外延片清洗裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種外延片清洗裝置，尤其涉及在外延片磨邊后使用的清洗裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]根據(jù)半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝，金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積以熱分解反應(yīng)方式在諸如藍(lán)寶石的襯底片上進(jìn)行化學(xué)沉積反應(yīng)，生長(zhǎng)各種II1- V族、I1-VI族化合物半導(dǎo)體以及它們的多元固溶體的薄層單晶材料，從而形成藍(lán)寶石外延片，但是，在半導(dǎo)體生長(zhǎng)過程中會(huì)出現(xiàn)外延片邊緣沉積較多，生產(chǎn)出的外延片邊緣偏厚，從而直接導(dǎo)致后續(xù)工序異常，如:減薄后邊緣厚度偏薄、激光切割時(shí)邊緣區(qū)域氮化嫁層劃出白點(diǎn)、裂片裂不開等。損失外延片邊緣幾圈芯片，造成外延片的芯片優(yōu)良率較低。
[0003]針對(duì)上述問題，需要將外延片邊邊緣偏厚部分去除，而較可行的辦法就是用砂輪進(jìn)行磨邊。磨邊后的藍(lán)寶石外延片表面會(huì)被沾污，因此，需要一種使用簡(jiǎn)便的裝置對(duì)外延片的表面進(jìn)行清理。
[0004]在半導(dǎo)體領(lǐng)域，已有一些針對(duì)晶片的清洗裝置，如申請(qǐng)?zhí)枮?01010195947.4的專利公開了晶片雙流體清洗裝置，一般主要由水與氣混合的方式來(lái)清洗晶片。而針對(duì)磨邊后單片外延片的清洗，更需要一種高效、高質(zhì)量的清洗方法，用高壓去離水去清洗是一種較好的實(shí)現(xiàn)方式。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0005]為解決外延片磨邊處理后的清洗問題，本實(shí)用新型提供了一種外延片清洗裝置，該外延片清洗裝置包括轉(zhuǎn)動(dòng)操作的清洗部分和轉(zhuǎn)動(dòng)操作的承載部分，清洗部分和承載部分固定在臺(tái)板上，其中，清洗部分包括:噴頭，該噴頭位于承載部分的上方；液體輸送管，該液體輸送管具有進(jìn)口端和出口端，出口端與噴頭相連，軸承部，該軸承部支承液體輸送管；以及電機(jī)，該電機(jī)設(shè)置在臺(tái)板下方驅(qū)動(dòng)液體輸送管作往復(fù)擺動(dòng)。
[0006]根據(jù)本實(shí)用新型的另一個(gè)方面，液體輸送管的進(jìn)口端位于臺(tái)板下方。
[0007]根據(jù)本實(shí)用新型的另一個(gè)方面，液體輸送管包括:第一橫管，第一橫管的一端連接到噴頭；豎管，豎管垂直于第一橫管并與第一橫管流體聯(lián)通；以及，第二橫管，第二橫管位于臺(tái)板下方并且流體聯(lián)通地連接于豎管。
[0008]根據(jù)本實(shí)用新型的另一個(gè)方面，豎管包括空心段和實(shí)心段，空心段和實(shí)心段連續(xù)直線延伸，第一橫管和第二橫管均連接在豎管的空心段上，并且，實(shí)心段的一端連接空心段，實(shí)心段的另一端連接到電機(jī)。
[0009]根據(jù)本實(shí)用新型的又一個(gè)方面，清洗裝置還包括輸送干燥氣體的氣管，氣管通過支架支承在第一橫管上。
[0010]根據(jù)本實(shí)用新型的又一個(gè)方面，承載部分包括承載盤、轉(zhuǎn)軸以及承載盤電機(jī)，轉(zhuǎn)軸的一端與承載盤相連，轉(zhuǎn)軸的另一端通過聯(lián)軸器與承載盤電機(jī)相連，承載盤電機(jī)位于臺(tái)板的下方，所述承載盤設(shè)有真空吸附裝置，所述外延片通過真空吸附裝置的真空吸附作用固定在所述承載盤上。
[0011]根據(jù)本實(shí)用新型的又一個(gè)方面，軸承部包括緊固在臺(tái)板上的軸承座、在軸承座內(nèi)部分別置于軸承座上下兩端的上軸承和下軸承以及閉合軸承座的防水蓋，液體輸送管穿過防水蓋并由上軸承和下軸承轉(zhuǎn)動(dòng)支承。
