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一種防輻射鋼化玻璃膜的制作方法

文檔序號:12421833閱讀:來源:國知局

技術(shù)特征:

1.一種防輻射鋼化玻璃膜,包括鋼化玻璃層、透明基材層,所述鋼化玻璃層設(shè)置在所述透明基材層的上端,在所述透明基材層的下端設(shè)置有膠粘層,在所述膠粘層的下端和所述鋼化玻璃層的上方分別設(shè)置有離型層;其特征在于:所述鋼化玻璃層包括玻璃基片,在所述玻璃基片上設(shè)置有第一氮化硅膜層、第二氮化硅膜層和第三氮化硅膜層,在所述玻璃基片與第一氮化硅膜層之間、所述第一氮化硅膜層與第二氮化硅膜層之間和第二氮化硅膜層與第三氮化硅膜層之間分別設(shè)置有透明導(dǎo)電膜層。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種防輻射鋼化玻璃膜,其特征在于:所述透明導(dǎo)電膜層為銦—錫氧化物層。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種防輻射鋼化玻璃膜,其特征在于:所述第三氮化硅膜層的厚度為75-80nm,折射率為2.05-2.07。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種防輻射鋼化玻璃膜,其特征在于:所述第二氮化硅膜層的厚度為80-85nm,折射率為2.08-2.10。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種防輻射鋼化玻璃膜,其特征在于:所述第一氮化硅膜層的厚度為85-90nm,折射率為2.12-2.15。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種防輻射鋼化玻璃膜,其特征在于:所述第三氮化硅膜層的厚度為75nm,折射率為2.05;所述第二氮化硅膜層的厚度為80nm,折射率為2.08;所述第一氮化硅膜層的厚度為85nm,折射率為2.12。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種防輻射鋼化玻璃膜,其特征在于:在所述鋼化玻璃層的四周邊緣設(shè)置有碳納米管層。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種防輻射鋼化玻璃膜,其特征在于:在所述第三氮化硅膜層與所述透明導(dǎo)電膜層之間設(shè)置有陶瓷光學(xué)膜層。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種防輻射鋼化玻璃膜,其特征在于:所述陶瓷光學(xué)膜層為氧化鈦膜層。

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