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一種半導(dǎo)體靶材用高純鎳錠的制備工藝的制作方法

文檔序號(hào):11126452閱讀:來源:國知局
技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明在于提供一種雜質(zhì)元素含量低,高純鎳錠的制備工藝,即一種半導(dǎo)體靶材用高純鎳錠的制備工藝,主要步驟是備料、裝爐、多次熔煉,即采用電子束爐熔煉,熔煉在維持爐膛真空度≤1.0×10?2pa時(shí)開始升溫熔煉,熔煉溫度控制在≥2130℃;控制熔煉速度≤20.1kg/h,充分融化電解鎳板;熔煉后形成的鎳錠在爐膛里冷卻6h~12h,出爐。本發(fā)明根據(jù)物料質(zhì)量的多少來選擇熔煉速度、溫度和時(shí)間等參數(shù),在熔煉過程操控電子束的精準(zhǔn)分布,能最大效能控制金屬的純度和雜質(zhì)的揮發(fā)去除;高純金屬鎳質(zhì)量無氣孔,無夾雜,適合于靶材后續(xù)的利用加工。

技術(shù)研發(fā)人員:李明陽;韓偉東;劉軍
受保護(hù)的技術(shù)使用者:寶雞一眾有色金屬材料有限公司
文檔號(hào)碼:201610812462
技術(shù)研發(fā)日:2016.08.27
技術(shù)公布日:2017.02.15

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