[0012]較佳地，液體輸送管上設(shè)有卡簧槽用以安裝軸卡簧，軸承座的內(nèi)壁上有兩個(gè)卡簧槽分別用以安裝第一孔卡簧和第二孔卡簧，軸卡簧和第一孔卡簧固定上軸承的軸向位置，第二孔卡簧和臺(tái)板固定下軸承的軸向位置。此外，防水蓋的外周設(shè)有突邊，軸承座的上端設(shè)有臺(tái)階部，防水蓋的突邊與軸承座的臺(tái)階部相配合。另外，軸承座的與臺(tái)板接觸的底部可設(shè)有密封圈槽，密封圈設(shè)置在密封圈槽中。
[0013]采用根據(jù)本實(shí)用新型的清洗裝置，外延片清洗裝置可以高效地、全面地對(duì)經(jīng)磨邊處理的外延片進(jìn)行清洗。
【附圖說明】
[0014]圖1為示出了根據(jù)本實(shí)用新型的外延片清洗裝置的剖視圖。
[0015]圖2為根據(jù)本實(shí)用新型的外延片清洗裝置的局部放大剖視圖，其中示出了軸承部的細(xì)節(jié)。
【具體實(shí)施方式】
[0016]下面結(jié)合具體實(shí)施例和附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明，在以下的描述中闡述了更多的下面結(jié)合具體實(shí)施例和附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明，在以下的描述中闡述了更多的細(xì)節(jié)以便于充分理解本實(shí)用新型，但是本實(shí)用新型顯然能夠以多種不同于此描述的其它方式來(lái)實(shí)施，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以在不違背本實(shí)用新型內(nèi)涵的情況下根據(jù)實(shí)際應(yīng)用情況作類似推廣、演繹，因此不應(yīng)以此具體實(shí)施例的內(nèi)容限制本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
[0017]圖1示出了根據(jù)本實(shí)用新型的外延片清洗裝置100的剖視圖。清洗裝置100包括位于一側(cè)可操作轉(zhuǎn)動(dòng)的清洗部分和位于另一側(cè)的可操作轉(zhuǎn)動(dòng)的承載部分。清洗部分和承載部分一同固定安裝在臺(tái)板7上。
[0018]圖1的左側(cè)為清洗裝置100的承載部分。該承載部分包括承載盤2、轉(zhuǎn)軸3以及電機(jī)4，其中，承載盤用于承載經(jīng)過磨邊操作的外延片1，例如藍(lán)寶石外延片。通常，承載盤設(shè)有真空吸附裝置(未圖示)，外延片I通過真空吸附裝置的真空吸附作用固定在承載盤上。轉(zhuǎn)軸3的一端與承載盤2相連，轉(zhuǎn)軸3的另一端通過聯(lián)軸器5與電機(jī)4相連，從而在電機(jī)4的轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，承載盤2能夠隨之旋轉(zhuǎn)。轉(zhuǎn)軸3基本垂直于臺(tái)板7延伸，位于臺(tái)板7下方的電機(jī)4通過支架6固定于臺(tái)板7。
[0019]圖1的右側(cè)為清洗裝置100的清洗部分。該清洗部分包括位于承載部分上方的噴頭8、具有出口端112和進(jìn)口端111的液體輸送管、將液體輸送管固定于臺(tái)板7的軸承部以及通常過支架22固定于臺(tái)板7下側(cè)的電機(jī)13。
[0020]如圖1所示，液體輸送管包括位于臺(tái)板7上方的第一橫管9、豎管10和第二橫管11，其中豎管10垂直于第一橫管9并且流體聯(lián)通地連接于第一橫管9，第二橫管11位于臺(tái)板7下方并且流體聯(lián)通地連接于豎管10。圖1示出的豎管10包括空心段101和實(shí)心段102，空心段101和實(shí)心段102連續(xù)地沿直線延伸，第一橫管9和第二橫管11均連接在豎管10的空心段101上，而實(shí)心段102的末端通過聯(lián)接器14連接到電機(jī)13。噴頭8連接到第一橫管9的出口端112 (該出口端即為液體輸送管的出口端)，并布置在承載盤2的上方一定距離處。第一橫管9的另一端通過轉(zhuǎn)接彎頭12連接到豎管10的空心段101的上端，豎管10的空心段101的下端連接到第二橫管11，該第二橫管11還包括進(jìn)口端111 (該進(jìn)口端即為液體輸送管的進(jìn)口端)，用于沖洗的液體從進(jìn)口端111進(jìn)入，通常，用于沖洗的液體為去離子水。
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