一種基于雙攝像頭的拍照方法及裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于攝像技術(shù)領(lǐng)域，更具體的說，尤其涉及一種基于雙攝像頭的拍照方法及裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]在攝像頭模組中，至關(guān)重要的組件為感光芯片，其中感光芯片的感光面積與像素?cái)?shù)量和單像素感光面積有關(guān)，具體可以是:感光芯片的感光面積=像素?cái)?shù)量X單像素感光面積，因此從感光面積的計(jì)算公式可知單像素感光面積越大，感光面積越大，這樣感光芯片在單位時(shí)間內(nèi)感受到光線越多，圖像的畫質(zhì)和噪聲抑制越好。
[0003]隨著電子設(shè)備的厚度越來越薄，位于電子設(shè)備內(nèi)的攝像頭模組也朝著體積越來越小的趨勢發(fā)展，這就極大限制了單像素感光面積，使得攝像頭模組中感光芯片在低光下感受到的光線較少，增強(qiáng)圖像中的噪聲，為解決這一問題目前移動(dòng)終端采用的技術(shù)方案是:降低拍照的幀率，當(dāng)拍照的幀率被降低后曝光時(shí)間被延長，從而可以在較長的曝光時(shí)間內(nèi)獲得更多的曝光量。
[0004]但是拍照的幀率被降低后，會使得圖像的清晰度受到拍照過程中抖動(dòng)的影響，當(dāng)拍照過程中存在抖動(dòng)時(shí)拍照得到的圖像就會比較模糊，影響圖像的畫質(zhì)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]有鑒于此，本發(fā)明的目的在于提供一種基于雙攝像頭的拍照方法及裝置，用于提高圖像的畫質(zhì)。技術(shù)方案如下:
[0006]本發(fā)明提供一種基于雙攝像頭的拍照方法，應(yīng)用于電子設(shè)備中，所述電子設(shè)備包括第一攝像頭和第二攝像頭，所述方法包括:
[0007]獲取所述第一攝像頭的曝光量和所述第二攝像頭的曝光量；
[0008]基于所述第一攝像頭的曝光量和所述第二攝像頭的曝光量，得到圖像中各個(gè)像素的曝光量；
[0009]基于圖像中各個(gè)像素的曝光量，生成圖像。
[0010]優(yōu)選地，所述獲取所述第一攝像頭的曝光量和所述第二攝像頭的曝光量，包括:獲取所述第一攝像頭中各個(gè)像素的曝光量和所述第二攝像頭中各個(gè)像素的曝光量。
[0011]優(yōu)選地，所述基于所述第一攝像頭的曝光量和所述第二攝像頭的曝光量，得到圖像中各個(gè)像素的曝光量，包括:
[0012]基于所述第一攝像頭和所述第二攝像頭中任意一個(gè)攝像頭中各個(gè)像素的曝光量和所述第二攝像頭中各個(gè)像素的曝光量，得到各個(gè)像素的曝光合成規(guī)則；
[0013]基于所述各個(gè)像素的曝光合成規(guī)則，分別對所述第一攝像頭中各個(gè)像素的曝光量和所述第二攝像頭中各個(gè)像素的曝光量進(jìn)行處理，得到圖像中各個(gè)像素的曝光量。
[0014]優(yōu)選地，所述基于所述第一攝像頭和所述第二攝像頭中任意一個(gè)攝像頭中各個(gè)像素的曝光量和所述第二攝像頭中各個(gè)像素的曝光量，得到各個(gè)像素的曝光合成規(guī)則，包括:
[0015]將所述第一攝像頭中各個(gè)像素的曝光量分別與第一閾值和第二閾值進(jìn)行比較，其中所述第一閾值小于所述第二閾值；
[0016]當(dāng)像素的曝光量小于第一閾值時(shí)，所述曝光合成規(guī)則為:將小于所述第一閾值的所述像素的曝光量與第二攝像頭中對應(yīng)的像素的曝光量進(jìn)行完全疊加；
[0017]當(dāng)像素的曝光量大于等于第一閾值，且小于第二閾值時(shí)，所述曝光合成規(guī)則為:將大于等于第一閾值且小于第二閾值的所述像素的曝光量與第二攝像頭中對應(yīng)的像素的曝光量按照預(yù)設(shè)權(quán)重進(jìn)行疊加；
[0018]當(dāng)像素的曝光量大于等于第二閾值時(shí)，所述曝光合成規(guī)則為:使用第一攝像頭中大于等于所述第二閾值的像素的曝光量。
[0019]本發(fā)明還提供一種基于雙攝像頭的拍照裝置，應(yīng)用于電子設(shè)備中，所述電子設(shè)備包括第一攝像頭和第二攝像頭，所述裝置包括:
[0020]獲取單元，用于獲取所述第一攝像頭的曝光量和所述第二攝像頭的曝光量；
[0021]獲得單元，用于基于所述第一攝像頭的曝光量和所述第二攝像頭的曝光量，得到圖像中各個(gè)像素的曝光量；
[0022]生成單元，用于基于圖像中各個(gè)像素的曝光量，生成圖像。
