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一種基于雙攝像頭的拍照方法及裝置的制造方法_3

文檔序號:9891819閱讀:來源:國知局
的像素的曝光量按照預(yù)設(shè)權(quán)重進(jìn)行疊加。
[0063]當(dāng)像素的曝光量大于等于第二閾值時(shí),曝光合成規(guī)則為:使用第一攝像頭中大于等于第二閾值的像素的曝光量。
[0064]也就是說當(dāng)?shù)谝粩z像頭的曝光量是第一攝像頭中各個(gè)像素的曝光量,第二攝像頭的曝光量是第二攝像頭中各個(gè)像素的曝光量時(shí),規(guī)則獲得子單元可以將第一攝像頭中第一個(gè)像素的曝光量至第m個(gè)像素的曝光量依次與第一閾值和第二閾值進(jìn)行比較,然后基于第j個(gè)像素的曝光量、第一閾值和第二閾值的大小關(guān)系得到相對應(yīng)的曝光合成規(guī)則,曝光量獲得子單元可以進(jìn)一步基于曝光合成規(guī)則,對第一攝像頭中第j個(gè)像素的曝光量和第二攝像頭中第j個(gè)像素的曝光量進(jìn)行處理,其中I ( j <m,m為第一攝像頭中像素的總數(shù),且為了能夠使第一攝像頭中各個(gè)像素分別對應(yīng)第二攝像頭中一個(gè)像素,第一攝像頭中像素的總數(shù)和第二攝像頭中像素的總數(shù)滿足的關(guān)系為( n,且優(yōu)選m = η。
[0065]當(dāng)?shù)趈個(gè)像素的曝光量小于第一閾值時(shí),圖像中第j個(gè)像素的曝光量為:第一攝像頭中第j個(gè)像素的曝光量+第二攝像頭中第j個(gè)像素的曝光量,即兩個(gè)攝像頭中第j個(gè)像素的曝光量之和;當(dāng)?shù)趈個(gè)像素的曝光量大于等于第一閾值,且小于第二閾值時(shí),圖像中第j個(gè)像素的曝光量為:第一攝像頭中第j個(gè)像素的曝光量*A+第二攝像頭中第j個(gè)像素的曝光量*B,其中A為第一攝像頭的權(quán)重,B為第二攝像頭的權(quán)重,且兩個(gè)權(quán)重可以根據(jù)實(shí)際需求設(shè)置取值;當(dāng)?shù)趈個(gè)像素的曝光量大于等于第二閾值時(shí),表明第一攝像頭的第j個(gè)像素的曝光量滿足當(dāng)前拍照需求,如果再增大第j個(gè)像素的曝光量則會導(dǎo)致第j個(gè)像素出現(xiàn)過曝光現(xiàn)象,因此可以將第一攝像頭的第j個(gè)像素的曝光量作為圖像中第j個(gè)像素的曝光量。
[0066]生成單元13,用于基于圖像中各個(gè)像素的曝光量,生成圖像。
[0067]從上述技術(shù)方案可知,通過在電子設(shè)備中增加一個(gè)第二攝像頭,基于第一攝像頭的曝光量和第二攝像頭的曝光量,來得到圖像中各個(gè)像素的曝光量,這樣雙攝像頭可以在不降低拍照的幀率的情況下獲得與單個(gè)攝像頭一致的曝光量,相對于單個(gè)攝像頭降低拍照的幀率來說,提高圖像的畫質(zhì)。并且當(dāng)攝像頭降低拍照的幀率時(shí)會使得攝像頭的對焦變慢以及在預(yù)覽圖像時(shí)發(fā)生拖影現(xiàn)象,但是本發(fā)明實(shí)施例提供的上述技術(shù)方案無需降低拍照的幀率,從而解決現(xiàn)有技術(shù)中對焦變慢和拖影的問題。
[0068]需要說明的是,需要說明的是,在本文中,諸如第一和第二等之類的關(guān)系術(shù)語僅僅用來將一個(gè)實(shí)體或者操作與另一個(gè)實(shí)體或操作區(qū)分開來,而不一定要求或者暗示這些實(shí)體或操作之間存在任何這種實(shí)際的關(guān)系或者順序。而且,術(shù)語“包括”、“包含”或者其任何其他變體意在涵蓋非排他性的包含,從而使得包括一系列要素的過程、方法、物品或者設(shè)備不僅包括那些要素,而且還包括沒有明確列出的其他要素,或者是還包括為這種過程、方法、物品或者設(shè)備所固有的要素。在沒有更多限制的情況下,由語句“包括一個(gè)……”限定的要素,并不排除在包括所述要素的過程、方法、物品或者設(shè)備中還存在另外的相同要素。
