技術總結
本發(fā)明公開了一種波長可調(diào)的熒光涂層及其制備方法和應用，采用了磁控濺射法通過控制硅靶和硼靶的功率來調(diào)節(jié)熒光涂層的富硅量和摻硼量。摻硼量的變化在涂層中引入大量發(fā)光中心的同時，不同缺陷之間的比例也發(fā)生變化，從而實現(xiàn)熒光涂層的最大發(fā)射熒光波長在很大范圍內(nèi)變化，即可以通過調(diào)節(jié)硼含量可以得到理想的發(fā)光色彩。本發(fā)明制備工藝簡單，工業(yè)兼容性好，在熒光粉以及光電子器件領域有廣闊的應用前景。

技術研發(fā)人員：李東升;劉國華;楊德仁
受保護的技術使用者：浙江大學
文檔號碼：201611040248
技術研發(fā)日：2016.11.21
技術公布日：2017.05.31