本申請涉及一種光刻機，特別是涉及一種實時測量紫外光強度的硅片光刻機，可以應(yīng)用于微流控芯片模具制作。

背景技術(shù)：

光刻工藝(photoetching)是微流控芯片模具制作的重要過程，一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序，其中對準(zhǔn)曝光工序需要用光刻機，光刻機/紫外曝光機(Mask Aligner)又名掩模對準(zhǔn)曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等。

光刻機使用過程中紫外光源的強度會逐漸輻射衰減，會對曝光成功率有較大的影響，現(xiàn)在的光刻機一般通過外置的設(shè)備進(jìn)行測試，且設(shè)備價格昂貴，且不能及時更換光源。

光刻機操作過程包括開機準(zhǔn)備、點亮汞燈、開啟控制電源、上掩膜、對準(zhǔn)曝光、關(guān)機，在曝光時，紫外線會對人體產(chǎn)生較大的傷害，因此設(shè)置防護(hù)措施是必要的。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本實用新型的目的在于提供一種實時測量紫外光強度的硅片光刻機，以實時測量紫外光的強度，提高曝光成功率，并設(shè)置保護(hù)系統(tǒng)，避免紫外光對人體和環(huán)境造成傷害。

為實現(xiàn)上述目的，本實用新型提供如下技術(shù)方案：

本申請實施例公開了一種實時測量紫外光強度的硅片光刻機，包括紫外光遮罩體，該紫外光遮罩體具有一光刻腔體，所述光刻腔體內(nèi)上下依次設(shè)置有照明系統(tǒng)、掩膜臺系統(tǒng)和自動對準(zhǔn)系統(tǒng)，所述照明系統(tǒng)包括紫外光源和紫外輻射照計模塊，所述紫外光遮罩體上設(shè)置有操作面板，所述紫外輻射照計模塊連接于所述照明系統(tǒng)，該操作面板包括紫外線強度顯示窗口，所述紫外光遮罩體開設(shè)有樣品取置窗口，該取置窗口遮蓋有紫外光隔離門。

優(yōu)選的，在上述的實時測量紫外光強度的硅片光刻機中，所述紫外光隔離門的一端轉(zhuǎn)動連接于所述紫外光遮罩體。

優(yōu)選的，在上述的實時測量紫外光強度的硅片光刻機中，所述紫外輻射照計模塊通過掛鉤裝置設(shè)置于紫外光源下方。

優(yōu)選的，在上述的實時測量紫外光強度的硅片光刻機中，所述紫外輻射照計模塊的探頭傳感器窗口指向所述紫外光源。

優(yōu)選的，在上述的實時測量紫外光強度的硅片光刻機中，所述紫外輻射照計模塊測量光譜響應(yīng)滿足：中心點254nm，帶寬230nm～280nm，量程0～8000uW/cm²，測量精度：±10％。

優(yōu)選的，在上述的實時測量紫外光強度的硅片光刻機中，所述操作面板輸入方式采用按鍵或觸摸屏。

優(yōu)選的，在上述的實時測量紫外光強度的硅片光刻機中，所述操作面板至少包括曝光、上升、曝光時間的參數(shù)設(shè)置模塊。

優(yōu)選的，在上述的實時測量紫外光強度的硅片光刻機中，所述紫外光遮罩體設(shè)置于一減震工作臺上，該減震工作臺的底部設(shè)置有多個彈性腳墊。

優(yōu)選的，在上述的實時測量紫外光強度的硅片光刻機中，所述減震工作臺上設(shè)置有總電源開關(guān)和汞燈光源開關(guān)。

優(yōu)選的，在上述的實時測量紫外光強度的硅片光刻機中，所述掩膜臺系統(tǒng)連接真空泵。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型的優(yōu)點在于：本新型在光源附近設(shè)置紫外輻射照計模塊，用于實時測量和查看紫外線的強度，比現(xiàn)有的光刻機增加了光強參數(shù)，具有及時更換紫外燈，增加了曝光的成功率的優(yōu)勢，另外，本新型的光刻機設(shè)置了保護(hù)系統(tǒng)，避免了曝光過程中紫外光對人體及環(huán)境產(chǎn)生傷害，具有人性化、綠色的優(yōu)點。

附圖說明

為了更清楚地說明本申請實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本申請中記載的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1所示為本實用新型具體實施例中光刻機的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2所示為本實用新型具體實施例中操作界面示意圖。

具體實施方式

下面將結(jié)合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術(shù)方案進(jìn)行詳細(xì)的描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒緦嵱眯滦椭械膶嵤├绢I(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動的前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護(hù)的范圍。