[0069]對所公開的實(shí)施例的上述說明,使本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)或使用本發(fā)明。對這些實(shí)施例的多種修改對本領(lǐng)域技術(shù)人員來說將是顯而易見的,本文中所定義的一般原理可以在不脫離本發(fā)明的精神或范圍的情況下,在其它實(shí)施例中實(shí)現(xiàn)。因此,本發(fā)明將不會被限制于本文所示的這些實(shí)施例,而是要符合與本文所公開的原理和新穎特點(diǎn)相一致的最寬的范圍。
[0070]以上所述僅是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式,應(yīng)當(dāng)指出,對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說,在不脫離本發(fā)明原理的前提下,還可以做出若干改進(jìn)和潤飾,這些改進(jìn)和潤飾也應(yīng)視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種基于雙攝像頭的拍照方法,其特征在于,應(yīng)用于電子設(shè)備中,所述電子設(shè)備包括第一攝像頭和第二攝像頭,所述方法包括: 獲取所述第一攝像頭的曝光量和所述第二攝像頭的曝光量; 基于所述第一攝像頭的曝光量和所述第二攝像頭的曝光量,得到圖像中各個(gè)像素的曝光量; 基于圖像中各個(gè)像素的曝光量,生成圖像。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述獲取所述第一攝像頭的曝光量和所述第二攝像頭的曝光量,包括:獲取所述第一攝像頭中各個(gè)像素的曝光量和所述第二攝像頭中各個(gè)像素的曝光量。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,所述基于所述第一攝像頭的曝光量和所述第二攝像頭的曝光量,得到圖像中各個(gè)像素的曝光量,包括: 基于所述第一攝像頭和所述第二攝像頭中任意一個(gè)攝像頭中各個(gè)像素的曝光量和所述第二攝像頭中各個(gè)像素的曝光量,得到各個(gè)像素的曝光合成規(guī)則; 基于所述各個(gè)像素的曝光合成規(guī)則,分別對所述第一攝像頭中各個(gè)像素的曝光量和所述第二攝像頭中各個(gè)像素的曝光量進(jìn)行處理,得到圖像中各個(gè)像素的曝光量。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法,其特征在于,所述基于所述第一攝像頭和所述第二攝像頭中任意一個(gè)攝像頭中各個(gè)像素的曝光量和所述第二攝像頭中各個(gè)像素的曝光量,得到各個(gè)像素的曝光合成規(guī)則,包括: 將所述第一攝像頭中各個(gè)像素的曝光量分別與第一閾值和第二閾值進(jìn)行比較,其中所述第一閾值小于所述第二閾值; 當(dāng)像素的曝光量小于第一閾值時(shí),所述曝光合成規(guī)則為:將小于所述第一閾值的所述像素的曝光量與第二攝像頭中對應(yīng)的像素的曝光量進(jìn)行完全疊加; 當(dāng)像素的曝光量大于等于第一閾值,且小于第二閾值時(shí),所述曝光合成規(guī)則為:將大于等于第一閾值且小于第二閾值的所述像素的曝光量與第二攝像頭中對應(yīng)的像素的曝光量按照預(yù)設(shè)權(quán)重進(jìn)行疊加; 當(dāng)像素的曝光量大于等于第二閾值時(shí),所述曝光合成規(guī)則為:使用第一攝像頭中大于等于所述第二閾值的像素的曝光量。