慮，優(yōu)選相對(duì)于每Im 2為40~4(K)L/min，更優(yōu) 選相對(duì)于每Im2為100~40化/min。
[0048] 此外，在上述實(shí)施方式中，在輸送漉7上載置并保持基板2,但基板2只要在向清洗 面2a供給臭氧水的狀態(tài)下，W能夠向清洗面2a的相反側(cè)的面照射上述波長的紫外線的方式 進(jìn)行保持，基板2的保持的方式和方法就沒有特別的限定。
[0049] 清洗裝置1中的基板的清洗既可W采用間歇式進(jìn)行，也可W采用連續(xù)式進(jìn)行。在對(duì) 小型基板進(jìn)行清洗的情況下，優(yōu)選采用間歇式進(jìn)行。
[0050] 本發(fā)明的清洗方法是W節(jié)能化、低成本化、具有高清洗能力為特征的清洗方法，特 別是通過適用于清洗面積較大的液晶玻璃基板的清洗，可W發(fā)揮較大的效果。特別是近年 來，液晶玻璃基板的大型化非常明顯，從而為了清洗的均勻性W及清洗時(shí)間的縮短，平流清 洗正在成為主流。本發(fā)明的效果并不只限于平流清洗方法，可W適用于采用噴淋等使清洗 液流過的噴淋法、向旋轉(zhuǎn)的基板上供給清洗液的旋轉(zhuǎn)清洗法、將基板浸潰在裝有清洗液的 間歇式浸潰槽中的浸潰清洗法W及它們的組合等使用清洗液的W往公知的所有清洗方法， 無論是哪種清洗方法，都與本實(shí)施方式同樣，可W得到清洗效率的提高效果。另外，通過在 上述各清洗方法中并用使用海綿(擦拭)等的物理清洗，也可W進(jìn)一步提高清洗效率。
[0051] 如上所述，根據(jù)本實(shí)施方式的清洗裝置，與W前的使用濃的藥品和清洗液的清洗 方法相比，可W減輕排水處理負(fù)荷和環(huán)境負(fù)荷，從而也可W使裝置構(gòu)成簡單化。因此，通過 臭氧水可W提高基板的清洗效率。
[0052] 實(shí)施例
[0053] 接著，就實(shí)施例進(jìn)行說明。
[0054] (實(shí)施例1)
[0055] 作為被清洗物，使用大小為長50mmX寬50mmX厚度0.7111111、對(duì)波長是254加1的紫外 線的透過率為99 %的液晶玻璃基板。向該基板的清洗面W IL/min的流量（相對(duì)于每Im2為 400L/min)供給濃度為10化pm的臭氧水，同時(shí)從距玻璃基板為IOmm的下方W3.8mW/m 2的紫 外線照度向清洗面的相反側(cè)的面照射波長在254nm附近的紫外線。作為紫外線照射裝置，使 用低壓水銀燈AY-11(商品名，日本7才|^哥斗工シス（株)公司生產(chǎn)）。
[0056] 采用接觸角計(jì)PG-X(商品名，（株)7 y樂一公司生產(chǎn))對(duì)清洗前的液晶玻璃基板表 面的水接觸角、和清洗時(shí)間0秒、30秒、60秒、180秒、300秒、600秒后的液晶玻璃基板表面的 水接觸角進(jìn)行了測定。水接觸角的測定結(jié)果如表1所示。水接觸角越小，附著于液晶玻璃基 板上的有機(jī)物越少，表示越可W更加良好地進(jìn)行清洗。另外，所使用的低壓水銀燈的波長特 性如圖5所示。
[0057] (比較例1)
[0058] 在實(shí)施例1中，從清洗面?zhèn)日丈渥贤饩€，除此W外，在與實(shí)施例1同樣的條件下進(jìn)行 液晶玻璃基板的清洗，并測定了液晶玻璃基板表面的水接觸角隨時(shí)間的變化。結(jié)果如表1所 /J、- O
[0059] (比較例2)
[0060] 在實(shí)施例1中，不照射紫外線而進(jìn)行清洗，除此W外，在與實(shí)施例1同樣的條件下進(jìn) 行液晶玻璃基板的清洗，并測定了液晶玻璃基板表面的水接觸角隨時(shí)間的變化。結(jié)果一并 表示在表1中。
[0061] (比較例3)
[0062] 在比較例1中，對(duì)使用精細(xì)噴射(PT-010J50(方レテッ夕公司生產(chǎn)））而從臭氧水噴 嘴化供給的臭氧水施加超聲波，除此W外，在與比較例1同樣的條件下進(jìn)行液晶玻璃基板的 清洗，并測定了液晶玻璃基板表面的水接觸角隨時(shí)間的變化。結(jié)果如表1所示。比較例3僅表 現(xiàn)出與比較例2大致同等的清洗效果。運(yùn)表明通過對(duì)臭氧水膜施加振動(dòng)，紫外線被臭氧水膜 反射，因而紫外線照射的效果沒有表現(xiàn)出來。
[0063] 表 1
[0065] 由W上已經(jīng)判明：通過照射波長250~260nm的紫外線，清洗效率得W提高，特別在 從液晶玻璃基板的清洗面的相反側(cè)的面照射紫外線的情況下，與從清洗面?zhèn)日丈涞那闆r相 比，可W在短時(shí)間內(nèi)使接觸角減小、即在短時(shí)間內(nèi)進(jìn)行良好的清洗。
