技術(shù)總結(jié)
本實用新型提供了一種套準(zhǔn)精度量測圖形結(jié)構(gòu)，包括：在光刻膠層次的光刻版圖上形成的長條形凹槽，用于在曝光過程中在晶圓表面上通過光柵反應(yīng)形成相應(yīng)凹槽。本實用新型在光刻掩膜版的設(shè)計上把套準(zhǔn)精度量測圖形的結(jié)構(gòu)設(shè)計成凹槽結(jié)構(gòu)。凹槽周圍都是大塊的光刻膠，附著在晶圓表面的面積大，附著力強。這樣即使套準(zhǔn)精度量測圖形邊緣的光刻膠底部被反應(yīng)掉，但是不會出現(xiàn)倒膠脫落的風(fēng)險，保證了套準(zhǔn)精度量測圖形的完整性。本實用新型能夠減少厚光刻膠層次套準(zhǔn)精度量測圖形倒膠風(fēng)險，從而減少了光刻套準(zhǔn)精度量測異常的產(chǎn)生，提高了產(chǎn)品成品率。

技術(shù)研發(fā)人員：周世均;鄭海昌;朱駿
受保護的技術(shù)使用者：上海華力微電子有限公司
文檔號碼：201620809339
技術(shù)研發(fā)日：2016.07.29
技術(shù)公布日：2017.01.04