5.一種基于雙攝像頭的拍照裝置,其特征在于,應(yīng)用于電子設(shè)備中,所述電子設(shè)備包括第一攝像頭和第二攝像頭,所述裝置包括: 獲取單元,用于獲取所述第一攝像頭的曝光量和所述第二攝像頭的曝光量; 獲得單元,用于基于所述第一攝像頭的曝光量和所述第二攝像頭的曝光量,得到圖像中各個(gè)像素的曝光量; 生成單元,用于基于圖像中各個(gè)像素的曝光量,生成圖像。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的裝置,其特征在于,所述獲取單元用于:獲取所述第一攝像頭中各個(gè)像素的曝光量和所述第二攝像頭中各個(gè)像素的曝光量。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置,其特征在于,所述獲得單元包括:規(guī)則獲得子單元,用于基于所述第一攝像頭和所述第二攝像頭中任意一個(gè)攝像頭中各個(gè)像素的曝光量和所述第二攝像頭中各個(gè)像素的曝光量,得到各個(gè)像素的曝光合成規(guī)則;曝光量獲得子單元,用于基于所述各個(gè)像素的曝光合成規(guī)則,分別對所述第一攝像頭中各個(gè)像素的曝光量和所述第二攝像頭中各個(gè)像素的曝光量進(jìn)行處理,得到圖像中各個(gè)像素的曝光量。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置,其特征在于,所述規(guī)則獲得子單元具體用于:將所述第一攝像頭中各個(gè)像素的曝光量分別與第一閾值和第二閾值進(jìn)行比較,其中所述第一閾值小于所述第二閾值; 當(dāng)像素的曝光量小于第一閾值時(shí),所述曝光合成規(guī)則為:將小于所述第一閾值的所述像素的曝光量與第二攝像頭中對應(yīng)的像素的曝光量進(jìn)行完全疊加; 當(dāng)像素的曝光量大于等于第一閾值,且小于第二閾值時(shí),所述曝光合成規(guī)則為:將大于等于第一閾值且小于第二閾值的所述像素的曝光量與第二攝像頭中對應(yīng)的像素的曝光量按照預(yù)設(shè)權(quán)重進(jìn)行疊加; 當(dāng)像素的曝光量大于等于第二閾值時(shí),所述曝光合成規(guī)則為:使用第一攝像頭中大于等于所述第二閾值的像素的曝光量。
【專利摘要】本發(fā)明提供一種基于雙攝像頭的拍照方法及裝置,所述方法及裝置應(yīng)用于電子設(shè)備中,所述電子設(shè)備包括第一攝像頭和第二攝像頭,其中所述方法包括:獲取所述第一攝像頭的曝光量和所述第二攝像頭的曝光量;基于所述第一攝像頭的曝光量和所述第二攝像頭的曝光量,得到圖像中各個(gè)像素的曝光量;基于圖像中各個(gè)像素的曝光量,生成圖像,這樣通過在電子設(shè)備中增加一個(gè)第二攝像頭,基于第一攝像頭的曝光量和第二攝像頭的曝光量,來得到圖像中各個(gè)像素的曝光量,使得雙攝像頭可以在不降低拍照的幀率的情況下獲得與單個(gè)攝像頭一致的曝光量,相對于單個(gè)攝像頭來說,提高圖像的畫質(zhì)。
【IPC分類】H04N5/235, H04N5/232
【公開號】CN105657286
【申請?zhí)枴?br>【發(fā)明人】王陳林, 楊祖勇, 王保磊
【申請人】宇龍計(jì)算機(jī)通信科技(深圳)有限公司
【公開日】2016年6月8日
【申請日】2015年7月29日
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