[0066] 符號(hào)說明：
[0067] 1清洗裝置 2基板
[0068] 2a清洗面 化紫外線照射面
[0069] 3被清洗物 4臭氧水膜
[0070] 5臭氧水供給部 5a臭氧水制造部
[0071] 化臭氧水噴嘴 6紫外線照射部
[0072] 7輸送漉
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種紫外線透過性基板的清洗裝置，其特征在于，所述紫外線透過性基板的清洗裝 置具有： 臭氧水供給部，其向所述基板的清洗面供給臭氧水；以及 紫外線照射部，其在向所述基板的清洗面供給臭氧水的狀態(tài)下，向所述基板的清洗面 的相反側(cè)的面照射包含250~260nm的波長的紫外線。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的紫外線透過性基板的清洗裝置，其特征在于，所述臭氧水供給 部具有向所述清洗面供給所述臭氧水的臭氧水噴嘴。3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的紫外線透過性基板的清洗裝置，其特征在于，所述清洗裝 置具有制造臭氧水并向所述臭氧水供給部供給的臭氧水制造部。4. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的紫外線透過性基板的清洗裝置，其特征在于，從所述紫外 線照射部的光源至所述基板的清洗面的相反側(cè)的面的距離為5~20_。5. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的紫外線透過性基板的清洗裝置，其特征在于，所述紫外線 照射部具有選自低壓水銀燈、準(zhǔn)分子燈以及發(fā)光二極管LED之中的1種以上。6. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的紫外線透過性基板的清洗裝置，其特征在于，所述基板對(duì) 波長為254nm的紫外線的吸光系數(shù)在50%以下。7. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的紫外線透過性基板的清洗裝置，其特征在于，所述基板為 液晶玻璃基板。8. -種紫外線透過性基板的清洗方法，其特征在于，所述紫外線透過性基板的清洗方 法具有以下工序： 保持所述基板的工序； 向保持的所述基板的清洗面供給臭氧水的工序；以及 在使所述基板的清洗面與臭氧水接觸的狀態(tài)下向所述基板的清洗面的相反側(cè)的面照 射包含250~260nm的波長的紫外線的工序。9. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的紫外線透過性基板的清洗方法，其特征在于，所述臭氧水的臭 氧濃度為50ppm以上。10. 根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的紫外線透過性基板的清洗方法，其特征在于，所述臭氧水 的溫度為15°C~50°C。11. 根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的紫外線透過性基板的清洗方法，其特征在于，所述基板對(duì) 波長為254nm的紫外線的吸光系數(shù)在50%以下。12. 根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的紫外線透過性基板的清洗方法，其特征在于，所述基板為 液晶玻璃基板。
【專利摘要】實(shí)施方式的紫外線透過性基板的清洗裝置具有：臭氧水供給部，其向基板的清洗面供給臭氧水；以及紫外線照射部，其在向所述基板的清洗面供給臭氧水的狀態(tài)下，向所述基板的清洗面的相反側(cè)的面照射包含250～260nm的波長的紫外線。
【IPC分類】G02F1/13, G02F1/1333, H01L21/304, B08B7/00, B08B3/10, B08B3/08
【公開號(hào)】CN105637619
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201480056479
【發(fā)明人】自在丸隆行
【申請(qǐng)人】野村微科學(xué)股份有限公司
【公開日】2016年6月1日
【申請(qǐng)日】2014年11月19日
【公告號(hào)】WO2015075922A1