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一種基板上附著異物的檢查及去除裝置及其方法與流程

文檔序號:12660467閱讀:1129來源:國知局
一種基板上附著異物的檢查及去除裝置及其方法與流程

本發(fā)明涉及一種基板上附著異物的檢查及去除裝置及其方法,可用在TFT-LCD CF清洗工藝中,但不限于。



背景技術(shù):

已知,在TFT-LCD CF清洗工藝中,玻璃基板經(jīng)過清洗后,一般會進入到后續(xù)的涂布工藝。清洗后的玻璃基板在到達(dá)涂布機上之前,是會經(jīng)過一段經(jīng)由傳送滾輪和機械手臂的傳送過程。而在這個傳送過程中,空氣中存在的細(xì)微顆粒異物(particle),也就會不可避免的或多或少的附著在清洗后的玻璃基板上。

這些附著在玻璃基板上的異物,會在其后續(xù)的涂布過程中,被覆蓋在涂布光刻膠的下面,形成膜下異物的微觀缺陷。而這些微觀缺陷,無疑會對產(chǎn)品的良率造成很大的影響。

對此,業(yè)界常見的做法是在涂布機進行涂布過程前,先對玻璃基板的表面進行異物檢測,若檢測到的異物超過設(shè)定的閾值,其就會進行Glass NG的判定,然后將該玻璃基板送至返修工藝。

這種做法,無疑會直接導(dǎo)致生產(chǎn)耗時增加,成本提高,對于產(chǎn)品的良率產(chǎn)生也造成很大的損失。而且,對于現(xiàn)有做法中,通過檢測的玻璃基板,其表面上并不是沒有附著異物,只是在閾值之下而已。這種膜下附著異物的玻璃基板,在涂布后依然會存有微觀缺陷,

而隨著高精細(xì)LTPS技術(shù)的發(fā)展,產(chǎn)品微觀缺陷的控制要求越來越嚴(yán)格,膜下異物微觀缺陷的后期修補一般要求較為困難,在修補機進行確認(rèn)修補時往往需要應(yīng)用激光和ink進行多次修補,這樣會無形增加Repair產(chǎn)線的Loading。另外,如果異物較大,也會造成產(chǎn)品直接NG,造成NG loss的增加。

因此,確有必要來開發(fā)一種基板上附著異物的檢查及去除裝置及其方法,來克服現(xiàn)有技術(shù)中的缺陷。



技術(shù)實現(xiàn)要素:

本發(fā)明的目的在于提供一種基板上附著異物的檢查及去除裝置及其方法,其能夠有效去除基板上附著的異物,從而改善基板涂布前膜下異物的發(fā)生率。

為了實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用的技術(shù)方案如下:

一種基板上附著異物的檢查及去除裝置,其包括檢查清洗平臺、輸送機構(gòu)、控制單元、激光源、激光接收器以及異物清除單元。其中所述檢查清洗平臺用于放置基板,所述控制單元連接所述輸送機構(gòu)、激光源、激光接收器以及異物清除單元,所述異物清除單元設(shè)置在所述輸送機構(gòu)上,并可通過所述輸送機構(gòu)輸送至所述檢查清洗平臺臺面任意位置的上方。使用時,所述激光源會在所述基板放置到位后,對所述基板表面進行整個平面的同強度的發(fā)射光散射,而所述激光接收器會對入射光強度進行檢測,當(dāng)所述基板表面附有異物時,其接收到的入射光強度就會發(fā)生相應(yīng)的變化,所述控制單元根據(jù)所述激光接收器接收的入射光強度變化數(shù)據(jù)確定異物在所述基板上的位置坐標(biāo),然后控制所述輸送機構(gòu)將所述異物清除單元輸送到所述異物的位置坐標(biāo),所述異物清除單元根據(jù)所述控制器的指令,進行所述基板表面附著異物的清除。

