而，在上部50和下部51的內(nèi)壁51b之間形成圓周開口或間隙49a。在其中環(huán)49由單個(gè)部件而不是多個(gè)部件的組件制成的變型中，間隙49a因而形成在所述部件中。
[0068]連接壁51c布置在外壁51a的高度的三分之一至三分之二之間，例如，在這里基本布置在中間向上。在所示狀態(tài)下，外壁5Ia和內(nèi)壁5Ib基本豎直，而連接壁51c基本上水平。當(dāng)環(huán)49被布置在本體2中時(shí)，內(nèi)壁51b形成了側(cè)壁19的一部分。
[0069]下環(huán)狀通道54形成在內(nèi)壁51a、外壁51b、連接壁51c和本體2的環(huán)狀表面8a之間。上環(huán)狀通道52形成在外壁51a、內(nèi)壁51b、連接壁51c和上部50的徑向外部下表面50a之間，參見圖5。連接壁51c被多個(gè)連通孔53貫穿。這些孔53允許上通道52與下通道54連通。下通道54與形成在本體8中的栗送通道59和反應(yīng)器I的氣體排放出口連通?？?3和栗送通道59是反應(yīng)器I的旋轉(zhuǎn)對應(yīng)性的例外之處。
[0070]從上游到下游包括上通道52、孔53、內(nèi)通道54和栗送通道59的組件形成了氣體排放通道100。間隙49a既屬于反應(yīng)腔室4，又屬于氣體排放通道100。間隙49a因而形成了腔室4的氣體出口和氣體排放通道100的氣體入口。
[0071 ] 間隙49a形成氣體排放環(huán)49中的圍繞工作空間60開口的圓周空間。間隙49a允許內(nèi)壁51b的內(nèi)側(cè)的腔室4和氣體排放通道100之間的流體連通。形成在側(cè)壁19中的圓周開口 49a在通路107到上通道52之間形成了流體連接，以將氣體從反應(yīng)器腔室4排向反應(yīng)器I的外部。
[0072]內(nèi)壁51b的上表面包括朝向上部50突出的墊51d，參見圖3。墊51d的高度基本等于間隙49a的高度。墊51d與上部50的徑向內(nèi)部下表面50b接觸。在組裝狀態(tài)下，下部51的墊51d形成了用于環(huán)49的上部50的支撐部分。墊51d保持上部50和下部51彼此形成一距離，以形成間隙49a。這些墊51d圍繞圓周規(guī)則地分布并且在相對于環(huán)49的整個(gè)圓周較小的角部分上形成了間隙49a的中斷部。墊51d形成了環(huán)49的旋轉(zhuǎn)對稱性的例外之處。盡管間隙49a通過一系列開口部分和墊51d形成，但是從氣體循環(huán)角度來看，認(rèn)為間隙49a是連續(xù)的。
[0073]位于環(huán)49的整個(gè)圓周或幾乎整個(gè)圓周上的間隙49a的環(huán)狀開口允許在所預(yù)想的流速范圍內(nèi)以均勻抽吸氣體和層狀流動(dòng)的方式進(jìn)行排放。例如，在200托到300托之間的壓力下采用小于1slm的流速，或者在標(biāo)準(zhǔn)溫度條件(約20°C )下，在266至400hPa時(shí)采用每分鐘10升的流速。
[0074]反應(yīng)氣體從通道45出來，并通過布置在腔室4的工作空間60的周邊并在通路107上方關(guān)閉的間隙49a排出。這可以調(diào)整腔室4中的流體流動(dòng)線路。操作時(shí)，反應(yīng)氣體流在腔室4的工作空間60中從通道45循環(huán)到間隙49a。環(huán)49的上部50和下部51之間的間隙49a具有0.5毫米到2毫米的最大高度。
[0075]內(nèi)壁51b(該內(nèi)部51b的內(nèi)表面部分地限定腔室4)形成側(cè)壁19的一部分，在這里限定通路107。在這里，內(nèi)壁51b在內(nèi)側(cè)將上圓筒狀表面51e支承在連接壁51c上方，而在圓筒狀表面51e的延伸方向上將下截錐形表面51f支承在連接壁51c下面并朝向腔室4的中心取向。在一個(gè)變型中，環(huán)49的內(nèi)表面可以包括下截錐形表面和上截錐形表面。下截錐形表面的傾角大于上截錐形表面的傾角。
[0076]反應(yīng)器I包括附加部件101。該附加部件101成直徑沿著旋轉(zhuǎn)軸線變化的旋轉(zhuǎn)部件或管狀部件的大體形狀。
[0077]在安裝狀態(tài)下，在腔室4中從底部到頂部連續(xù)地，附加部件101包括圓筒狀部分101a、臺肩部分1lb和截錐形部分101c。該附加部件具有第一壁，該第一壁包括部分101a、1lbUOlc的被布置成面對反應(yīng)腔室的下壁15和側(cè)壁的底部19b的相應(yīng)表面111、112、113。附加部件101的所述第一壁的形狀尺寸與腔室4的下部和本體2的開口 2a的形狀和尺寸對應(yīng)。附加部件101部分地布置在腔室4中，部分地布置在開口 2a中，位于基板支撐件5下面并距氣體排放環(huán)49 一定距離。在工作位置，板7位于距離附加部件101 —定距離處。附加部件101的位置在這里在工作位置時(shí)與在加載位置時(shí)相同。
