1.一種實(shí)時(shí)測(cè)量紫外光強(qiáng)度的硅片光刻機(jī)，其特征在于，包括紫外光遮罩體，該紫外光遮罩體具有一光刻腔體，所述光刻腔體內(nèi)上下依次設(shè)置有照明系統(tǒng)、掩膜臺(tái)系統(tǒng)和自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，所述照明系統(tǒng)包括紫外光源和紫外輻射照計(jì)模塊，所述紫外光遮罩體上設(shè)置有操作面板，所述紫外輻射照計(jì)模塊連接于所述照明系統(tǒng)，該操作面板包括紫外線強(qiáng)度顯示窗口，所述紫外光遮罩體開設(shè)有樣品取置窗口，該取置窗口遮蓋有紫外光隔離門。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的實(shí)時(shí)測(cè)量紫外光強(qiáng)度的硅片光刻機(jī)，其特征在于：所述紫外光隔離門的一端轉(zhuǎn)動(dòng)連接于所述紫外光遮罩體。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的實(shí)時(shí)測(cè)量紫外光強(qiáng)度的硅片光刻機(jī)，其特征在于：所述紫外輻射照計(jì)模塊通過掛鉤裝置設(shè)置于紫外光源下方。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的實(shí)時(shí)測(cè)量紫外光強(qiáng)度的硅片光刻機(jī)，其特征在于：所述紫外輻射照計(jì)模塊的探頭傳感器窗口指向所述紫外光源。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的實(shí)時(shí)測(cè)量紫外光強(qiáng)度的硅片光刻機(jī)，其特征在于：所述紫外輻射照計(jì)模塊測(cè)量光譜響應(yīng)滿足：中心點(diǎn)254nm，帶寬230nm～280nm，量程0～8000uW/cm2，測(cè)量精度：±10％。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的實(shí)時(shí)測(cè)量紫外光強(qiáng)度的硅片光刻機(jī)，其特征在于：所述操作面板輸入方式采用按鍵或觸摸屏。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的實(shí)時(shí)測(cè)量紫外光強(qiáng)度的硅片光刻機(jī)，其特征在于：所述操作面板至少包括曝光、上升、曝光時(shí)間的參數(shù)設(shè)置模塊。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的實(shí)時(shí)測(cè)量紫外光強(qiáng)度的硅片光刻機(jī)，其特征在于：所述紫外光遮罩體設(shè)置于一減震工作臺(tái)上，該減震工作臺(tái)的底部設(shè)置有多個(gè)彈性腳墊。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的實(shí)時(shí)測(cè)量紫外光強(qiáng)度的硅片光刻機(jī)，其特征在于：所述減震工作臺(tái)上設(shè)置有總電源開關(guān)和汞燈光源開關(guān)。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的實(shí)時(shí)測(cè)量紫外光強(qiáng)度的硅片光刻機(jī)，其特征在于：所述掩膜臺(tái)系統(tǒng)連接真空泵。