1.一種套準(zhǔn)精度量測(cè)圖形結(jié)構(gòu)，其特征在于包括：在光刻膠層次的光刻版圖上形成的長(zhǎng)條形凹槽。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的套準(zhǔn)精度量測(cè)圖形結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述長(zhǎng)條形凹槽用于在曝光過(guò)程中在晶圓表面上通過(guò)光柵反應(yīng)形成相應(yīng)凹槽。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的套準(zhǔn)精度量測(cè)圖形結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述套準(zhǔn)精度量測(cè)圖形結(jié)構(gòu)用于厚膠光刻條件。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的套準(zhǔn)精度量測(cè)圖形結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述套準(zhǔn)精度量測(cè)圖形結(jié)構(gòu)用于采用0.7μm～3μm厚的光刻膠的光刻工藝。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的套準(zhǔn)精度量測(cè)圖形結(jié)構(gòu)，其特征在于，凹槽的寬度小于130nm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的套準(zhǔn)精度量測(cè)圖形結(jié)構(gòu)，其特征在于，凹槽的寬度小于90nm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的套準(zhǔn)精度量測(cè)圖形結(jié)構(gòu)，其特征在于，凹槽的寬度小于65nm。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的套準(zhǔn)精度量測(cè)圖形結(jié)構(gòu)，其特征在于，凹槽的寬度為22nm。