代基的反應(yīng)性基團在所述經(jīng)固化的涂層內(nèi)已反應(yīng)。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述烷氧基化的取代基包含環(huán)氧乙烷和/或環(huán)氧 丙烷單元，更優(yōu)選包含1至30個之間的環(huán)氧乙烷單體單元，最優(yōu)選包含2至10個之間的環(huán) 氧乙烷單體單元。3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其中所述季銨化合物包含C5-C50烴基鏈，更優(yōu)選 C10-C20直鏈烷基取代基，最優(yōu)選C12-C15直鏈烷基取代基。4. 根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項所述的方法，其中所述涂層組合物具有低的抗微生物 活性，其中所述低的抗微生物活性定義為根據(jù)IS0/FDIS20776-1 (2006)，小于20%的綠膿 假單胞菌的細菌生長抑制，優(yōu)選地，綠膿假單胞菌的細菌生長抑制小于10%，最優(yōu)選小于5. 根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一項所述的方法，其中經(jīng)固化的涂層具有1X10 1Vcm2以上， 優(yōu)選至少2XIO1Vcm2的表面電荷。6. -種水性涂層組合物，其包含具有反應(yīng)性基團A的化合物和根據(jù)式I、II或III的 季銨化合物其中 R1為具有5至50個碳原子的烷基、烯基、烷芳基或芳烷基； R2為任選地含有雜原子的C^C1Jg基基團； R3和R4為具有1至4個碳原子的亞烷基基團； R5和R6為H或任選地含有雜原子的C^Cicici烴基基團； R7為任選地含有雜原子的C^C1Jg基基團； R8為任選地含有雜原子的C^C1Jg基基團； R9為H或甲基基團； Z為含有至少一個反應(yīng)性基團B的取代基，所述反應(yīng)性基團B能夠與反應(yīng)性基團A反 應(yīng)； r為陰離子； m為1至30,優(yōu)選1至10之間，或2至6之間的整數(shù)；n為0-30,優(yōu)選1至10之間，或2至6之間的整數(shù)； T為單體單元； U為單體單元； V為任選地含有雜原子的C1-C1Jg基基團； d為1至5之間的整數(shù)，優(yōu)選為I; e為1至1000之間，優(yōu)選5至100之間的整數(shù)； g為1至100之間，優(yōu)選2至10之間的整數(shù)； h為1至5之間的整數(shù)，優(yōu)選為2或3〇7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的涂層組合物，其中反應(yīng)性基團A選自羥基、羧酸、脲、乙酰乙酸 酯、醛、異氰酸酯、乙烯亞胺、酐、酯、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、胺、酰胺、硫醇、環(huán)氧化物或乙 烯基基團。8. 根據(jù)權(quán)利要求6或7中任一項所述的涂層組合物，其中具有反應(yīng)性基團A的化合物 包含選自如下的至少一種聚合物：聚（內(nèi)酰胺），特別是聚乙烯基吡咯烷酮；聚氨酯；聚脲； 丙烯酸和甲基丙烯酸的均聚物和共聚物；聚乙烯醇；聚乙烯醚；馬來酸酐基共聚物；聚酯； 乙烯基胺；聚乙烯亞胺；聚環(huán)氧乙烷；聚（羧酸）；聚酰胺；聚酐；聚磷腈；纖維素，特別是甲 基纖維素、羧甲基纖維素、羥甲基纖維素、羥丙基纖維素和其他多糖，特別是殼聚糖、透明質(zhì) 酸、海藻酸酯、明膠、殼多糖、肝素、葡聚糖；硫酸軟骨素；（多）肽/蛋白質(zhì)，特別是膠原蛋 白、纖維蛋白、彈性蛋白、白蛋白；聚酯，特別是聚丙交酯、聚乙交酯、聚己內(nèi)酯；以及多核苷 酸。9. 根據(jù)權(quán)利要求6-8中任一項所述的涂層組合物，其中具有反應(yīng)性基團A的化合物包 含選自如下的交聯(lián)劑：氮雜環(huán)丙烷、碳二亞胺、三聚氰胺、經(jīng)取代的三聚氰胺、三聚氰胺衍生 物、多官能醇、多官能醛、多官能胺、多官能異氰酸酯、多官能環(huán)氧化合物，以及它們的組合。10. 根據(jù)權(quán)利要求6-9中任一項所述的涂層組合物，其中所述反應(yīng)性基團B可獨立地選 自羥基、羧酸、醛、酐、醋、乙烯亞胺、胺、酰胺、硫醇、環(huán)氧化物、脲、乙酰乙酸醋、異氰酸醋、丙 烯酸酯、甲基丙烯酸酯或乙烯基基團。11. 根據(jù)權(quán)利要求6-10中任一項所述的涂層組合物，其中反應(yīng)性基團A的摩爾量與反 應(yīng)性基團B的摩爾量的比例Qab為0. 1至2之間，優(yōu)選地比例QAfi為0. 8至1. 2之間。12. 根據(jù)權(quán)利要求6-11中任一項所述的涂層組合物，其中R3和R4為具有1-4個碳原 子的亞烷基基團，優(yōu)選為亞甲基、亞乙基、亞丙基或亞丁基基團。13. 根據(jù)權(quán)利要求6-12中任一項所述的涂層組合物，其中所述季銨化合物以5wt%至 70wt%之間，更優(yōu)選7wt%至55wt%之間的量存在于涂層組合物中，以不包含載體液體的 涂層組合物的總重量計。14. 根據(jù)權(quán)利要求6-13中任一項所述的涂層組合物，其中液體涂層組合物具有低的抗 微生物活性，其中所述低的抗微生物活性定義為根據(jù)ISO/FDIS20776-1 (2006)，小于20% 的綠膿假單胞菌的細菌生長抑制，優(yōu)選地，綠膿假單胞菌的細菌生長抑制小于10%，最優(yōu)選 小于5%。