進一步的,在不同實施方式中,其中所述異物清除單元包括帶靜電發(fā)生器的吸附毛刷。

進一步的,在不同實施方式中,其中所述異物清除單元包括氣槍,其具備真空吹氣和吸氣功能。

進一步的,在不同實施方式中,其中所述異物清除單元包括集塵單元,其與所述氣槍相接。

進一步的,在不同實施方式中,其中所述輸送機構(gòu)包括龍門架或是機械手臂中的至少一種。

進一步的,在不同實施方式中,其中所述控制器還連接有照相單元,其用于對附著在所述基板上的異物進行拍照,并保存其微觀清晰的形貌照片。

進一步的,在不同實施方式中,其中所述照相單元設(shè)置在所述輸送機構(gòu)上。

進一步的,在不同實施方式中,其中所述激光源設(shè)置在所述檢查清洗平臺的邊角位置。

進一步的,在不同實施方式中,其中所述激光接收器布置在所述檢查清洗平臺的四周。

進一步的,本發(fā)明的又一個實施方式提供了一種基板上附著異物的檢查及去除方法,其包括以下步驟。將待檢查的基板輸送到一檢查清洗平臺上;使用一激光源對所述基板表面進行整個平面的同強度的發(fā)射光散射,與其對應(yīng)的激光接收器會對所述激光源發(fā)出的入射光強度進行檢測,當(dāng)所述基板表面附有異物時,所述激光接收器接收到的入射光強度就會發(fā)生相應(yīng)的變化;根據(jù)所述激光接收器接收的入射光強度變化數(shù)據(jù)確定所述異物在所述基板上的位置坐標(biāo);輸送一異物清除單元到所述異物的位置坐標(biāo),并對其進行異物清除操作。

相對于現(xiàn)有技術(shù),本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明涉及的一種基板上附著異物的檢查及去除裝置及其方法,其中所述裝置能夠直接與清洗機搭配使用,置于清洗機的后端,對清洗機風(fēng)刀(air knife)干燥后的基板進行異物(Particle)的檢查和去除,從而改善基板涂布前膜下異物的發(fā)生率,進而提升了產(chǎn)線的修補效率及產(chǎn)品良率,在一定程度上降低了產(chǎn)品的生產(chǎn)成本。

附圖說明

圖1是本發(fā)明涉及的一個實施方式提供的一種基板上附著異物的檢查及去除裝置的邏輯結(jié)構(gòu)圖;

圖2是本發(fā)明涉及的一個實施方式提供的一種基板上附著異物的檢查及去除裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;

圖3是圖2所示的基板上附著異物的檢查及去除裝置,其包括的異物清掃單元的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖1~3中的附圖標(biāo)記說明如下:

控制單元 100 檢查和清洗平臺 10

輸送機構(gòu) 20 龍門架 22

激光源 30 激光接收器 40

異物清除單元 50 本體 52

氣槍 54 吸附毛刷 56

集塵單元 58 拍照單元 60

具體實施方式

以下將結(jié)合附圖和實施例,對本發(fā)明涉及的一種基板上附著異物的檢查及去除裝置及其方法的技術(shù)方案作進一步的詳細(xì)描述。

請參閱圖1所示,本發(fā)明的一個實施方式提供了一種基板上附著異物的檢查及去除裝置,其包括控制單元100、檢查清洗平臺10、輸送機構(gòu)20、激光源30、激光接收器40、異物清除單元50以及拍照單元60。其中所述檢查清洗平臺10用于放置待處理的基板。

其中所述控制單元100用于整個裝置的運作,其連接所述輸送機構(gòu)20、激光源30、激光接收器40、異物清除單元50以及拍照單元60。其中所述輸送機構(gòu)20連接所述異物清除單元50和拍照單元60,用于根據(jù)所述控制單元100的指令將兩者輸送到所述檢查清洗平臺10上的任意位置。具體的,所述輸送機構(gòu)20可以是機械手或是龍門架結(jié)構(gòu)。

進一步的,在一個具體實施方式中,請參閱圖2所示,所述輸送機構(gòu)為龍門架22,其設(shè)置在所述檢查清洗平臺10的上方。所述激光源30設(shè)置在所述檢查清洗平臺10的邊角處,所述激光接收器40設(shè)置在所述檢查清洗平臺10的四周。所述異物清除單元50和拍照單元60設(shè)置在所述龍門架22上,并可通過所述龍門架22輸送至所述檢查清洗平臺10臺面任意位置的上方。

