Sm為凹凸的平均間隔，該Sm為0. 01 iim以上。2. 根據(jù)權利要求1所述的透明導電膜，其特征在于， 所述金屬布線部（14)的至少所述一部分的Sm為4 ym以下。3. 根據(jù)權利要求1所述的透明導電膜，其特征在于， 所述金屬布線部（14)的至少所述一部分正面的正反射率與背面的正反射率之差小于 3%〇4. 根據(jù)權利要求1所述的透明導電膜，其特征在于， 所述金屬布線部（14)的至少一部分具有由所述金屬細線（24)形成的網(wǎng)格圖案（28)。5. 根據(jù)權利要求1所述的透明導電膜，其特征在于，該透明導電膜是利用下述透明導 電膜的制造方法來制造的，該制造方法包括下述工序： 曝光工序，在所述支撐體（12)上對具有銀鹽乳劑層的感光材料進行曝光處理；以及 顯影工序，對曝光后的所述銀鹽乳劑層進行顯影處理，在所述支撐體（12)上形成基于 金屬銀部的導電圖案。6. -種透明導電膜的制造方法，其特征在于，具有下述工序： 在支撐體（12)上形成金屬布線部（14)的工序；以及 砑光工序，將在表面（30)具有凹凸的金屬部件（32)按壓至所述金屬布線部（14)的至 少一部分， 對于所述金屬部件（32)的所述表面（30)的形狀，Ra2/Sm大于0.015 ym， 所述Ra表示算術平均粗糙度，為進行了表面粗糙度測量的位置的金屬細線（24)的厚 度以下，單位為ym， 所述Sm為凹凸的平均間隔，該Sm為0. 01 iim以上。7. 根據(jù)權利要求6所述的透明導電膜的制造方法，其特征在于， 所述金屬布線部（14)在至少一部分具有由所述金屬細線（24)形成的網(wǎng)格圖案（28)。8. -種透明導電膜的制造方法，其特征在于，具有下述工序： 在支撐體（12)上形成金屬布線部（14)的工序；以及 砑光工序，將在表面（30)具有凹凸的金屬部件（32)按壓至所述金屬布線部（14)的至 少一部分， 對于所述金屬部件（32)的所述表面（30)的形狀，Sm為構成所述金屬布線部（14)的 至少所述一部分的金屬細線（24)的線寬以下，Ra為所述金屬細線（24)的砑光工序前的厚 度的1/6以下，并且Ra2/Sm大于0? 015 y m， 所述Ra表示算術平均粗糙度，為進行了表面粗糙度測量的位置的金屬細線（24)的厚 度以下，單位為ym， 所述Sm為凹凸的平均間隔，該Sm為0. 01 iim以上。9. 根據(jù)權利要求8所述的透明導電膜的制造方法，其特征在于， 所述金屬布線部（14)在至少一部分具有由所述金屬細線（24)形成的網(wǎng)格圖案（28)。10. -種透明導電膜的制造方法，其特征在于，具有下述工序： 在支撐體（12)上形成金屬布線部（14)的工序；以及 砑光工序，將在表面（30)具有凹凸的樹脂板（32)按壓至所述金屬布線部（14)的至少 一部分， 對于所述樹脂板（32)的所述表面（30)的形狀，Ra大于0. 15 ym， 所述Ra表示算術平均粗糙度，為進行了表面粗糙度測量的位置的金屬細線（24)的厚 度以下。11. 根據(jù)權利要求10所述的透明導電膜的制造方法，其特征在于， 對于所述樹脂板（32)的所述表面（30)的形狀，Ra2/Sm進一步大于0.01 ym， 所述Sm為凹凸的平均間隔，該Sm為0. 01 ixm以上。12. 根據(jù)權利要求10所述的透明導電膜的制造方法，其特征在于， 所述金屬布線部（14)在至少一部分具有由所述金屬細線（24)形成的網(wǎng)格圖案（28)。13. -種透明導電膜的制造方法，其特征在于， 該制造方法具有在支撐體（12)上形成金屬布線部（14)的工序，其中該支撐體（12)在 表面（12a)具有凹凸， 對于所述支撐體（12)的所述表面（12a)的形狀，Ra大于0. 15 ym， 所述Ra表示算術平均粗糙度，為進行了表面粗糙度測量的位置的金屬細線（24)的厚 度以下。14. 根據(jù)權利要求13所述的透明導電膜的制造方法，其特征在于， 在所述支撐體（12)上形成所述金屬布線部（14)的工序包括將金屬蒸鍍在所述支撐體 (12)的所述表面（12a)上的工序。15. 根據(jù)權利要求13所述的透明導電膜的制造方法，其特征在于， 在所述支撐體（12)上形成所述金屬布線部（14)的工序包括在所述支撐體（12)的所 述表面（12a)上對金屬進行鍍覆處理的工序。16. 根據(jù)權利要求13所述的透明導電膜的制造方法，其特征在于， 所述金屬布線部（14)在至少一部分具有由所述金屬細線（24)形成的網(wǎng)格圖案（28)。
【專利摘要】本發(fā)明涉及透明導電膜和透明導電膜的制造方法。透明導電膜為具有透明基體(12)以及在該透明基體(12)上形成的金屬布線部(14)的透明導電膜(10)，其中，構成金屬布線部(14)的電極部(18)的金屬細線(24)具有滿足Ra2/Sm＞0.01μm的表面形狀，并且金屬體積率為35％以上。另外，Ra表示算術平均粗糙度，為表面粗糙度測量位置的金屬布線的厚度以下，單位為μm。Sm為凹凸的平均間隔，為0.01μm以上。
【IPC分類】G09F9/00, H05B33/14, H01L51/50, H01B13/00, H01B5/14, H05B33/28, G06F3/041, B32B15/08, G06F3/044
【公開號】CN105247626
【申請?zhí)枴緾N201480030001
【發(fā)明人】片桐健介, 田尻新, 長谷明彥
【申請人】富士膠片株式會社
【公開日】2016年1月13日
【申請日】2014年5月14日
【公告號】US20160081184, WO2014188918A1