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用于基于激光的點陣處理的設(shè)備的制造方法_5

文檔序號:9671879閱讀:來源:國知局
令和/或解釋器指令(例如Java解釋器指令)。替選地,子例程中的一個或多個或者全部可以存儲在至少一個外部庫文件中并且與主程序靜態(tài)或動態(tài)地(例如在運行時間)鏈接。主程序包含對子例程中的至少一個子例程的至少一個調(diào)用。另外,子例程可以包括對于彼此的功能調(diào)用。與計算機程序產(chǎn)品相關(guān)的實施例包括對應(yīng)于所提出的方法中的至少一個方法的處理步驟中的每個處理步驟的計算機可執(zhí)行指令。這些指令可以分成子例程和/或存儲在能夠靜態(tài)或動態(tài)地鏈接的一個或多個文件中。與計算機程序產(chǎn)品相關(guān)的另一實施例包括對應(yīng)于所提出的系統(tǒng)和/或產(chǎn)品中的至少一個的裝置中的每個裝置的計算機可執(zhí)行指令。這些指令可以分成子例程和/或存儲在能夠靜態(tài)或動態(tài)地鏈接的一個或多個文件中。
[0057]計算機程序的載體可以是能夠承載程序的任何實體或系統(tǒng)。例如,載體可以包括存儲介質(zhì),諸如ROM(例如CD ROM或半導(dǎo)體ROM)或磁性記錄介質(zhì)(例如軟盤或硬盤)。另外,載體可以是可傳輸載體,諸如電信號或光信號,其可以經(jīng)由電纜或光纜或者通過無線電或其他裝置來傳達。當(dāng)程序在這樣的信號中實施時,載體可以包括這樣的電纜或光纜或者其他系統(tǒng)或裝置。替選地,載體可以是程序嵌入在其中的集成電路,集成電路被適配用于執(zhí)行相關(guān)方法或者用于在相關(guān)方法的執(zhí)行中使用。
[0058]應(yīng)當(dāng)注意,以上提及的實施例說明而非限制本發(fā)明,并且本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠設(shè)計很多替選實施例而不偏離所附權(quán)利要求的范圍。在權(quán)利要求中,放置在插入語之間的任何參考符號不應(yīng)當(dāng)被理解為限制權(quán)利要求。動詞“包括”及其詞形變化的使用不排除除了權(quán)利要求中給出的這些元件或步驟之外的其他元件或步驟的存在。元素前面的冠詞“一”或者“一個”不排除多個這樣的元素的存在。本發(fā)明可以借助于包括若干離散元件的硬件來實現(xiàn),并且可以借助于合適地編程的計算機來實現(xiàn)。在列舉若干裝置的系統(tǒng)權(quán)利要求中,這些裝置中的若干裝置可以用一個相同的硬件來實施。在相互不同的從屬權(quán)利要求中給出某些措施這一實施并不表示不能有利地使用這些措施的組合。
【主權(quán)項】
1.一種用于基于激光的點陣皮膚處理的處理設(shè)備(100),所述處理設(shè)備(100)包括: 發(fā)射窗口(70),包括伸長的區(qū)域(75)以及在所述伸長的區(qū)域(75)中的多個預(yù)定義位置(74),其中所述預(yù)定義位置(74)布置成沿著所述窗口(70)的處理軸(72)延伸的伸長的陣列,并且其中在垂直于所述處理軸(72)的方向上看時,所述陣列中的每個預(yù)定義位置(74)位于距所述處理軸(72)—定距離處,所述距離小于在平行于所述處理軸(72)的方向上看時所述陣列中的兩個預(yù)定義位置(74)之間的最大距離的25%, 處理生成器(80,82,84),包括處理激光器(20,22),所述處理生成器(80,82,84)被配置和布置用于從所述發(fā)射窗口(70)中的所述多個預(yù)定義位置(74)朝著皮膚組織(110)發(fā)出激光,以用于在使用中在所述皮膚組織(110)內(nèi)部生成基于激光的損傷(120), 運動傳感器(90),用于感測所述處理設(shè)備(100)相對于皮膚表面(105)的運動,并且用于生成表示所感測的運動的運動信號(Sm),以及 控制器(60),被配置用于接收所述運動信號(Sm),用于根據(jù)所述運動信號確定從其連續(xù)地發(fā)出激光的所述發(fā)射窗口中的所述多個預(yù)定義位置中的至少一個預(yù)定義位置的非零序列,并且用于借助于表示所述非零序列的控制信號(Scl,Sc2,Sc3)激活所述處理生成器(80,82,84)以生成所述非零序列, 其特征在于,所述控制器(60)被配置成在所述處理設(shè)備(100)相對于所述皮膚表面的所感測的運動僅在平行于所述處理軸的方向上具有分量時,激活所述處理生成器以生成所述非零序列。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的處理設(shè)備(100),其中所述控制器(60)被配置成獨立于所感測的運動相對于所述處理軸的方向,在所感測的運動的速度在處理門限值以上時激活所述處理生成器以生成所述非零序列。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的處理設(shè)備(100),其中所述控制器(60)被配置用于根據(jù)所述運動信號來控制所述處理激光器(20,22)的功率(Scl)。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的處理設(shè)備(100),其中所述預(yù)定義位置(74)布置在所述處理軸(72)上。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的處理設(shè)備(100),其中所感測的運動(Sm)包括所述處理設(shè)備(100)相對于所述皮膚表面(105)關(guān)于所述處理軸(72)的速度和方向。