1.一種光學(xué)設(shè)備，其特征在于，該光學(xué)設(shè)備使用多個(gè)致動(dòng)器單元使光學(xué)元件變形，每個(gè)致動(dòng)器單元包括附接到光學(xué)元件的磁性構(gòu)件和被設(shè)置為以非接觸方式面對(duì)磁性構(gòu)件的線圈，所述光學(xué)設(shè)備包括：
基準(zhǔn)板，被配置為保持光學(xué)元件，并且線圈被設(shè)置在所述基準(zhǔn)板中；以及
冷卻單元，被配置為使線圈冷卻，
其中，冷卻單元的冷卻能力根據(jù)線圈被設(shè)置的位置而變化。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)設(shè)備，其中，冷卻單元的冷卻能力由從線圈發(fā)出的熱量決定。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)設(shè)備，其中，使用包括光學(xué)元件的厚度或基準(zhǔn)板的保持光學(xué)元件的部分與線圈被設(shè)置的位置之間的距離的參數(shù)來估計(jì)從線圈發(fā)出的熱量。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)設(shè)備，還包括：
測量單元，被配置為測量線圈附近的溫度；以及
控制器，被配置為控制使線圈冷卻的冷卻單元的冷卻能力，
其中，控制器基于測量單元的測量結(jié)果來控制冷卻能力。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光學(xué)設(shè)備，其中，冷卻單元包括連接到每個(gè)線圈的熱傳遞構(gòu)件，
熱傳遞構(gòu)件包括使從線圈傳遞的熱均勻地發(fā)散的第一熱發(fā)散部或調(diào)整發(fā)散的熱量的第二熱發(fā)散部，并且
控制器基于測量結(jié)果來控制從第二熱發(fā)散部發(fā)散的熱量。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光學(xué)設(shè)備，其中，熱發(fā)散構(gòu)件為棒狀，并且
包括第二熱發(fā)散部的熱傳遞構(gòu)件的直徑比僅包括第一熱發(fā)散部的熱傳遞構(gòu)件的直徑大。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光學(xué)設(shè)備，其中，第二熱發(fā)散部被包括在與基于包括光學(xué)元件的厚度或基準(zhǔn)板的保持光學(xué)元件的部分與線圈被設(shè)置的位置之間的距離的參數(shù)而被估計(jì)為具有相對(duì)大的發(fā)出的熱量的線圈相連的熱傳遞構(gòu)件中。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光學(xué)設(shè)備，其中，測量單元測量與包括第二熱發(fā)散部的熱傳遞構(gòu)件相連的線圈附近的溫度。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)設(shè)備，其中，冷卻單元包括具有流動(dòng)通道的基準(zhǔn)板，冷卻劑在所述流動(dòng)通道中流動(dòng)。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)設(shè)備，其中，光學(xué)元件是在其前表面上具有反射面的反射鏡，并且所述光學(xué)設(shè)備被設(shè)置在反射鏡的后表面上。
11.一種曝光裝置，其特征在于，所述曝光裝置包括根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)設(shè)備。
12.一種制造制品的方法，其特征在于，所述方法包括以下步驟：
使用根據(jù)權(quán)利要求11所述的曝光裝置使基板曝光到光；以及
使曝光的基板顯影。