[0023]優(yōu)選地，所述獲取單元用于:獲取所述第一攝像頭中各個(gè)像素的曝光量和所述第二攝像頭中各個(gè)像素的曝光量。
[0024]優(yōu)選地，所述獲得單元包括:
[0025]規(guī)則獲得子單元，用于基于所述第一攝像頭和所述第二攝像頭中任意一個(gè)攝像頭中各個(gè)像素的曝光量和所述第二攝像頭中各個(gè)像素的曝光量，得到各個(gè)像素的曝光合成規(guī)則；
[0026]曝光量獲得子單元，用于基于所述各個(gè)像素的曝光合成規(guī)則，分別對所述第一攝像頭中各個(gè)像素的曝光量和所述第二攝像頭中各個(gè)像素的曝光量進(jìn)行處理，得到圖像中各個(gè)像素的曝光量。
[0027]優(yōu)選地，所述規(guī)則獲得子單元具體用于:將所述第一攝像頭中各個(gè)像素的曝光量分別與第一閾值和第二閾值進(jìn)行比較，其中所述第一閾值小于所述第二閾值；
[0028]當(dāng)像素的曝光量小于第一閾值時(shí)，所述曝光合成規(guī)則為:將小于所述第一閾值的所述像素的曝光量與第二攝像頭中對應(yīng)的像素的曝光量進(jìn)行完全疊加；
[0029]當(dāng)像素的曝光量大于等于第一閾值，且小于第二閾值時(shí)，所述曝光合成規(guī)則為:將大于等于第一閾值且小于第二閾值的所述像素的曝光量與第二攝像頭中對應(yīng)的像素的曝光量按照預(yù)設(shè)權(quán)重進(jìn)行疊加；
[0030]當(dāng)像素的曝光量大于等于第二閾值時(shí)，所述曝光合成規(guī)則為:使用第一攝像頭中大于等于所述第二閾值的像素的曝光量。
[0031]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明提供的上述技術(shù)方案具有如下優(yōu)點(diǎn):
[0032]本發(fā)明提供的上述技術(shù)方案通過在電子設(shè)備中增加一個(gè)第二攝像頭，基于第一攝像頭的曝光量和第二攝像頭的曝光量，來得到圖像中各個(gè)像素的曝光量，這樣雙攝像頭可以在不降低拍照的幀率的情況下獲得與單個(gè)攝像頭一致的曝光量，相對于單個(gè)攝像頭來說，提尚圖像的畫質(zhì)。
【附圖說明】
[0033]為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0034]圖1是本發(fā)明實(shí)施例提供的基于雙攝像頭的拍照方法的流程圖；
[0035]圖2是本發(fā)明實(shí)施例提供的基于雙攝像頭的拍照裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0036]為使本發(fā)明實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0037]請參閱圖1，其示出了本發(fā)明實(shí)施例提供的基于雙攝像頭的拍攝方法，應(yīng)用于電子設(shè)備中，所述電子設(shè)備包括第一攝像頭和第二攝像頭，其中基于雙攝像頭的拍攝方法可以包括以下步驟:
[0038]101:獲取第一攝像頭的曝光量和第二攝像頭的曝光量。在本發(fā)明實(shí)施例中，第一攝像頭的曝光量可以由第一攝像頭的感光芯片來獲取，同樣第二攝像頭的曝光量可以由第二攝像頭的感光芯片來獲取。并且電子設(shè)備在配置第一攝像頭和第二攝像頭時(shí)，第一攝像頭和第二攝像頭需要滿足一定的配置關(guān)系:第一攝像頭和第二攝像頭之間的距離在預(yù)設(shè)距離范圍內(nèi)，其中第一攝像頭和第二攝像頭之間的距離以第一攝像頭的中心點(diǎn)和第二攝像頭的中心點(diǎn)之間的距離為準(zhǔn)，且預(yù)設(shè)距離范圍可以滿足第一攝像頭和第二攝像頭可以同時(shí)拍攝到同一物體，也就是說當(dāng)?shù)谝粩z像頭和第二攝像頭之間的距離在預(yù)設(shè)距離范圍內(nèi)時(shí)，第一攝像頭的視場和第二攝像頭的視場重合范圍較大。
[0039]例如預(yù)設(shè)距離范圍可以是第一攝像頭和第二攝像頭在并行相互接觸排列時(shí)，第一攝像頭的中心點(diǎn)和第二攝像頭的中心點(diǎn)之間的距離為預(yù)設(shè)距離范圍的最小值，預(yù)設(shè)距離范圍的最大值可以是第一攝像頭和第二攝像頭非接觸兩端之間的距離。
[0040]102:基于第一攝像頭的曝光量和第二攝像頭的曝光量，得到圖像中各個(gè)像素的曝光量。例如可以以第一攝像頭和第二攝像頭中任意一個(gè)攝像頭的曝光量為主，例如以第一攝像頭的曝光量為主，第二攝像頭的曝光量輔助第一攝像頭，使得電子設(shè)備可以在不降低拍照的幀率的情況下，在較短時(shí)間內(nèi)獲得圖像中各個(gè)像素的曝光量。
[0041]