結(jié)合圖1和圖2所示，實時測量紫外光強度的硅片光刻機，包括紫外光遮罩體1，該紫外光遮罩體1具有一光刻腔體2，光刻腔體2內(nèi)上下依次設(shè)置有照明系統(tǒng)、掩膜臺系統(tǒng)3和自動對準(zhǔn)系統(tǒng)4，照明系統(tǒng)包括紫外光源5和紫外輻射照計模塊6，紫外光遮罩體1上設(shè)置有操作面板7，紫外輻射照計模塊6連接于照明系統(tǒng)，該操作面板7包括紫外線強度顯示窗口，紫外光遮罩體1開設(shè)有樣品取置窗口，該取置窗口遮蓋有紫外光隔離門8。

進(jìn)一步地，紫外光隔離門8的一端轉(zhuǎn)動連接于紫外光遮罩體1。

該技術(shù)方案中，在紫外光源5(UV)附近設(shè)置紫外輻射照計模塊6，用于實時測量和查看紫外線的強度并通過控制面板顯示，比現(xiàn)有的光刻機增加了光強參數(shù)，具有及時更換紫外燈，增加了曝光的成功率的優(yōu)勢，另外，光刻機設(shè)置了紫外光遮罩體1進(jìn)行保護(hù)，避免了曝光過程中紫外光對人體及環(huán)境產(chǎn)生傷害，具有人性化、綠色的優(yōu)點。

在一些實施例中，保護(hù)系統(tǒng)的隔離門采用不透明材料，厚度大于1cm。

進(jìn)一步地，紫外輻射照計模塊6通過掛鉤裝置設(shè)置于紫外光源5下方。

該技術(shù)方案中，掛鉤裝置可以包括掛鉤底座、螺釘，紫外輻射照計模塊6通過掛鉤裝置連接于紫外光源5上。

進(jìn)一步地，紫外輻射照計模塊6的探頭傳感器窗口指向紫外光源5。

進(jìn)一步地，紫外輻射照計模塊6測量光譜響應(yīng)滿足：中心點254nm，帶寬230nm～280nm，量程0～8000uW/cm²，測量精度：±10％。

該技術(shù)方案中，紫外輻射照計模塊6用于測量單位面積的紫外線輻射能功率，即紫外線強度；紫外輻射照計模塊6帶補正濾光鏡的專用UV探頭，消除UVA和UVB的影響。

在一些實施例中，紫外輻射模塊可實現(xiàn)實時值的數(shù)據(jù)記憶和查看。

優(yōu)選的，操作面板7輸入方式采用按鍵或觸摸屏。

進(jìn)一步地，操作面板7至少包括曝光、上升、曝光時間的參數(shù)設(shè)置模塊。

進(jìn)一步地，紫外光遮罩體1設(shè)置于一減震工作臺9上，該減震工作臺的底部設(shè)置有多個彈性腳墊，優(yōu)選的，減震工作臺的四個支腳分別設(shè)置有一個腳墊。

該技術(shù)方案中，通過減震工作臺避免操作過程中真空泵震動對硅片曝光的影響。

進(jìn)一步地，減震工作臺9上設(shè)置有總電源開關(guān)10和汞燈光源開關(guān)11，汞燈發(fā)射全波長的光，是整個系統(tǒng)的光源。

進(jìn)一步地，掩膜臺系統(tǒng)3連接真空泵。用于硅片與掩膜的貼合。

光刻機操作包括以下過程：

(1)、打開光刻機儀器總電源開關(guān)10，照明系統(tǒng)開始工作，在硅片曝光前，打開紫外輻射照計模塊6，測試紫外光的強度，示數(shù)顯示在操作面板上，若強度不滿足需求，需進(jìn)行更換，若符合要求，關(guān)閉紫外燈，進(jìn)行后續(xù)操作；

(2)、將掩膜、硅片放置在掩膜臺系統(tǒng)中，經(jīng)過自動對準(zhǔn)系統(tǒng)實現(xiàn)掩膜與硅片的對準(zhǔn)；

(3)、關(guān)閉紫外光隔離門8，設(shè)置操作界面參數(shù)，包括曝光時間、上升等參數(shù)，設(shè)置完成后，點擊曝光，完成光刻過程；

(4)、小心取出硅片與掩膜，關(guān)閉光刻機電源。

需要說明的是，在本文中，諸如第一和第二等之類的關(guān)系術(shù)語僅僅用來將一個實體或者操作與另一個實體或操作區(qū)分開來，而不一定要求或者暗示這些實體或操作之間存在任何這種實際的關(guān)系或者順序。而且，術(shù)語“包括”、“包含”或者其任何其他變體意在涵蓋非排他性的包含，從而使得包括一系列要素的過程、方法、物品或者設(shè)備不僅包括那些要素，而且還包括沒有明確列出的其他要素，或者是還包括為這種過程、方法、物品或者設(shè)備所固有的要素。在沒有更多限制的情況下，由語句“包括一個……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的過程、方法、物品或者設(shè)備中還存在另外的相同要素。

以上所述僅是本申請的具體實施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本申請原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和潤飾，這些改進(jìn)和潤飾也應(yīng)視為本申請的保護(hù)范圍。