技術(shù)總結(jié)
公開了光學(xué)設(shè)備、具有光學(xué)設(shè)備的曝光裝置及物品制造方法。提供了使用多個(gè)致動(dòng)器單元使光學(xué)元件變形的光學(xué)設(shè)備。每個(gè)致動(dòng)器單元包括附接到光學(xué)元件的磁性構(gòu)件和被設(shè)置為以非接觸方式面對(duì)磁性構(gòu)件的線圈。光學(xué)設(shè)備包括被配置為保持光學(xué)元件并且其中設(shè)置有線圈的基準(zhǔn)板以及被配置為使線圈冷卻的冷卻單元。冷卻單元的冷卻能力根據(jù)線圈被設(shè)置的位置而變化。

技術(shù)研發(fā)人員：西川原朋史
受保護(hù)的技術(shù)使用者：佳能株式會(huì)社
文檔號(hào)碼：201611106037
技術(shù)研發(fā)日：2016.12.06
技術(shù)公布日：2017.06.20