15. 根據(jù)權(quán)利要求6-14中任一項所述的涂層組合物，其中F為選自硫酸根、硝酸根、磷 酸根、乙酸根或鹵素的陰離子，優(yōu)選地r為Cl'16. -種用于制備在基材上的抗微生物涂層的方法，通過將根據(jù)權(quán)利要求6-15中任一 項所述的涂層組合物施用至基材，并隨后固化所述涂層組合物以制備涂層。17. -種包括通過根據(jù)權(quán)利要求1-3或14所述的方法制得的抗微生物涂層的制品，其 中所述涂層的表面含有具有烷氧基取代基的季銨基團。18. 根據(jù)權(quán)利要求17所述的制品，其中所述涂層具有IXlO1Vcm2以上，優(yōu)選至少 2XIO1Vcm2的涂層上的表面電荷。19. 根據(jù)式（II)或III所述的季銨化合物，其中 R1為具有5至50個碳原子的烷基、烯基、烷芳基或芳烷基； R2為任選地含有雜原子的C^C1Jg基基團； R3和R4為具有1至4個碳原子的亞烷基基團； R5和R6為H或任選地含有雜原子的C^Cicici烴基基團； R7為任選地含有雜原子的C^C1Jg基基團； R8為任選地含有雜原子的C^C1Jg基基團； R9為H或甲基基團； Z為含有至少一個反應(yīng)性基團B的取代基，所述反應(yīng)性基團B能夠與反應(yīng)性基團A反 應(yīng)； r為陰離子； m為1至30,優(yōu)選1至10之間，或2至6之間的整數(shù)；n為0-30,優(yōu)選1至10之間，或2至6之間的整數(shù)； T為單體單元； U為單體單元； V為任選地含有雜原子的C1-C1Jg基基團；d為1至5之間的整數(shù)，優(yōu)選為1 ; e為1至1000之間，優(yōu)選5至100之間的整數(shù)； g為1至100之間，優(yōu)選2至10之間的整數(shù)； h為1至5之間的整數(shù)，優(yōu)選為2或3〇20. -種根據(jù)式（IV)所述的季銨化合物其中R\R2、R3、R4如權(quán)利要求16所定義，m為1至30的整數(shù)，n為1-30的整數(shù)，m+n為 2至60,E2為羧酸酯基團。21. -種根據(jù)式（IV)所述的季銨化合物其中R\R2、R3、R4如權(quán)利要求16所定義，m為1至30的整數(shù)，n為1-30的整數(shù)，m+n為 10至60,E2選自丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯或乙烯基基團。22. -種根據(jù)式（Ia)所述的季銨化合物其中R9為H或甲基，優(yōu)選為H; R1為具有10-15個碳原子的直鏈烷基； R2為任選地含有雜原子的C^C1Jg基基團； R3為Cl-C4亞烷基基團； R4為Cl-C4亞烷基基團； Z為含有至少一個反應(yīng)性基團B的取代基，所述反應(yīng)性基團B能夠與反應(yīng)性基團A反 應(yīng)； m為1至30的整數(shù)；n為1至30的整數(shù)； X為陰離子，優(yōu)選為硫酸根、硝酸根、磷酸根、乙酸根或鹵素離子。23. -種包括抗微生物涂層的制品，其中所述涂層的表面含有具有至少一個C5-C50側(cè) 烷基鏈，優(yōu)選C10-C20直鏈烷基鏈，和至少一個烷氧基取代基的季銨基團，所述烷氧基取代 基在一端共價結(jié)合至銨基團的氮，在另一端共價結(jié)合至涂層。24. 根據(jù)權(quán)利要求23所述的制品，其中所述烷氧基取代基包含2至10個之間的環(huán)氧乙 燒單元。25. 根據(jù)權(quán)利要求17、18、23或24中任一項所述的制品殺滅微生物的用途。
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種水性涂層組合物，其包含具有反應(yīng)性基團A的化合物、和根據(jù)式I、II或III的季銨化合物或或其中R1為具有5至50個碳原子的烷基、烯基、烷芳基或芳烷基；R2為任選地含有雜原子的C1-C100烴基基團；R3和R4為具有1至4個碳原子的亞烷基基團；R5和R6為H或任選地含有雜原子的C1-C100烴基基團；R7為任選地含有雜原子的C1-C100烴基基團；R8為任選地含有雜原子的C1-C100烴基基團；R9為H或甲基基團；Z為含有至少一個反應(yīng)性基團B的取代基，所述反應(yīng)性基團B能夠與反應(yīng)性基團A反應(yīng)；X-為陰離子；y為0或1；a為0或1；且y和a之和為1或2，且m為1至30，優(yōu)選1至10之間，或2至6之間的整數(shù)；n為0-30，優(yōu)選1至10之間，或2至6之間的整數(shù)；T為單體單元；U為單體單元；V為任選地含有雜原子的C1-C100烴基基團；d為1至5之間的整數(shù)，優(yōu)選為1；e為1至1000之間，優(yōu)選5至100之間的整數(shù)；g為1至100之間，優(yōu)選2至10之間的整數(shù)；h為1至5之間的整數(shù)，優(yōu)選為2或3。
【IPC分類】C09D5/02, A01P1/00, A01N25/10, C08K5/00, A01N33/12, C07C217/50, C08K5/19
【公開號】CN104968198
【申請?zhí)枴緾N201480006889
【發(fā)明人】M·侯賽因
【申請人】禾大國際股份公開有限公司
【公開日】2015年10月7日
【申請日】2014年1月31日
【公告號】EP2950647A1, US20150361276, WO2014118350A1, WO2014118350A9