請參閱圖3所示,所述異物清除單元50包括本體52,所述本體52上設(shè)置有氣槍54和帶靜電發(fā)生器的吸附毛刷56。其中所述氣槍54具備真空吹氣和吸氣功能,其與一集塵單元58連接,其中所述氣槍54吸附的異物收集在所述集塵單元58內(nèi)。其中所述集塵單元58可以是設(shè)置在所述本體52上,但不限于。

使用時,本發(fā)明涉及的基板上附著異物的檢查及去除裝置,可以是設(shè)置在玻璃基板水洗后端風(fēng)刀(air knife)傳送帶上,干燥后的玻璃基板在進入涂布機涂布之前,首先會置于其檢查和清洗平臺10上,由其對清洗干燥后的所述玻璃基板表面進行一次異物檢查。但在不同實施方式中,其并不限于對玻璃基板上異物的清除,其也可適用于其他類型基板上的異物清除。

其中,設(shè)置在所述檢查和清洗平臺10邊角處的所述激光源30,會對所述玻璃基板表面進行整個平面的同強度的發(fā)射光散射,而設(shè)置在所述檢查和清洗平臺10四周的激光接收器40,會對入射光強度進行檢測,當(dāng)有異物附著在所述玻璃基板表面時,其會對入射光產(chǎn)生折射,這時所述激光接收器40接收到的入射光強度就會發(fā)生相應(yīng)的變化,所述激光接收器40會將數(shù)據(jù)發(fā)送給所述控制單元100,所述控制單元100會對異物的形狀及大小進行模擬判定,并會確定該異物在所述玻璃基板上的位置坐標(biāo)。

所述控制單元100進而會控制所述龍門架22,由其將所述拍照單元60移動到該異物的坐標(biāo)位置對異物進行精確的抓拍,保存其微觀清晰的形貌照片,利于后期改善分析。在確定好異物的坐標(biāo)和形貌大小后,所述異物清除單元50會對異物進行清除,其首先通過所述氣槍54對異物進行吸氣清掃,以將所述玻璃基板上附著的異物吸入到所述集塵單元58中。而對于通過真空吸附不能去除的粘附型異物,則通過所述吸附毛刷56進行清掃,通過所述毛刷56的靜電吸附和清掃進行異物的去除。每次清掃完成后,還可進行再次檢測確認(rèn),以保證異物能真實有效地去除。

進一步的,本發(fā)明的又一個實施方式提供了一種基板上附著異物的檢查及去除方法,其包括以下步驟。將待檢查的基板輸送到一檢查清洗平臺上;使用一激光源對所述基板表面進行整個平面的同強度的發(fā)射光散射,與其對應(yīng)的激光接收器會對所述激光源發(fā)出的入射光強度進行檢測,當(dāng)所述基板表面附有異物時,所述激光接收器接收到的入射光強度就會發(fā)生相應(yīng)的變化;根據(jù)所述激光接收器接收的入射光強度變化數(shù)據(jù)確定所述異物在所述基板上的位置坐標(biāo);輸送一異物清除單元到所述異物的位置坐標(biāo),并對其進行異物清除操作。

其中,以上方法中涉及使用的功能組件以及其相互間的配和方式,可參照上述揭示的所述檢查及去除裝置中涉及的功能組件,為避免不必要的重復(fù),此處不再贅述。

本發(fā)明涉及的一種基板上附著異物的檢查及去除裝置及其方法,其中所述裝置能夠直接與清洗機搭配使用,置于清洗機的后端,對清洗機風(fēng)刀(air knife)干燥后的玻璃基板進行異物(Particle)的檢查和去除,從而改善基板涂布前膜下異物的發(fā)生率,進而提升了產(chǎn)線的修補的效率及產(chǎn)品良率,在一定程度上降低了生產(chǎn)成本。

本發(fā)明的技術(shù)范圍不僅僅局限于上述說明中的內(nèi)容,本領(lǐng)域技術(shù)人員可以在不脫離本發(fā)明技術(shù)思想的前提下,對上述實施例進行多種變形和修改,而這些變形和修改均應(yīng)當(dāng)屬于本發(fā)明的范圍內(nèi)。

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