[0078]圓筒狀部分1la的外徑嚴(yán)格小于本體2的開口 2a的孔的內(nèi)徑，使得該圓筒狀部分1la能夠插入到開口 2a內(nèi)，而不會(huì)接觸開口 2a的表面。圓筒狀部分1la在開口 2a中對準(zhǔn)并居中。支撐件5的基部6布置在由圓筒狀部分1la形成的圓筒內(nèi)。在圓筒狀部分1la的外表面和開口 2a的孔之間保留了環(huán)狀空間。圓筒狀部分1la通過其下端緊固至腔室4的其余部分(未在圖中示出)。圓筒狀部分1la在這里是增加至反應(yīng)腔室4的部件的緊固部分。
[0079]臺肩部分1lb成朝向圓筒狀部分1la的外部基本垂直地延伸的冠狀形式。臺肩部分1lb被連接成與圓筒狀部分1la的頂端形成單個(gè)部件。臺肩部分1lb形成了厚度基本等于圓筒狀部分1la的壁的厚度的平面徑向壁。臺肩部分1lb的內(nèi)徑對應(yīng)于圓筒狀部分1la的直徑。臺肩部分1lb的外徑嚴(yán)格小于腔室4的下壁15的直徑。臺肩部分1lb在腔室4的下壁15上方基本與之平行地布置。臺肩部分1lb不與下壁15接觸。在腔室4的下壁15和臺肩部分1lb中的第一壁的表面112之間保留有空間。
[0080]截錐形部分1lc從臺肩部分1lb的周邊從旋轉(zhuǎn)軸線向上延伸開。截錐形部分1lc連接至臺肩部分101b。截錐形部分1lc的厚度基本等于圓筒狀部分1la和臺肩部分1lb的厚度。圓筒形部分1la的錐度基本等于側(cè)壁19的底部19b的錐度。底部19的至少一部分面對截錐形部分1lc中的第一壁的表面113，該部分形成了側(cè)壁19的第二部分。截錐形部分1lc的外半徑隨著豎直向上而均勻地增加，使得截錐形部分1lc的壁在剖視圖中是筆直的，如圖1和圖2所示。截錐形部分1lc的每個(gè)部分的外半徑都嚴(yán)格小于面對它的側(cè)壁19的第二部分的截面的內(nèi)徑。截錐形部分1lc相對于腔室4的側(cè)壁19同心地布置。該截錐形部分1lc不與側(cè)壁19接觸。在腔室4的側(cè)壁19和截錐形部分1lc中的第一壁的表面113之間保留有空間。截錐形部分1lc在豎直方向上延伸優(yōu)選大于10毫米，例如這里為15毫米的高度。截錐形部分1lc的位置和高度是這樣的，即:使得附加部件101不會(huì)阻擋板7下降而到達(dá)加載位置。
[0081]在這里描述的實(shí)施例中，支撐件5和附加部件101以如下方式相互成形和布置，即:支撐件5能夠在腔室4中平移地移動(dòng)到其中例如在加載位置其由附加部件101圍繞的位置。周邊表面5b的直徑小于截錐形部分1lc的至少一部分的內(nèi)部直徑。附加部分101具有與第一壁相反并朝向支撐件5定向的第二壁，所述第二壁具有凹入形狀，該凹入形狀在支撐件5的加載位置形成了周邊表面5b的殼體。
[0082]附加部件101布置在腔室4的底部中，即布置在由表面111、112、113形成的附加部件101的第一壁與腔室4的形成通道103的環(huán)狀形狀的部分的表面之間的環(huán)狀空間中。限定在圓筒狀部分1la和孔2a之間的第一區(qū)段103a基本為圓筒狀形狀。限定在臺肩部分1lb和下壁15之間的第二區(qū)段103b基本為冠狀形狀。限定在截錐形部分1lc和側(cè)壁19的第二部分之間的第三區(qū)段103基本為截錐形形狀。附加部件101的形狀和尺寸是腔室的構(gòu)造的函數(shù)，使得通道103具有可能的最均勻截面。附加部件101的第一壁的形式和尺寸是腔室4的函數(shù)，使得促進(jìn)凈化氣體流200在通道103盡可能形成層狀流動(dòng)。
[0083]具體而言，為了促進(jìn)這種層狀流動(dòng)，將反應(yīng)腔室的側(cè)壁19和附加部件101的第一壁布置成在第三區(qū)段103c中平行，一直到腔室4中的管道的嘴部106。關(guān)于這一點(diǎn)，反應(yīng)腔室的側(cè)壁19和附加部件101的第一壁在大于或等于Icm直到嘴部106的長度上平行。有利地，通道的其中反應(yīng)腔室的側(cè)壁9和附加部件101的第一壁平行的部分的長度大小被設(shè)置成噴射氣體流動(dòng)速度在0.35m/s和0.55m/s之間的層狀流動(dòng)的凈化氣體。
[0084]附加部件101的徑向外表面形成了引導(dǎo)表面111、112、113。通道103遵循引導(dǎo)表面111、112、113的形狀和腔室4的底部的形狀。通道103因而具有根據(jù)界定該通道103的附加部件101的截面和腔室4的截面變化的直徑。換言之，通道103的直徑大于界定該通道103的附加部件101的截面的直徑并且小于界定該通道103的腔室4的截面的直徑。側(cè)壁19和附加構(gòu)件101的第一壁一起界定通道103，特別是界定第三部分103c。
[0085]截錐形部分1lc的自由端和側(cè)壁19的最接近該自由端的部分限定了嘴部106。換言之，通道103終止于嘴部106。通道103通過嘴部106通向腔室4。
[0086]凈化氣體噴射器105從上游到下游包括反應(yīng)器I的第二氣體入口 104、通道103和嘴部106。通道103通過嘴部106通向反應(yīng)腔室4。在腔室4和開口 2a的底板上形成了第二氣體入口或源104，以便形成用于反應(yīng)器I的凈化氣體源。入口 104使得可從腔室4的底板噴射例如利用氮(N)或氬(Ar)的凈化氣體。第二入口