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的處理設(shè)備(100),所述處理設(shè)備(100)被配置成施加區(qū)域處理過程,其中當(dāng)所述處理設(shè)備在垂直于所述處理軸的方向上運動時,所述處理設(shè)備在所述皮膚組織(110)內(nèi)部生成寬度等于所述發(fā)射窗口的所述伸長的區(qū)域的長度的損傷(120)的區(qū)域布置,或者所述處理設(shè)備(100)被配置成施加線處理過程,其中所述處理設(shè)備在所述皮膚組織(110)內(nèi)部生成不同于所述區(qū)域布置的損傷(120)的線布置,所述控制器(60)被配置成當(dāng)垂直于所述處理軸(72)的所感測的運動(Sm)的速度分量在變化門限值以下時從所述區(qū)域處理過程變化為所述線處理過程。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的處理設(shè)備(100),其中所述區(qū)域布置包括具有預(yù)定義損傷密度的損傷的隨機布置。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的處理設(shè)備(100),其中所述非零序列能夠根據(jù)運動的速度進行適配。9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的處理設(shè)備(100),其中所述控制器(60)被配置用于周期性地檢查所述控制信號(5(:1,5(32,5(33),其中兩個連續(xù)的檢查事件之間具有預(yù)定義的時間延遲。10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的處理設(shè)備(100),其中所述預(yù)定義的時間延遲取決于所述處理設(shè)備(100)跨所述皮膚表面(105)的運動的感測速度(Sm)。11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的處理設(shè)備(100),其中所述控制器(60)被配置用于在所述處理設(shè)備(100)相對于所述皮膚表面(105)的運動的先前感測速度與所述處理設(shè)備(100)相對于所述皮膚表面(105)的運動的實際感測速度之差在速度變化門限以上的情況下適配所述控制信號(301,3。2,303)。12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的處理設(shè)備(100),其中所述處理設(shè)備(100)還包括連接到所述控制器(60)的存儲設(shè)備(95),所述存儲設(shè)備(95)包括將所述非零序列鏈接到所感測的運動(Sm)以根據(jù)所感測的運動(Sm)生成所述控制信號(Scl,Sc2,Sc3)的數(shù)據(jù)。13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的處理設(shè)備(100),其中所述處理生成器(80,82,84)包括: 偏轉(zhuǎn)輪(30),具有偏轉(zhuǎn)元件(31),每個偏轉(zhuǎn)元件(31)被配置用于朝著所述多個預(yù)定義位置(74)中的一個預(yù)定義位置偏轉(zhuǎn)所述激光(21),或者 處理激光器(22)的陣列,每個處理激光器(22)被配置用于朝著所述多個預(yù)定義位置(74)中的一個預(yù)定義位置發(fā)出所述激光(21),或者 可移動反射鏡布置(35),被配置用于朝著所述多個預(yù)定義位置(74)中的個體預(yù)定義位置反射所述激光(21)。14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的處理設(shè)備(100),包括所述偏轉(zhuǎn)輪(30),所述偏轉(zhuǎn)輪(30)為軸錐鏡偏轉(zhuǎn)輪(30)。15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的處理設(shè)備(100),其中所述處理設(shè)備(100)為手持式處理設(shè)備(100)。
【專利摘要】本發(fā)明提供一種用于基于激光的點陣皮膚處理的處理設(shè)備(100)。處理設(shè)備包括含有伸長的區(qū)域(75)以及在上述伸長的區(qū)域(75)中的多個預(yù)定義位置(74)的發(fā)射窗口(70),其中預(yù)定義位置(74)布置成沿著窗口(70)的處理軸(72)延伸的伸長的陣列,并且其中在垂直于處理軸(72)的方向上看時陣列中的每個預(yù)定義位置(74)位于距處理軸(72)一定距離處,上述距離小于在平行于處理軸(72)的方向上看時陣列中的兩個預(yù)定義位置(74)之間的最大距離的25%。處理設(shè)備還包括含有處理激光器(20)的處理生成器(80),其用于從發(fā)射窗口(70)中的上述多個預(yù)定義位置(74)朝著皮膚組織(110)發(fā)出激光(21)用于在使用中在皮膚組織(110)內(nèi)部生成基于激光的損傷(120)。處理設(shè)備還包括用于感測處理設(shè)備相對于皮膚表面(105)的運動的運動傳感器(90)以及用于根據(jù)所感測的運動確定從其連續(xù)地發(fā)出激光的發(fā)射窗口中的多個預(yù)定義位置中的至少一個預(yù)定義位置的非零序列的控制器(60)??刂破鞅慌渲贸稍谔幚碓O(shè)備相對于皮膚表面的所感測的運動僅在平行于處理軸的方向上具有分量時激活處理生成器以生成上述非零序列。
【IPC分類】A61B18/00, A61B18/20
【公開號】CN105431100
【申請?zhí)枴緾N201480043027
【發(fā)明人】C·H·T·克倫, M·朱納, A·M·納伊斯, M·A·J·范格魯特爾-林森, B·W·M·莫伊斯科普斯
【申請人】皇家飛利浦有限公司
【公開日】2016年3月23日
【申請日】2014年7月30日
【公告號】EP3027135A1, US20160175049, WO2015014868A1
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